一种CMP抛光设备用抛光载物台制造技术

本实用新型专利技术涉及一种CMP抛光设备用抛光载物台，包括载物台，所述载物台的上表面设置有第一吸盘，第一吸盘的外部环绕设置有第二吸盘，所述第二吸盘的外部环绕设置有第三吸盘，所述第一吸盘、第二吸盘和第三吸盘的下端均固定载物台的上表面，所述第一吸盘、第二吸盘和第三吸盘的内壁处设置有吸盘壁空腔；该CMP抛光设备用抛光载物台，通过第一吸盘、第二吸盘、第三吸盘分别通过连管与风机连接，增加吸盘与CMP板连接的吸附点，避免单个吸盘与CMP板之间出现接触不良，造成的CMP板固定松动，提高CMP板安装的稳定性，同时第一吸盘、第二吸盘、第三吸盘的上端均采用V字形吸环，增加吸环与CMP板接触的面积，提高CMP板固定的牢靠性。

A Polishing Carrier Table for CMP Polishing Equipment

The utility model relates to a polishing carrier table for CMP polishing equipment, which comprises a carrier table. The upper surface of the carrier table is provided with a first suction cup, the outer circumference of the first suction cup is provided with a second suction cup, the outer circumference of the second suction cup is provided with a third suction cup, and the upper surface of the carrier table is fixed at the lower end of the first suction cup, the second suction cup and the third suction cup. The inner wall of the second suction cup and the third suction cup is provided with a suction cup wall cavity; the CMP polishing equipment uses a polishing carrier platform, which connects the first suction cup, the second suction cup and the third suction cup with the fan through connecting pipes respectively, so as to increase the adsorption points between the suction cup and the CMP plate, avoid the bad contact between the single suction cup and the CMP plate, resulting in the fixed loosening of the CMP plate, and improve the stability of the installation of the CMP plate. At the same time, V-shaped suction ring is used at the upper end of the first suction cup, the second suction cup and the third suction cup to increase the contact area between the suction ring and CMP plate and improve the reliability of CMP plate fixation.

