玻璃基板清洗的方法技术

本发明专利技术公开了一种玻璃基板清洗的方法，涉及玻璃基板生产技术领域。本发明专利技术的主要技术方案为：一种玻璃基板清洗的方法，包括：采集所述颗粒检查设备、所述翻转设备、所述检查设备以及所述包装设备处的所述玻璃基板的堵片情况数据，并将堵片情况数据传输给所述处理器；所述处理设备根据所述堵片情况数据采用预设运算方式，调节所述处理设备中比例积分微分控制器的调控系数；所述处理设备基于调节后的所述调控系数控制所述风刀设备中所述玻璃基板的传输速度。所述方法解决了因玻璃基板长时间在风刀设备中停留而导致的玻璃基板质量问题。

Cleaning Method of Glass Substrate

The invention discloses a method for cleaning glass substrate, which relates to the technical field of glass substrate production. The main technical scheme of the present invention is: a method for cleaning glass substrate, which includes collecting data of the particle inspection device, the turnover device, the inspection device and the blocking condition of the glass substrate at the packaging device, and transmitting the data of the blocking condition to the processor; the processing device adopts a preset operation mode according to the data of the blocking condition. The processing device controls the transmission speed of the glass substrate in the wind knife device based on the adjusted control coefficient of the proportional integral differential controller. The method solves the quality problem of the glass substrate caused by the glass substrate staying in the wind knife equipment for a long time.

