硅片载料舟制造技术

本实用新型专利技术公开了一种硅片载料舟，用于原子层沉积装置，设置于门体组件上，门体组件包括第二门板。硅片载料舟包括载舟板和端板，载舟板固定连接第二门板，端板在载舟板的宽度方向上间隔设置在载舟板的两侧。载舟板上位于端板之间设置有第一固定杆，端板之间设置有第二固定杆，第一固定杆上开设有多个水平设置的第一固定槽，第二固定杆上开设有多个竖直设置的第二固定槽，相邻的第一固定杆和第二固定杆上的第一固定槽和第二固定槽相对应。本案中的硅片载料舟中，通过第一固定杆上的第一固定槽和第二固定杆上的第二固定槽共同作用，从多个方向将硅片稳定限制在载料舟上，避免载料舟移动过程中硅片发生位移，相互碰撞造成损坏。

Silicon wafer carrier boat

The utility model discloses a silicon wafer loading boat, which is used for an atomic layer deposition device, and is arranged on a portal component, which comprises a second door plate. The silicon wafer carrier boat includes a carrier boat board and an end plate. The carrier boat plate is fixed to connect the second door plate, and the end plates are arranged at two sides of the carrier boat board in the width direction of the carrier boat board. A first fixed rod is arranged between the end plates on the loading boat board, and a second fixed rod is arranged between the end plates. The first fixed rod is provided with a plurality of first fixed slots horizontally arranged, and the second fixed rod is provided with a plurality of second fixed slots vertically arranged. The first fixed slot and the second fixed slot on the adjacent first fixed rod and the second fixed rod correspond to each other. In this case, through the joint action of the first fixed groove on the first fixed pole and the second fixed groove on the second fixed pole, the silicon wafer is stabilized on the loading boat in many directions, so as to avoid the displacement of the silicon wafer during the movement of the loading boat and the damage caused by the collision of the silicon wafer.

