平面镜片的偏心研抛装置的下研抛机构制造方法及图纸

技术编号:20969761 阅读:25 留言:0更新日期:2019-04-29 17:25
平面镜片的偏心研抛装置的下研抛机构,包括操作台,操作台上设有抛光液回收槽,抛光液回收槽内设有下研磨盘,下研磨盘上偏心放置有保持环,保持环内圈设有内齿轮,保持环受到固定在操作台上限位器的限制,保持环内放置有与内齿轮完全啮合的游星轮式保持架,游星轮式保持架上设有研磨孔;上研磨盘相对于下研磨盘偏心设置在其上方。本实用新型专利技术有效解决了平面镜片表面划伤的问题,且研抛效率高,获得的平面镜片上下表面一致性更好,研磨更加均匀。

Downward polishing mechanism of eccentric polishing device for plane lens

The lower polishing mechanism of the eccentric polishing device for plane lenses includes the operating table, which is equipped with a polishing fluid recovery trough, a lower polishing disc in the polishing fluid recovery trough, a retaining ring eccentrically placed on the lower polishing disc, and an inner gear in the retaining ring. The retaining ring is limited by the upper limit fixing on the operating table, and a planetary wheel type retaining ring is placed in the retaining ring, which is fully meshed with the inner gear. A grinding hole is arranged on the rack, and the upper grinding disc is eccentrically arranged on the upper grinding disc relative to the lower grinding disc. The utility model effectively solves the problem of scratches on the surface of the plane lens, and has high polishing efficiency, better consistency of the upper and lower surfaces of the plane lens obtained, and more uniform polishing.