【技术实现步骤摘要】
一种CMP抛光设备用抛光载物台
本技术涉及抛光载物台
，具体为一种CMP抛光设备用抛光载物台。
技术介绍
CMP抛光机是抛光机的一种，主要用于平面抛光，区别于圆管抛光、凹凸面抛光等，针对可进行平面抛光的工件产品。又可分为单面抛光、双面抛光，对CMP进行祛除工件表面的划痕，斑点，塌边现象，使工件表面光亮，平滑，成镜面效果甚至达到某一精确的粗超度值的机器。现有的CMP抛光设备的载物台拆装不方便，CMP板与载物台放置稳定性差，存在工作效率低的问题。
技术实现思路
针对现有技术的不足，本技术提供了一种CMP抛光设备用抛光载物台，具备CMP板安装和拆卸效率高，固定方式稳定等优点，解决了CMP抛光机在使用时，CMP板与载物台放置稳定性差，容易导致CMP板抛光效率差，同时提高CMP抛光的时间，降低CMP板抛光平滑度，同时CMP板固定后拆卸耗费时间，提高CMP板抛光的工作强度的问题。为实现上述CMP抛光机在使用时，CMP板与载物台放置稳定性差，容易导致CMP板抛光效率差，同时提高CMP抛光的时间，降低CMP板抛光平滑度，同时CMP板固定后拆卸耗费时间，提高CMP板抛光的工作强度的目的，本技术提供如下技术方案：一种CMP抛光设备用抛光载物台，包括载物台，所述载物台的上表面设置有第一吸盘，第一吸盘的外部环绕设置有第二吸盘，所述第二吸盘的外部环绕设置有第三吸盘，所述第一吸盘、第二吸盘和第三吸盘的下端均固定载物台的上表面，所述第一吸盘、第二吸盘和第三吸盘的内壁处设置有吸盘壁空腔，所述第一吸盘、第二吸盘和第三吸盘的上端表面设置有吸环，所述吸环通过粘合分别固定在第一吸盘、第二吸盘和第三吸盘的上端表面，所述第一吸盘、第二吸盘和第三吸盘外侧均设置有支撑外套环，所述支撑外套环的下端通过焊接固定在载物台的上表面。优选的，所述第一吸盘、第二吸盘和第三吸盘的形状结构相同，所述第二吸盘设置有六个，六个所述第二吸盘环绕在第一吸盘的外部，所述第三吸盘设置有十二个，十二个所述第三吸盘环绕在第二吸盘的外部，所述吸环为环形结构，且所述吸环的截面为V字形结构。优选的，所述支撑外套环的内部设置有支撑内套环，所述支撑外套环和支撑内套环均为环形结构，所述支撑外套环上端的内表面和支撑内套环下端的外表面均设置有凸起，所述支撑外套环和支撑内套环的内部均设置有压缩弹簧，所述压缩弹簧的上端通过焊接固定在支撑内套环的内表面，所述压缩弹簧的下端通过焊接固定在载物台的上表面，所述支撑内套环的下端通过压缩弹簧和凸起卡合在支撑外套环上端的内部。优选的，所述支撑内套环的上端表面设置有橡胶垫，所述橡胶垫通过粘合固定在支撑内套环的上端表面，所述橡胶垫的截面为U形结构，所述橡胶垫的内部设置有缓冲板，所述橡胶垫和缓冲板为一体式结构。优选的，所述载物台的内部设置有载物台内腔，所述载物台内腔内部的下表面设置有风机，所述风机通过螺栓固定在载物台内腔内部的下表面，所述风机设置有三个。优选的，三个所述风机的一端依次连接设置有第一连管、第二连管和第三连管，所述第一连管、第二连管和第三连管的下端通过螺栓分别与风机的上端旋合连接，所述第一连管的上端贯穿载物台的表面并通过螺栓与第一吸盘进行旋合连接，所述第二连管的上端贯穿载物台的表面并通过螺栓旋合与第二吸盘连接，所述第三连管的上端贯穿载物台的表面并通过螺栓旋合与第三吸盘连接。优选的，所述第二连管和第三连管的中部均为环形圆管，所述第二连管的上端设置有六个支管，所述第三连管的上端设置有十二个支管。与现有技术相比，本技术提供了一种CMP抛光设备用抛光载物台，具备以下有益效果：1、该CMP抛光设备用抛光载物台，通过第一吸盘、第二吸盘、第三吸盘分别通过连管与风机连接，增加吸盘与CMP板连接的吸附点，避免单个吸盘与CMP板之间出现接触不良，造成的CMP板固定松动，提高CMP板安装的稳定性，同时第一吸盘、第二吸盘、第三吸盘的上端均采用V字形吸环，增加吸环与CMP板接触的面积，提高CMP板固定的牢靠性，同时第一吸盘、第二吸盘、第三吸盘内壁处采用吸盘壁空腔，使吸盘发生形变后降低高度。2、该CMP抛光设备用抛光载物台，通过支撑外套环、支撑内套环、压缩弹簧和橡胶垫对吸附后的CMP板进行支撑，增加CMP板支撑的接触面积，提高CMP板打磨的安全性，同时压缩弹簧增加支撑内套环在支撑外套环移动的稳定性，提高CMP板打磨的稳固性，提高CMP板打磨的合格率。附图说明图1为本技术载物台俯视图；图2为本技术载物台剖面图。图3为本技术第一吸盘结构示意图；图4为本技术支撑外套环和支撑内套环截面图。图中：1、载物台；2、第一吸盘；3、第二吸盘；4、第三吸盘；5、吸环；6、支撑外套环；7、支撑内套环；8、压缩弹簧；9、橡胶垫；10、缓冲板；11、吸盘壁空腔；12、载物台内腔；13、第一连管；14、第二连管；15、第三连管；16、风机。具体实施方式结合图1-4，本技术提供一种技术方案：一种CMP抛光设备用抛光载物台，包括载物台1，载物台1的上表面设置有第一吸盘2，第一吸盘2的外部环绕设置有第二吸盘3，第二吸盘3的外部环绕设置有第三吸盘4，第一吸盘2、第二吸盘3和第三吸盘4的下端均固定载物台1的上表面，第一吸盘2、第二吸盘3和第三吸盘4的内壁处设置有吸盘壁空腔11，第一吸盘2、第二吸盘3和第三吸盘4的上端表面设置有吸环5，吸环5通过粘合分别固定在第一吸盘2、第二吸盘3和第三吸盘4的上端表面，第一吸盘2、第二吸盘3和第三吸盘4外侧均设置有支撑外套环6，支撑外套环6的下端通过焊接固定在载物台1的上表面。进一步的，第一吸盘2、第二吸盘3和第三吸盘4的形状结构相同，第二吸盘3设置有六个，六个第二吸盘3环绕在第一吸盘2的外部，第三吸盘4设置有十二个，十二个第三吸盘4环绕在第二吸盘3的外部，吸环5为环形结构，且吸环5的截面为V字形结构，本实施例中，第一吸盘2、第二吸盘3和第三吸盘4依次环绕排布，增加第一吸盘2、第二吸盘3和第三吸盘4排布的紧凑性，截面为V字形结构的吸环5，使CMP板与吸环5接触时，增加吸环5与CMP板接触的面积，进一步的，支撑外套环6的内部设置有支撑内套环7，支撑外套环6和支撑内套环7均为环形结构，支撑外套环6上端的内表面和支撑内套环7下端的外表面均设置有凸起，支撑外套环6和支撑内套环7的内部均设置有压缩弹簧8，压缩弹簧8的上端通过焊接固定在支撑内套环7的内表面，压缩弹簧8的下端通过焊接固定在载物台1的上表面，支撑内套环7的下端通过压缩弹簧8和凸起卡合在支撑外套环6上端的内部，本实施例中，支撑内套环7通过使压缩弹簧8继续压缩在支撑外套环6上端的内部移动，提高支撑内套环7在支撑外套环6上端的内部移动的稳定性，进一步的，支撑内套环7的上端表面设置有橡胶垫9，橡胶垫9通过粘合固定在支撑内套环7的上端表面，橡胶垫9的截面为U形结构，橡胶垫9的内部设置有缓冲板10，橡胶垫9和缓冲板10为一体式结构，本实施例中，橡胶垫9通过粘合固定在支撑内套环7的上端表面，使CMP板与橡胶垫9挤压时，橡胶垫9通过挤压并使缓冲板10形变，增加橡胶垫9弹性形变的强度，增加橡胶垫9与CMP板接触的面积，进一步的，载物台1的内部设置有载物台内腔12，载物台内腔12内部的下表面设置有风本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种CMP抛光设备用抛光载物台，包括载物台(1)，其特征在于：所述载物台(1)的上表面设置有第一吸盘(2)，所述第一吸盘(2)的外部环绕设置有第二吸盘(3)，所述第二吸盘(3)的外部环绕设置有第三吸盘(4)，所述第一吸盘(2)、第二吸盘(3)和第三吸盘(4)的下端均固定载物台(1)的上表面，所述第一吸盘(2)、第二吸盘(3)和第三吸盘(4)的内壁处设置有吸盘壁空腔(11)，所述第一吸盘(2)、第二吸盘(3)和第三吸盘(4)的上端表面设置有吸环(5)，所述吸环(5)通过粘合分别固定在第一吸盘(2)、第二吸盘(3)和第三吸盘(4)的上端表面，所述第一吸盘(2)、第二吸盘(3)和第三吸盘(4)外侧均设置有支撑外套环(6)，所述支撑外套环(6)的下端通过焊接固定在载物台(1)的上表面。

