掩膜板支撑机构、对位装置、对位方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种掩膜板支撑机构，用于支撑掩膜板，所述掩膜板支撑机构包括：基底和设置在基底上的多个具有伸缩性的支撑结构，每个所述支撑结构具有最大高度和最小高度，且处于最大高度的所述支撑结构能够在压力作用下被压缩至最小高度；每个支撑结构的最小高度相同；对于任意两个支撑结构，离所述基底中心较远的支撑结构的最大高度不大于离所述基底中心较近的支撑结构的最大高度。相应地，本发明专利技术还提供一种对位装置及对位方法。本发明专利技术能够提高待蒸镀的基板与掩膜板的对位精度。

Mask plate support mechanism, alignment device and alignment method

The invention provides a mask plate support mechanism for supporting the mask plate, which comprises a base and a plurality of flexible support structures arranged on the base, each of which has the maximum height and the minimum height, and the support structure at the maximum height can be compressed to the minimum height under the action of pressure; and each support structure can be compressed to the minimum height under the action of pressure. The minimum height is the same; for any two support structures, the maximum height of the support structure farther from the base center is not greater than the maximum height of the support structure nearer to the base center. Accordingly, the invention also provides a counterpoint device and a counterpoint method. The invention can improve the alignment accuracy of the substrate to be evaporated and the mask plate.

【技术实现步骤摘要】
掩膜板支撑机构、对位装置、对位方法
本专利技术涉及显示设备的生产制作领域，具体涉及一种掩膜板支撑机构、对位装置、对位方法。
技术介绍
近年来，有机电致发光(OrganicLightEmittingDiode，OLED)显示装置因具有自发光、广视角、响应快、功耗低以及可柔性显示等优点而广泛应用在显示领域中。OLED器件的发光功能层通常采用蒸镀工艺形成，而目前在蒸镀工艺中，由于掩膜板和待蒸镀的基板具有一定的柔性和较大的重力，因此会导致掩膜板和待蒸镀的基板在对位过程中会出现中部下垂，从而降低对位精度，进而导致蒸镀效果较差。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种掩膜板支撑机构、对位装置、对位方法。为了实现上述目的，本专利技术提供一种掩膜板支撑机构，用于支撑掩膜板，所述掩膜板支撑机构包括：基底和设置在基底上的多个具有伸缩性的支撑结构，每个所述支撑结构具有最大高度和最小高度，且处于最大高度的所述支撑结构能够在压力作用下被压缩至最小高度；每个支撑结构的最小高度相同；对于任意两个支撑结构，离所述基底中心较远的支撑结构的最大高度不大于离所述基底中心较近的支撑结构的最本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜板支撑机构，用于支撑掩膜板，其特征在于，所述掩膜板支撑机构包括：基底和设置在基底上的多个具有伸缩性的支撑结构，每个所述支撑结构具有最大高度和最小高度，且处于最大高度的所述支撑结构能够在压力作用下被压缩至最小高度；每个支撑结构的最小高度相同；对于任意两个支撑结构，离所述基底中心较远的支撑结构的最大高度不大于离所述基底中心较近的支撑结构的最大高度。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板支撑机构，用于支撑掩膜板，其特征在于，所述掩膜板支撑机构包括：基底和设置在基底上的多个具有伸缩性的支撑结构，每个所述支撑结构具有最大高度和最小高度，且处于最大高度的所述支撑结构能够在压力作用下被压缩至最小高度；每个支撑结构的最小高度相同；对于任意两个支撑结构，离所述基底中心较远的支撑结构的最大高度不大于离所述基底中心较近的支撑结构的最大高度。2.根据权利要求1所述的掩膜板支撑机构，其特征在于，所述支撑结构的最大高度随所述支撑结构到所述基底中心的距离的增大而减小。3.根据权利要求1所述的掩膜板支撑机构，其特征在于，所述支撑结构包括：壳体、支撑柱和弹性件，所述壳体设置在所述基底上，所述壳体的顶部设置有开口；所述弹性件设置在所述壳体内，所述弹性件的一端与所述基底的底壁相连，另一端与所述支撑柱相连；所述支撑结构在未受到压力的状态下，所述支撑柱的一部分从所述壳体的开口伸出，且所述支撑结构达到最大高度；所述支撑柱能够在压力作用下被压缩至所述壳体中；每个支撑结构的壳体的高度相同。4.根据权利要求3所述的掩膜板支撑机构，其特征在于，所述支撑柱包括相连的支撑部和限位部，所述限位部与所述弹性件相连，所述支撑部的一部分从所述开口伸出所述壳体，所述限位部在所述壳体底壁上的正投影超出所述开口在所述壳体底壁上的正投影。5.根据权利要求4所述的掩膜板支撑机构...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘金彪，饶勇，谭瑞，李有亮，王政，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11