【技术实现步骤摘要】
平面镜片的偏心研抛装置的下研抛机构本申请是申请日为2018年9月27日,申请号为201821584687.8,技术名称为“平面镜片的偏心研抛装置”的技术专利申请的分案申请。
本技术涉及超精密加工装置,特别是平面镜片的偏心研抛装置。
技术介绍
超精密加工技术是现代高技术战争的重要支撑技术,是现代制造科学的发展方向。以手机为例来说,手机的更新换代速度和普及程度都是前所未有的,“低头族”一词的出现也进一步反映手机在人们日常生活的重要程度。较大的平面镜片可以作为触摸屏,小的则可以作为摄像头,平面镜片不只是手机中很重要的一部分,也广泛地应用在其他产品上,平面镜片是现代超精密加工的主要对象之一。目前,针对平面镜片的研抛装置市面上应用最普遍的是同心式的端面研抛装置,此类装置的优点在于,两平面和待加工工件的表面接触充分,研磨抛光的效率高,一次性加工的工件的数量多,结构常规简单易于实施。但是此类装置的弊端也很明显,其下研磨盘往往较大,就造成了虽然下研磨盘上内外圈角速度一样但线速度存在较大差异,内圈线速度小导致内圈处材料去除率差,从而出现了外圈的平面镜片已完成加工而圆心处的平面镜片却处于半成品状态的情况。偏心式的研抛装置可以有效规避掉上述问题,但偏心式的研抛装置受离心力作用,加工时平面镜片受离心力作用会发生水平横移,导致平面镜片表面会产生划伤,对于光学镜片而言,划伤是更严重的问题;同时研抛工具的转速不能太高,限制了研抛效率。另一方面,目前大部分研抛装置上研磨盘是从动机构,即通过摩擦力转动,下研磨盘转动带动上研磨盘转动。此结构的缺点在于,摩擦力会随着时间发生改变,从而导致上研磨盘的从动速度跟着变化,上下研磨盘的速度不一致,平面镜片的上下表面的研磨程度也存在着差异,从而影响平面镜片的光学性质。而在上研磨盘上设置动力源驱动,导致机构复杂,不易实施。综上所述,平面镜片的研抛装置结构存在着很大的改进空间。
技术实现思路
本技术的目的在于提供平面镜片的偏心研抛装置。本技术有效地解决了传统偏心研抛装置会造成平面镜片表面划伤的问题,同时可以提高研抛工具的转速,提高研抛效率;并且本技术的上下研磨盘以及工件做匀速的旋转运动,使平面镜片上下表面一致性更好,研磨更加均匀。本技术的技术方案:平面镜片的偏心研抛装置,包括下研抛机构以及上研抛机构;所述上研抛机构包括加压机架,加压机架上设有气缸,活塞杆从气缸内伸出并穿过加压机架,其下端与加长杆的上端固定联接,加长杆下端通过轴承与上研磨盘联接;所述上研磨盘设有若干连通其上下表面的注液通道,所述上研磨盘的侧表面设有外齿轮;所述下研抛机构包括操作台,操作台上设有抛光液回收槽,抛光液回收槽的底部设有排液口;所述研抛液回收槽内设有下研磨盘,下研磨盘与设于其下方的电机连接;所述下研磨盘上偏心放置有保持环,所述保持环内圈设有内齿轮,所述保持环受到固定在所述操作台上限位器的限制,保持环内放置有与所述内齿轮完全啮合的游星轮式保持架;所述游星轮式保持架上设有研磨孔;所述研磨孔的大小和形状与待加工工件相对应;所述上研磨盘相对于下研磨盘偏心设置在其上方。与现有技术相比,本技术通过内外齿轮的啮合使上下研磨盘以及游星轮式保持架同速转动,一方面通过游星轮式保持架带动工件转动,避免了下研磨盘内外圈线速度不一样而使工件下表面研磨不均匀,另一方面,上下研磨盘做稳定的匀速旋转,使镜片上下表面一致性更好;同时,保持环和游星轮式保持架完全啮合,可以有效防止平面镜片因离心力作用在加过程中发生水平横移,使表面出现划伤;由于保持环的限制作用,本技术可以提高下研磨盘的转速,提高研抛效率。结合以上可以看出,本技术结构精简,部件之间配合紧密,研磨均匀,获得的工件品质好。作为优化,所述加压机架设置在操作台上。该设计结构简单且稳定性好,具有实施方便的优点。作为优化,所述上研磨盘的形状和大小与游星轮式保持架相同。所述结构中,上研磨盘对游星轮式保持架施加的压力更加稳定,同时上研磨盘的外齿轮也与保持环的内齿轮完全啮合,使上研磨盘做和下研磨盘相同速度的旋转,使平面镜片的上下表面的一致性更好。作为优化,所述上研磨盘厚度与待加工工件厚度之和小于所述保持环高度。所述结构可以保证上研磨盘在保持环内转动,使上研磨盘的旋转更加稳定。作为优化,所述加长杆的中部通过轴承联接有添加抛光液的注液盘,所述注液盘的直径为上研磨盘直径的二分之一至三分之一,所述注液盘外部设有环状矩形槽,所述环状矩形槽上设有对应注液通道的注液孔,所述注液孔和注液通道通过输液管连通。传统的装置中添加抛光液往往直接从注液通道添加,但是每个注液通道都需对应一个添加抛光液的输液口,十分不便;所述结构有效解决了上述问题,添加抛光液时只需一个抛光液的输液口,大大简化添加抛光液的装置,同时使抛光液浇灌更均匀,提高平面镜片的品质。作为优化,所述环状矩形槽槽深为5cm~6cm;所述注液通道的直径比注液孔的直径小1cm~2cm。所述输液管为上大下小的结构,可以保证抛光液的流动通畅。研究表明,当槽深位于所述区间内时,可以有效防止抛光液因流通不畅而溢出或抛光液流速太快而发生飞溅造成的浪费以及清洁问题。作为优化,所述注液通道的数量为6个,按60°间隔设于上研磨盘的中间部分。注液孔按照该特定形式分布可以保证抛光液均匀且充足地浇灌。作为优化,所述研磨孔的数量为6个,按60°间隔设置于游星轮式保持架上。所述形式分布在保证游星轮式保持架结构的强度,使其不易损坏的前提下,使一次加工的平面镜片的数量最大化,提高装置的经济效益。作为优化,所述注液通道的俯视投影位于研磨孔的正上方。所述结构保证了每一个平面镜片都可以在充足的抛光液环境中研磨,从而获得较高的加工品质。作为优化,所述下研磨盘上设有网格状的U型槽,所述U型槽槽宽为0.4mm~0.6mm,所述U型槽深度为下研磨盘厚度的四分之一至三分之一。所述U型槽一方面使抛光液在下研磨盘上流动通畅,另一方面,可以及时带走研磨时产生的磨屑,防止磨屑对平面镜片表面造成划伤。附图说明图1是本技术的平面镜片的偏心研抛装置的结构示意图;图2是本技术的平面镜片的偏心研抛装置的下研抛机构的结构示意图;图3是本技术的平面镜片的偏心研抛装置的上研抛机构的结构示意图;图4是本技术的平面镜片的偏心研抛装置的上抛光盘与保持环的配合关系示意图;图5是本技术的平面镜片的偏心研抛装置的上抛光盘及其注液盘的俯视视图;图6是本技术的平面镜片的偏心研抛装置的游星轮式保持架的结构示意图。附图中的标记为:1-上研抛机构;11-加压机架;12-气缸;121-活塞杆;13-加长杆;14-注液盘;141-环状矩形槽;142-注液孔;15-上研磨盘;151-注液通道;152-外齿轮;16-输液管;2-下抛光机构;21-操作台;22-抛光液回收槽;221-排液口;23-下研磨盘;231-U型槽;24-电机;25-保持环;251-内齿轮;26-限位器;27-游星轮式保持架;271-研磨孔。具体实施方式下面结合附图和具体实施方式(实施例)对本技术作进一步的说明,但并不作为对本技术限制的依据。如图1~图6所示的平面镜片的偏心研抛装置,包括下研抛机构2以及上研抛机构1;所述上研抛机构本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.平面镜片的偏心研抛装置的下研抛机构,其特征在于:包括操作台(21),操作台(21)上设有抛光液回收槽(22),抛光液回收槽(22)的底部设有排液口(221);所述抛光液回收槽(22)内设有下研磨盘(23),下研磨盘(23)与设于其下方的电机(24)连接;所述下研磨盘(23)上偏心放置有保持环(25),所述保持环(25)内圈设有内齿轮(251),所述保持环(25)受到固定在所述操作台(21)上限位器(26)的限制,保持环(25)内放置有与所述内齿轮(251)完全啮合的游星轮式保持架(27);所述游星轮式保持架(27)上设有研磨孔(271);所述研磨孔(271)的大小和形状与待加工工件相对应。

【技术特征摘要】
1.平面镜片的偏心研抛装置的下研抛机构,其特征在于:包括操作台(21),操作台(21)上设有抛光液回收槽(22),抛光液回收槽(22)的底部设有排液口(221);所述抛光液回收槽(22)内设有下研磨盘(23),下研磨盘(23)与设于其下方的电机(24)连接;所述下研磨盘(23)上偏心放置有保持环(25),所述保持环(25)内圈设有内齿轮(251),所述保持环(25)受到固定在所述操作台(21)上限位器(26)的限制,保持环(25)内放置有与所述内齿轮(251)完全啮合的游星轮式保持架(27);所述游星轮式保持架(27)上设有研磨孔(271);所述研磨孔(271)...

【专利技术属性】
技术研发人员:熬雪梅袁巨龙陈芝向张万辉
申请(专利权)人:杭州智谷精工有限公司
类型:新型
国别省市:浙江,33

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