The utility model relates to a clamping device for CMP polishing equipment, which comprises a worktable, one side of the upper surface of the worktable is welded with a baffle, one end of the baffle is fixed with a second electric push rod through a bolt, the expansion end of the second electric push rod is connected with a splint through a bolt, a through groove is arranged on one side of the worktable surface, and a slide groove is arranged on the other side of the worktable. The inner part of the chute is provided with a connecting plate, and the clamping device for the CMP polishing equipment is provided with a second electric push rod on one side above the workbench. The two splints are pushed by two corresponding second electric push rods. Then the processed objects are placed between the two splints until the objects are clamped, thus facilitating the fixing of the objects by the operators. The two clamps and springs are combined to play a buffer role in the clamping process.
【技术实现步骤摘要】
一种CMP抛光设备用夹持装置
本技术涉及材料加工
,具体为一种CMP抛光设备用夹持装置。
技术介绍
一种CMP抛光设备用定位夹具作为运用于半导体晶元材料上的一种夹持装置,也在不断地更新和改进,在使用CMP抛光设备对半导体芯片等材料进行抛光处理时,取得的重大成功和突破,一部分原因是因为技术的创新和进步,另一部分原因就是因为一种CMP抛光设备用定位夹持装置的使用,使得对半导体晶元材料的夹持比较稳定,从而提高了产品的质量和抛光的成功率。现有的用于CMP抛光设备的夹持装置,在使用的过程中,存在以下问题:由于半导体晶元材料有许多种,且半导体晶元材料形状各有不同,在对其进行抛光的过程中,需要用到不同种类的固定装置,进而使得操作起来十分的繁琐。
技术实现思路
针对现有技术的不足,本技术提供了一种CMP抛光设备用夹持装置,具备能固定不同形状的半导体晶元材料等优点,解决了现有的用于CMP抛光设备的夹持装置在使用过程中存在的以下问题:由于半导体晶元材料有许多种,且半导体晶元材料形状各有不同,在对其进行抛光的过程中,需要用到不同种类的固定装置,进而使得操作起来十分的繁琐的问题。为实现上述固定不同形状的半导体晶元材料目的,本技术提供如下技术方案:一种CMP抛光设备用夹持装置,包括工作台,所述工作台上表面一侧焊接有挡板,所述挡板的一端通过螺栓固定有第二电动推杆,所述第二电动推杆的伸缩端通过螺栓连接有夹板,所述工作台表面一侧开设有通槽,所述工作台的另一侧开设有滑槽,所述滑槽的内部放置有连接板,所述连接板的一侧通过螺丝固定有第一电动推杆,一个所述第一电动推杆的伸缩端通过螺丝连接有第二夹块 ...
【技术保护点】
1.一种CMP抛光设备用夹持装置,包括工作台(1),其特征在于:所述工作台(1)上表面一侧焊接有挡板(13),所述挡板(13)的一端通过螺栓固定有第二电动推杆(12),所述第二电动推杆(12)的伸缩端通过螺栓连接有夹板(11),所述工作台(1)表面一侧开设有通槽(14),所述工作台(1)的另一侧开设有滑槽(17),所述滑槽(17)的内部放置有连接板(10),所述连接板(10)的一侧通过螺丝固定有第一电动推杆(9),一个所述第一电动推杆(9)的伸缩端通过螺丝连接有第二夹块(8),另一个所述第一电动推杆(9)的伸缩端通过螺丝连接有第一夹块(5),所述工作台(1)的前表面开设有螺纹孔(4),且螺纹孔(4)与滑槽(17)相连通,调节螺杆(3)旋合进所述滑槽(17)的内部,且调节螺杆(3)的一端与连接板(10)焊接固定在一起,所述第二电动推杆(12)和第一电动推杆(9)与电源电性连接。
【技术特征摘要】
1.一种CMP抛光设备用夹持装置,包括工作台(1),其特征在于:所述工作台(1)上表面一侧焊接有挡板(13),所述挡板(13)的一端通过螺栓固定有第二电动推杆(12),所述第二电动推杆(12)的伸缩端通过螺栓连接有夹板(11),所述工作台(1)表面一侧开设有通槽(14),所述工作台(1)的另一侧开设有滑槽(17),所述滑槽(17)的内部放置有连接板(10),所述连接板(10)的一侧通过螺丝固定有第一电动推杆(9),一个所述第一电动推杆(9)的伸缩端通过螺丝连接有第二夹块(8),另一个所述第一电动推杆(9)的伸缩端通过螺丝连接有第一夹块(5),所述工作台(1)的前表面开设有螺纹孔(4),且螺纹孔(4)与滑槽(17)相连通,调节螺杆(3)旋合进所述滑槽(17)的内部,且调节螺杆(3)的一端与连接板(10)焊接固定在一起,所述第二电动推杆(12)和第一电动推杆(9)与电源电性连接。2.根据权利要求1所述的一种CMP抛光设备用夹持装置,其特征在于:所述夹板(11)包括两个卡板(111)和第一弹...
【专利技术属性】
技术研发人员:常强,肖学才,方明喜,
申请(专利权)人:爱利彼半导体设备中国有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏,32
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