一种金属纳米线自限制纳米钎焊方法及其应用技术

本发明专利技术公开了一种金属纳米线自限制纳米钎焊方法及其应用，所述金属纳米线自限制纳米钎焊方法包括如下步骤：(1)在金属纳米线导电网络表面滴加A溶液，待A溶液完全铺展整个金属纳米线导电网络，去除大部分A溶液；(2)滴加B溶液在搭接点吸附有A溶液的金属纳米线导电网络，待B溶液完全铺展整个银纳米线导电网络，反应1～10min后，去除混合液体。利用上述金属纳米线自限制纳米钎焊方法可制备大面积柔性透明电极。本发明专利技术通过化学反应生成的金属原子的自限制沉积实现了金属纳米线在搭接点的纳米钎焊，而且本发明专利技术制备的柔性透明电极兼具高导电性、透光性和机械稳定性。

A Self-limiting Nanobrazing Method for Metal Nanowires and Its Application

The invention discloses a self-limiting nano-brazing method of metal nanowires and its application. The self-limiting nano-brazing method of metal nanowires includes the following steps: (1) dropping A solution on the surface of the conductive network of metal nanowires, waiting for A solution to fully spread the conductive network of metal nanowires, removing most A solution; (2) dropping B solution adsorbing metal nano-particles with A solution at the overlap point. Wire conductive network, until B solution completely spread the entire conductive network of silver nanowires, after 1 to 10 minutes of reaction, remove the mixed liquids. Large area flexible transparent electrodes can be fabricated by self-confining nanobrazing of metal nanowires. The invention realizes nanobrazing of metal nanowires at lap joints by self-limiting deposition of metal atoms generated by chemical reaction, and the flexible transparent electrode prepared by the invention has high conductivity, light transmittance and mechanical stability.

【技术实现步骤摘要】
一种金属纳米线自限制纳米钎焊方法及其应用
本专利技术属于纳米
，涉及一种基于化学法的金属纳米线纳米钎焊方法以及该钎焊方法在大面积柔性透明电极制备中的应用。
技术介绍
随着科技的发展，柔性电子成为了下一代电子行业的研发主体。柔性透明电极作为柔性电子中至关重要的部分而受到广泛的关注。目前，用于制备透明电极的材料主要为氧化铟锡(ITO)。由于ITO自身的脆性，加之In元素在地球含量有限，使其价格逐渐上升，考虑到上述原因，ITO导电薄膜难以用于制备下一代柔性透明电极。金属纳米线导电性高，合成工艺简单、可控，制备成本低，被认为是替代ITO制备透明电极的最佳材料。由于金属纳米线具有极大的长径比，使制备的透明电极具有极佳的柔性，同时也可以广泛的应用于各种柔性光电器件，如：柔性太阳能电池、可折叠OLED和柔性显示屏等。在使用金属纳米线为原材料制备柔性透明电极的研发过程中，许多技术壁垒已经被克服，金属纳米线搭接点较大的接触电阻成为最后一个需要攻克的难关。对金属纳米线导电网络，金属纳米线自身具有极佳的导电性，但较大的接触电阻会阻碍电子在不同纳米线之间的传输。引起接触电阻的主要原因是金属纳米线搭接点本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种金属纳米线自限制纳米钎焊方法，其特征在于所述方法包括如下步骤：(1)在金属纳米线导电网络表面滴加A溶液，待A溶液完全铺展整个金属纳米线导电网络，去除大部分A溶液，控制A溶液在金属纳米线导电网络上的残留质量为0.1～1mg/cm

【技术特征摘要】
1.一种金属纳米线自限制纳米钎焊方法，其特征在于所述方法包括如下步骤：(1)在金属纳米线导电网络表面滴加A溶液，待A溶液完全铺展整个金属纳米线导电网络，去除大部分A溶液，控制A溶液在金属纳米线导电网络上的残留质量为0.1～1mg/cm2，所述A溶液为以金属阳离子源为溶质的溶液；(2)滴加B溶液在搭接点吸附有A溶液的金属纳米线导电网络，待B溶液完全铺展整个银纳米线导电网络，反应1～10min后，去除混合液体，所述B溶液为以还原剂为溶质的溶液。2.根据权利要求1所述的金属纳米线自限制纳米钎焊方法，其特征在于所述步骤(1)中，通过旋涂或是气流去除A溶液。3.根据权利要求1所述的金属纳米线自限制纳米钎焊方法，其特征在于所述步骤(2)中，通过旋涂或是气流去除混合液体。4.根据权利要求1所述的金属纳米线自限制纳米钎焊方法，其特征在于所述金属阳离子源为硝酸银、醋酸银、氯化铜、硫酸铜和氯酸金中的一种。5.根据权利要求1所述的金属纳米线自限制纳米钎焊方法，其特征在于所述还原剂为抗坏血酸和葡...

【专利技术属性】
技术研发人员：田艳红，黄亦龙，杭春进，王尚，
申请(专利权)人：哈尔滨工业大学，
类型：发明
国别省市：黑龙江,23