一种光刻胶布胶方法技术

技术编号:21114686 阅读:23 留言:0更新日期:2019-05-16 08:41
本发明专利技术涉及一种光刻胶布胶系统,包括记录模块,控制模块和处理模块,其特征在于,记录模块与控制模块相连,控制模块与处理模块相连,记录模块记录激光刻线轨迹的信息,并将上述的信息传递给控制模块,控制模块控制处理模块进行涂胶。该系统改进了光刻胶的布胶方式,不同于现有的大面积滚涂光刻胶、曝光、显影、除胶,光刻胶涂胶由滚涂改为喷头喷涂,直接将光刻胶准确地填充到激光刻线凹槽中。本发明专利技术改善了光刻胶布胶工艺,显著减少了原材料光刻胶、显影液及除胶剂的浪费,大大减轻了污水处理压力,降低了能源损耗和EHS风险。

【技术实现步骤摘要】
一种光刻胶布胶方法
本专利技术公开了一种光刻胶布胶方法,更具体地说,特别是在薄膜太阳能电池领域激光P1刻线后在所刻凹槽中涂布光刻胶的一种方法。
技术介绍
薄膜太阳电池是一种在玻璃基底上沉积TCO层和半导体层薄膜,然后用激光对半导体层进行刻划和背电极沉积等使其形成一个个小的元电池并相互连接起来,最后使用封装材料背板玻璃进行封装,形成一个具有较高开路电压和较大短路电流的功能性组件。其中在进行激光P1刻线后在刻线凹槽中布施光刻胶是薄膜太阳能电池生产中一项重要的生产工艺,目前的技术手段是在激光P1刻线后直接大面积滚涂光刻胶、曝光、显影、除胶。此种工艺在曝光过程中存在曝光过度的风险,即将P1刻线附近多余的光刻胶曝光固化残存在半导体膜层中,增大薄膜电池内部电阻,降低整个组件的发电效率。此外,不仅对原材料光刻胶和显影液、除胶剂等造成了极大的浪费,还增加了污水处理环节。多耗费了大量水电气能源,还增大了EHS风险。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了解决上诉存在的缺陷和不足,改进了光刻胶的布胶方式,光刻胶涂胶由滚涂改为喷头喷涂,直接将光刻胶准确地填充到P1刻线凹槽中。为解决以上技术问题,本专利技术技术方案提供一种光刻胶布胶系统,包括记录模块,控制模块和处理模块,其特征在于,记录模块与控制模块相连,控制模块与处理模块相连,记录模块记录激光刻线轨迹的信息,并将上述的信息传递给控制模块,控制模块控制处理模块进行涂胶。优选的,所述的记录模块包括CCD。优选的,所述记录模块记录并反馈激光刻线轨迹的信息,并将上述的信息传递给控制模块。优选的,所述控制模块控制并修正处理模块进行涂胶。优选的,所述的处理模块为光刻胶喷头。优选的,所述喷头可以替换为医用针头。优选的,所述的喷头的直径与激光刻线凹槽的直径相同或相近。本专利技术技术方案提供一种光刻胶布胶方法,包括记录模块,控制模块和处理模块,其特征在于,记录模块与控制模块相连,控制模块与处理模块相连,记录模块记录并反馈激光刻线轨迹的信息,并将上述的信息传递给控制模块,控制模块控制并修正处理模块进行涂胶。优选的,所述的记录模块包括CCD。优选的,其特征在于,所述的处理模块为光刻胶喷头。下面对本专利技术做进一步的详述:为解决以上技术问题,本专利技术技术方案提供本专利技术技术方案提供一种光刻胶布胶系统,包括记录模块,控制模块和处理模块,其特征在于,记录模块与控制模块相连,控制模块与处理模块相连,记录模块记录激光刻线轨迹的信息,并将上述的信息传递给控制模块,控制模块控制处理模块进行涂胶。优选的,所述的记录模块包括CCD。优选的,所述记录模块记录并反馈激光刻线轨迹的信息,并将上述的信息传递给控制模块。优选的,所述控制模块控制并修正处理模块进行涂胶。优选的,所述的处理模块为光刻胶喷头。优选的,所述喷头可以替换为医用针头。优选的,所述的喷头的直径与激光刻线凹槽的直径相同或相近。本专利技术技术方案提供一种光刻胶布胶方法,包括记录模块,控制模块和处理模块,其特征在于,记录模块与控制模块相连,控制模块与处理模块相连,记录模块记录并反馈激光刻线轨迹的信息,并将上述的信息传递给控制模块,控制模块控制并修正处理模块进行涂胶。优选的,所述的记录模块包括CCD。优选的,其特征在于,所述的处理模块为光刻胶喷头。本专利技术中的光刻胶布胶方法步骤如下:激光头加装CCD和光刻胶喷头,在进行激光P1刻线的同时进行光刻胶喷胶填充工作。CCD实时监测光刻胶喷头的喷胶情况并将信息反馈给光刻胶喷头控制器,以便于对光刻胶喷头喷胶情况进行实时修正。从上述技术方案可以看出,本专利技术具有以下有益效果:1、相比现有技术,本专利技术改进了光刻胶的布胶方式,光刻胶涂胶由滚涂改为喷头喷涂,直接将光刻胶准确地填充到激光刻线凹槽中。