基于准直光取出的光学结构的指纹识别模块及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种基于准直光取出的光学结构的指纹识别模块及其制备方法，所述指纹识别模块包括：指纹识别传感器阵列，以及还包括：设置于指纹识别传感器阵列上、用于准直光取出的光学结构；其中，所述光学结构包括：上、下层纳米光栅层，以及设置在所述上、下层纳米光栅层之间的聚合物分散液晶PDLC层。应用本发明专利技术可以简化工艺流程、减小指纹识别模块的厚度，避免Miss‑align问题，且可以提高指纹识别精准度。

【技术实现步骤摘要】
基于准直光取出的光学结构的指纹识别模块及其制备方法
本专利技术涉及指纹识别
，特别是指一种基于准直光取出的光学结构的指纹识别模块及其制备方法。
技术介绍
相比普通屏幕，全面屏的视觉效果具有更高冲击力，更加惊艳的显示效果，成为现在智能显示终端的新宠。但是随着屏幕屏占比的提高，基于指纹识别传感器的指纹识别模块设计成为手机终端厂商亟需解决的问题。应用准直光方案的全面屏指纹识别技术的显示屏器件，如图1所示，其指纹识别模块包括：指纹识别传感器阵列及其背板，以及设置于指纹识别传感器阵列上方的光学结构层。指纹识别时，为防止相邻传感器接收到较远位置的指纹信息，导致传感器接收的信息混乱，因此需要在指纹识别传感器阵列上设置一层光学结构，用以去除杂散光，实现指纹识别。光学结构可以是如图2所示的通孔或者是如图3所示的套孔来实现去除杂散光功能。由于目前黑色材料的厚度无法做到100um厚度，因此通常优先选择套孔方案。套孔方案的准直光学机理，如图4所示：为了实现防止大角度的光的串扰，需要形成多层黑矩阵(BM)，即矩阵式图案化的遮光膜层，来阻挡大角度光的串扰，由模拟结果可知，只有多次形成BM层才能完全实现防止本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于准直光取出的光学结构的指纹识别模块，包括：指纹识别传感器阵列，其特征在于，还包括：设置于指纹识别传感器阵列上、用于准直光取出的光学结构；其中，所述光学结构包括：上、下层纳米光栅层，以及设置在所述上、下层纳米光栅层之间的聚合物分散液晶PDLC层。

【技术特征摘要】
1.一种基于准直光取出的光学结构的指纹识别模块，包括：指纹识别传感器阵列，其特征在于，还包括：设置于指纹识别传感器阵列上、用于准直光取出的光学结构；其中，所述光学结构包括：上、下层纳米光栅层，以及设置在所述上、下层纳米光栅层之间的聚合物分散液晶PDLC层。2.根据权利要求1所述的指纹识别模块，其特征在于，所述光学结构中还包括：设置于所述下层纳米光栅层下的、作为衬底的聚酰亚胺PI膜层。3.根据权利要求2所述的指纹识别模块，其特征在于，所述光学结构中还包括：在所述下层纳米光栅层与所述PDLC层之间设置的第一平坦保护层；在所述PDLC层与上层纳米光栅层之间设置的第二平坦保护层。4.根据权利要求3所述的指纹识别模块，其特征在于，所述光学结构中还包括：设置于所述上层纳米光栅层上的墨水INK层。5.根据权利要求1-4任一所述的指纹识别模块，其特征在于，所述上、下层纳米光栅层中的光栅位置是相对的，或者是错开的。6.根据权利要求1-4任一所述的指纹识别模块，其特征在于，还...

【专利技术属性】
技术研发人员：岳阳，舒适，徐传祥，于勇，李翔，杨桐，黄敏，黄海涛，姚琪，宋晓欣，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11