【技术实现步骤摘要】
玻璃基板清洗的方法
本专利技术涉及玻璃基板生产
，尤其涉及一种玻璃基板清洗的方法。
技术介绍
玻璃基板是生产显示设备的必要部件，其在生产的过程中需要经历清洗的工序，以保证生产出的玻璃基板具有较高的清洁度，能够适用于制造显示设备。现有的技术中，玻璃基板是使用连续自动化的生产设备进行生产的，是从一个工序自动的传输到下一工序中的，而玻璃基板清洗系统则是玻璃基板生产中清洗工序所使用的多个设备的集成体，玻璃基板在经过玻璃基板清洗系统后，能够依次完成清洗、风干、质量检查以及包装等工序。但是现有技术中的玻璃基板清洗系统存在一定的技术问题，具体表现为：玻璃基板清洗系统是多个设备连续运作的，即玻璃基板是在多个设备中连续传输的，一旦处于风刀设备后方的设备出现异常情况，则玻璃基板就会拥堵在风刀设备中，即发生堵片的情况，而风刀设备较长时间的对玻璃基板作用，会使玻璃基板的表面留下水痕等的缺陷，影响玻璃基板的品质。所以上述技术问题急需解决。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术实施例提供一种玻璃基板清洗的方法，主要目的是解决玻璃基板清洗系统中存在的容易堵片的技术问题。为达到上述目的，本专利技术主要提供如下技术方案：本专利技术实施例提供了一种玻璃基板清洗的方法，所述方法应用于玻璃基板清洗系统，所述玻璃基板清洗系统包括：依次连接的喷淋清洗设备、风刀设备、颗粒检查设备、翻转设备、检查设备、包装设备；所述喷淋清洗设备用于对玻璃基板进行清洗；所述风刀设备用于对喷淋清洗后的所述玻璃基板进行风干；所述颗粒检查设备用于检测风干后的所述玻璃基板表面的污染物；所述翻转设备用于将平置的所述玻璃基板翻转成立置；所述检查设备用于检查所述玻璃基板的表面缺陷和内部缺陷；所述包装设备用于将清洗后的所述玻璃基板打包；处理设备，所述处理设备用于控制所述玻璃基板清洗系统的工作；所述方法包括：采集所述颗粒检查设备、所述翻转设备、所述检查设备以及所述包装设备处的所述玻璃基板的堵片情况数据，并将堵片情况数据传输给所述处理器；所述处理设备根据所述堵片情况数据采用预设运算方式，调节所述处理设备中比例积分微分控制器的调控系数；所述处理设备基于调节后的所述调控系数控制所述风刀设备中所述玻璃基板的传输速度。本专利技术的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。优选的，前述的玻璃基板清洗的方法，其中实时采集所述堵片情况数据；所述调控系数根据实时的所述堵片情况数据动态调节；所述处理设备根据动态调节的所述调控系数实时控制所述风刀设备中所述玻璃基板的传输速度。优选的，前述的玻璃基板清洗的方法，其中所述堵片情况数据包括：检查设备堵片与否数据C1、翻转设备堵片与否数据C2、颗粒检查设备堵片与否数据C3；检查设备堵片超时数据T1、翻转设备堵片超时数据T2、颗粒检查设备堵片超时数据T3；包装设备待机时间数据T4、检查设备检查速度增幅数据N1。优选的，前述的玻璃基板清洗的方法，其中所述检查设备堵片与否数据C1由所述检查设备单片检查时间t1与预设检查时间对比获得；所述翻转设备堵片与否数据C2由所述翻转设备单片翻转间隔时间t2与预设的翻转间隔时间对比获得；所述颗粒检查设备堵片与否数据C3由所述颗粒检查设备单片检查间隔时间t3与预设的检查间隔时间对比获得；所述检查设备堵片超时数据T1、所述翻转设备堵片超时数据T2以及所述颗粒检查设备堵片超时数据T3，均由所述检查设备单片检查时间t1与预设检查时间做差获得；所述包装设备待机时间数据T4为在第一预设条件下，通过所述颗粒检查设备单片检查间隔时间t3与预设的包装设备待机时间做差获得；所述检查设备检查速度增幅数据N1为在第二预设条件下，通过公式获得；其中，所述t为预设增幅时间。优选的，前述的玻璃基板清洗的方法，其中所述调控系数包括：比例系数Kp、积分系数Ki、微分系数Kd；所述调控系数通过所述预设运算方式调节的方式为：所述比例系数Kp通过所述检查设备堵片与否数据C1、所述翻转设备堵片与否数据C2、所述颗粒检查设备堵片与否数据C3的叠加，判断调整预设百分比；所述积分系数Ki依照函数公式进行调节；其中，所述Ki′为当前积分系数，所述a1、所述a2和所述a3为调节系数，所述b为预设常数；所述微分系数Kd由所述检查设备检查速度增幅数据N1/2取整或取半整数获得，且当所述包装设备待机时间数据T4大于预设等待极限数值时，所述微分系数Kd的数值需加上常数b2。优选的，前述的玻璃基板清洗的方法，其中所述第一预设条件为：所述喷淋清洗设备、所述风刀设备、所述颗粒检查设备、所述翻转设备、所述检查设备、所述包装设备均无报警的情况下；所述检查设备单片检查时间t1<t；所述包装设备对应的包装架上的所述玻璃基板数量小于预设值。优选的，前述的玻璃基板清洗的方法，其中所述第二预设条件为：所述喷淋清洗设备、所述风刀设备、所述颗粒检查设备、所述翻转设备、所述检查设备、所述包装设备均无报警的情况下；所述包装设备对应的包装架上的所述玻璃基板数量小于预设值。借由上述技术方案，本专利技术玻璃基板清洗的方法至少具有下列优点：本专利技术技术方案中，玻璃基板清洗的方法能够用于玻璃基板清洗系统中，用作对玻璃基板清洗系统中的玻璃基板传输速度的调整，其主要对系统中风刀设备中玻璃基板的传输速度进行调整，且采用的方法是通过采集颗粒检查设备、所述翻转设备、所述检查设备以及所述包装设备处的所述玻璃基板的堵片情况数据，并基于采集到的数据对处理设备中的比例积分微分控制器的调控系数进行调节，进而根据调节后的调控系数对风刀设备中的玻璃基板传输速度进行调整。由于在玻璃基板清洗系统中，颗粒检查设备、翻转设备、检查设备、包装设备均位于风刀设备之后，即玻璃基板先通过风刀设备再依次的通过颗粒检查设备、翻转设备、检查设备、包装设备，可见基于风刀设备后方的设备的堵片情况数据来调整风刀设备中玻璃基板传输速度，能够有效的调控整个玻璃基板清洗系统中玻璃基板的堵片问题，能够避免因颗粒检查设备、翻转设备、检查设备、包装设备中玻璃基板堵片，而引起风刀设备中玻璃基板的堵片，进而避免了玻璃基板在风刀设备中长时间停留，解决了因玻璃基板长时间在风刀设备中停留而导致的玻璃基板质量问题。上述说明仅是本专利技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本专利技术的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本专利技术的较佳实施例并配合附图详细说明如后。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的一种玻璃基板清洗系统的结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的一种玻璃基板清洗的方法流程图。具体实施方式下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施例。虽然附图中显示了本公开的示例性实施例，然而应当理解，可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施例所限制。相反，提供这些实施例是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。如图1所示，本专利技术实施例提供的一种玻璃基板清洗的方法，该方法应用于玻璃基板清洗系统，所述玻璃基板清洗系统包括：本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种玻璃基板清洗的方法，其特征在于，所述方法应用于玻璃基板清洗系统，所述玻璃基板清洗系统包括：依次连接的喷淋清洗设备、风刀设备、颗粒检查设备、翻转设备、检查设备、包装设备；所述喷淋清洗设备用于对玻璃基板进行清洗；所述风刀设备用于对喷淋清洗后的所述玻璃基板进行风干；所述颗粒检查设备用于检测风干后的所述玻璃基板表面的污染物；所述翻转设备用于将平置的所述玻璃基板翻转成立置；所述检查设备用于检查所述玻璃基板的表面缺陷和内部缺陷；所述包装设备用于将清洗后的所述玻璃基板打包；处理设备，所述处理设备用于控制所述玻璃基板清洗系统的工作；所述方法包括：采集所述颗粒检查设备、所述翻转设备、所述检查设备以及所述包装设备处的所述玻璃基板的堵片情况数据，并将所述堵片情况数据传输给所述处理器；所述处理设备根据所述堵片情况数据采用预设运算方式，调节所述处理设备中比例积分微分控制器的调控系数；所述处理设备基于调节后的所述调控系数控制所述风刀设备中所述玻璃基板的传输速度。