2、本专利技术改善了光刻胶布胶工艺,显著减少了原材料光刻胶、显影液及除胶剂的浪费,大大减轻了污水处理压力,降低了能源损耗和EHS风险。3、本专利技术中的布胶系统记录模块记录并反馈激光刻线轨迹的信息,并将上述的信息传递给控制模块,控制模块控制并修正处理模块进行涂胶。附图说明图1为新型光刻胶布胶工艺流程图图2为带有CCD的光刻胶喷头示意图,1光刻胶喷头2CCD3半导体膜层4基底玻璃5激光头具体实施方式实施例1:一种光刻胶布胶系统,包括记录模块,控制模块和处理模块,其特征在于,记录模块与控制模块相连,控制模块与处理模块相连,记录模块记录激光刻线轨迹的信息,并将上述的信息传递给控制模块,控制模块控制处理模块进行涂胶。优选的,所述的记录模块包括CCD。优选的,所述记录模块记录并反馈激光刻线轨迹的信息,并将上述的信息传递给控制模块。优选的,所述控制模块控制并修正处理模块进行涂胶。优选的,所述的处理模块为光刻胶喷头。优选的,所述喷头可以替换为医用针头。优选的,所述的喷头的直径与激光刻线凹槽的直径相同或相近。本专利技术技术方案提供一种光刻胶布胶方法,包括记录模块,控制模块和处理模块,其特征在于,记录模块与控制模块相连,控制模块与处理模块相连,记录模块记录并反馈激光刻线轨迹的信息,并将上述的信息传递给控制模块,控制模块控制并修正处理模块进行涂胶。优选的,所述的记录模块包括CCD。优选的,其特征在于,所述的处理模块为光刻胶喷头。实施例二一种光刻胶布胶系统,包括记录模块,控制模块和处理模块,其特征在于,记录模块与控制模块相连,控制模块与处理模块相连,记录模块记录激光刻线轨迹的信息,并将上述的信息传递给控制模块,控制模块控制处理模块进行涂胶。优选的,所述的记录模块包括CCD。优选的,所述记录模块记录并反馈激光刻线轨迹的信息,并将上述的信息传递给控制模块。优选的,所述控制模块控制并修正处理模块进行涂胶。优选的,所述的处理模块为光刻胶喷头。优选的,所述喷头可以替换为医用针头。优选的,所述的喷头的直径与激光刻线凹槽的直径相同或相近。本专利技术技术方案提供一种光刻胶布胶方法,包括记录模块,控制模块和处理模块,其特征在于,记录模块与控制模块相连,控制模块与处理模块相连,记录模块记录并反馈激光刻线轨迹的信息,并将上述的信息传递给控制模块,控制模块控制并修正处理模块进行涂胶。优选的,所述的记录模块包括CCD。优选的,其特征在于,所述的处理模块为光刻胶喷头。本专利技术中的光刻胶布胶方法步骤如下:激光头加装CCD和光刻胶喷头,在进行激光P1刻线的同时进行光刻胶喷胶填充工作。CCD实时监测光刻胶喷头的喷胶情况并将信息反馈给光刻胶喷头控制器,以便于对光刻胶喷头喷胶情况进行实时修正。以上仅是本专利技术的优选实施方式,应当指出的是,上述优选实施方式不应视为对本专利技术的限制,本专利技术的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。对于本
的普通技术人员来说,在不脱离本专利技术的精神和范围内,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本专利技术的保护范围。本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种光刻胶布胶系统,包括记录模块,控制模块和处理模块,其特征在于,记录模块与控制模块相连,控制模块与处理模块相连,记录模块记录激光刻线轨迹的信息,并将上述的信息传递给控制模块,控制模块控制处理模块进行涂胶。

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶布胶系统,包括记录模块,控制模块和处理模块,其特征在于,记录模块与控制模块相连,控制模块与处理模块相连,记录模块记录激光刻线轨迹的信息,并将上述的信息传递给控制模块,控制模块控制处理模块进行涂胶。2.如权利要求1所述的光刻胶布胶系统,其特征在于,所述记录模块包括CCD。3.如权利要求1所述的光刻胶布胶系统,其特征在于,所述记录模块记录并反馈激光刻线轨迹的信息,并将上述的信息传递给控制模块。4.如权利要求1所述的光刻胶布胶系统,其特征在于,所述控制模块控制并修正处理模块进行涂胶。5.如权利要求1所述的光刻胶布胶系统,其特征在于,所述的处理模块为光刻胶喷...

【专利技术属性】
技术研发人员:彭寿马立云潘锦功殷新建张东
申请(专利权)人:成都中建材光电材料有限公司
类型:发明
国别省市:四川,51

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