【技术实现步骤摘要】
硅片载料舟
本技术涉及硅片加工领域，尤其涉及一种硅片载料舟。
技术介绍
在相关技术中，用于搬运硅片的舟盒一般只有两侧的限位槽对硅片进行限制。当硅片的面积较大的时候，两侧的限位槽无法为硅片提供稳定可靠的支撑和保护，硅片容易发生晃动，甚至互相接触，发生碰撞，损坏硅片。
技术实现思路
本技术实施方式提供的一种硅片载料舟，用于原子层沉积装置，设置于门体组件上，所述门体组件包括第二门板，所述硅片载料舟包括载舟板和端板，所述载舟板固定连接所述第二门板，所述端板在所述载舟板的宽度方向上间隔设置在所述载舟板的两侧，所述载舟板上位于所述端板之间设置有第一固定杆，所述端板之间设置有第二固定杆，所述第一固定杆上开设有多个水平设置的第一固定槽，所述第二固定杆上开设有多个竖直设置的第二固定槽，相邻的所述第一固定杆和所述第二固定杆上的所述第一固定槽和所述第二固定槽相对应。本技术实施方式中的硅片载料舟中，通过第一固定杆上的第一固定槽和第二固定杆上的第二固定槽共同作用，从多个方向将硅片稳定限制在载料舟上，避免载料舟移动过程中硅片发生位移，相互碰撞造成损坏。在某些实施方式中，所述第二固定杆在水平方向上双面开设有所述第二固定槽。在某些实施方式中，每个所述第一固定杆和2个所述第二固定杆相邻。在某些实施方式中，相邻2个所述第二固定杆关于之间的所述第一固定杆对称设置。在某些实施方式中，相邻2个所述第一固定槽通过第一隔断隔开，所述第一隔断呈自相邻的2个所述第一固定槽向所述第一隔断的顶部渐缩的形状。在某些实施方式中，相邻2个所述第二固定槽通过第二隔断隔开，所述第二隔断呈自相邻的2个所述第二固定槽向远离所述第二隔断的方向渐缩的形状。本技术实施方式的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。附图说明本技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施方式的描述中将变得明显和容易理解，其中：图1是本技术实施方式的硅片载料舟的立体结构示意图；图2是本技术实施方式的硅片载料舟的平面结构示意图；图3是图1中的硅片载料舟在I处的放大示意图；图4是图2中的硅片载料舟在II处的放大示意图。具体实施方式下面详细描述本技术的实施方式，所述实施方式的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施方式是示例性的，仅用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。在本技术的描述中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本技术的不同结构。为了简化本技术的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本技术。此外，本技术可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本技术提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。请参阅图1-图4，本技术实施方式提供的一种硅片载料舟，用于原子层沉积装置，设置于门体组件上，门体组件包括第二门板102。硅片载料舟包括载舟板117和端板118，载舟板117固定连接第二门板102，端板118在载舟板117的宽度方向上间隔设置在载舟板117的两侧。载舟板117上位于端板118之间设置有第一固定杆119，端板118之间设置有第二固定杆120，第一固定杆119上开设有多个水平设置的第一固定槽121，第二固定杆120上开设有多个竖直设置的第二固定槽122，相邻的第一固定杆119和第二固定杆120上的第一固定槽121和第二固定槽122相对应。本技术实施方式中的硅片载料舟中，通过第一固定杆119上的第一固定槽121和第二固定杆120上的第二固定槽122共同作用，从多个方向将硅片稳定限制在载料舟上，避免载料舟移动过程中硅片发生位移，相互碰撞造成损坏。在某些实施方式中，第二固定杆120在水平方向上双面开设有第二固定槽122。在某些实施方式中，每个第一固定杆119和2个第二固定杆120相邻。如此，每个硅片放置在本实施方式中的硅片载料舟上时，都有水平方向和竖直方向上的固定槽限制，受力更均匀，摆放也更稳定。在某些实施方式中，相邻2个第二固定杆120关于之间的第一固定杆119对称设置。如此，位于底部的第一固定槽121正好位于硅片的中间，能更稳定地限制硅片。在某些实施方式中，相邻2个第一固定槽121通过第一隔断123隔开，第一隔断123呈自相邻的2个第一固定槽121向第一隔断123的顶部渐缩的形状。如此，渐缩形状便于硅片更快速地插入到第一固定槽121中，而不会和第一固定槽121边缘发生碰撞，损坏硅片。在某些实施方式中，相邻2个第二固定槽122通过第二隔断124隔开，第二隔断124呈自相邻的2个第二固定槽122向远离第二隔断124的方向渐缩的形状。如此，渐缩形状便于硅片更快速地插入到第二固定槽122中，而不会和第二固定槽122边缘发生碰撞，损坏硅片。在本说明书的描述中，参考术语“一个实施方式”、“某些实施方式”、“示意性实施方式”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合所述实施方式或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本技术的至少一个实施方式或示例中。在本说明书中，对上述术语本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硅片载料舟，用于原子层沉积装置，设置于门体组件上，所述门体组件包括第二门板，其特征在于，所述硅片载料舟包括载舟板和端板，所述载舟板固定连接所述第二门板，所述端板在所述载舟板的宽度方向上间隔设置在所述载舟板的两侧，所述载舟板上位于所述端板之间设置有第一固定杆，所述端板之间设置有第二固定杆，所述第一固定杆上开设有多个水平设置的第一固定槽，所述第二固定杆上开设有多个竖直设置的第二固定槽，相邻的所述第一固定杆和所述第二固定杆上的所述第一固定槽和所述第二固定槽相对应。

【技术特征摘要】
1.一种硅片载料舟，用于原子层沉积装置，设置于门体组件上，所述门体组件包括第二门板，其特征在于，所述硅片载料舟包括载舟板和端板，所述载舟板固定连接所述第二门板，所述端板在所述载舟板的宽度方向上间隔设置在所述载舟板的两侧，所述载舟板上位于所述端板之间设置有第一固定杆，所述端板之间设置有第二固定杆，所述第一固定杆上开设有多个水平设置的第一固定槽，所述第二固定杆上开设有多个竖直设置的第二固定槽，相邻的所述第一固定杆和所述第二固定杆上的所述第一固定槽和所述第二固定槽相对应。2.根据权利要求1所述的硅片载料舟，其特征在于，所述第二固定杆在水平方向上...

【专利技术属性】
技术研发人员：李丙科，陈庆敏，
申请(专利权)人：无锡松煜科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32