【技术特征摘要】
1.一种CMP抛光设备用抛光载物台，包括载物台(1)，其特征在于：所述载物台(1)的上表面设置有第一吸盘(2)，所述第一吸盘(2)的外部环绕设置有第二吸盘(3)，所述第二吸盘(3)的外部环绕设置有第三吸盘(4)，所述第一吸盘(2)、第二吸盘(3)和第三吸盘(4)的下端均固定载物台(1)的上表面，所述第一吸盘(2)、第二吸盘(3)和第三吸盘(4)的内壁处设置有吸盘壁空腔(11)，所述第一吸盘(2)、第二吸盘(3)和第三吸盘(4)的上端表面设置有吸环(5)，所述吸环(5)通过粘合分别固定在第一吸盘(2)、第二吸盘(3)和第三吸盘(4)的上端表面，所述第一吸盘(2)、第二吸盘(3)和第三吸盘(4)外侧均设置有支撑外套环(6)，所述支撑外套环(6)的下端通过焊接固定在载物台(1)的上表面。2.根据权利要求1所述的一种CMP抛光设备用抛光载物台，其特征在于：所述第一吸盘(2)、第二吸盘(3)和第三吸盘(4)的形状结构相同，所述第二吸盘(3)设置有六个，六个所述第二吸盘(3)环绕在第一吸盘(2)的外部，所述第三吸盘(4)设置有十二个，十二个所述第三吸盘(4)环绕在第二吸盘(3)的外部，所述吸环(5)为环形结构，且所述吸环(5)的截面为V字形结构。3.根据权利要求1所述的一种CMP抛光设备用抛光载物台，其特征在于：所述支撑外套环(6)的内部设置有支撑内套环(7)，所述支撑外套环(6)和支撑内套环(7)均为环形结构，所述支撑外套环(6)上端的内表面和支撑内套环(7)下端的外表面均设置有凸起，所述支撑外套环(6)和支撑内套环(7)的内部均设置有压缩弹簧(8)，所述压缩弹簧(8)的上端通过焊接固定在支撑内套环(7)的内表面，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：方明喜，肖学才，常强，
申请(专利权)人：爱利彼半导体设备中国有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32