【技术特征摘要】
1.一种玻璃基板清洗的方法，其特征在于，所述方法应用于玻璃基板清洗系统，所述玻璃基板清洗系统包括：依次连接的喷淋清洗设备、风刀设备、颗粒检查设备、翻转设备、检查设备、包装设备；所述喷淋清洗设备用于对玻璃基板进行清洗；所述风刀设备用于对喷淋清洗后的所述玻璃基板进行风干；所述颗粒检查设备用于检测风干后的所述玻璃基板表面的污染物；所述翻转设备用于将平置的所述玻璃基板翻转成立置；所述检查设备用于检查所述玻璃基板的表面缺陷和内部缺陷；所述包装设备用于将清洗后的所述玻璃基板打包；处理设备，所述处理设备用于控制所述玻璃基板清洗系统的工作；所述方法包括：采集所述颗粒检查设备、所述翻转设备、所述检查设备以及所述包装设备处的所述玻璃基板的堵片情况数据，并将所述堵片情况数据传输给所述处理器；所述处理设备根据所述堵片情况数据采用预设运算方式，调节所述处理设备中比例积分微分控制器的调控系数；所述处理设备基于调节后的所述调控系数控制所述风刀设备中所述玻璃基板的传输速度。2.根据权利要求1所述的玻璃基板清洗的方法，其特征在于，实时采集所述堵片情况数据；所述调控系数根据实时的所述堵片情况数据动态调节；所述处理设备根据动态调节的所述调控系数实时控制所述风刀设备中所述玻璃基板的传输速度。3.根据权利要求1所述的玻璃基板清洗的方法，其特征在于，所述堵片情况数据包括：检查设备堵片与否数据C1、翻转设备堵片与否数据C2、颗粒检查设备堵片与否数据C3；检查设备堵片超时数据T1、翻转设备堵片超时数据T2、颗粒检查设备堵片超时数据T3；包装设备待机时间数据T4、检查设备检查速度增幅数据N1。4.根据权利要求3所述的玻璃基板清洗的方法，其特征在于，所述检查设备堵片与否数据C1由所述检查设备单片检查时间t1与预设检查时间对比获得；所述翻转设备堵片与否数据C2由所述翻转设备单片翻转间隔时间t2与预设的翻转间隔时间对比...

【专利技术属性】
技术研发人员：李青，李赫然，王演，徐志恒，
申请(专利权)人：东旭营口光电显示有限公司，东旭光电科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：辽宁,21