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用于电容去离子电极氮掺杂自缩式3D石墨烯及制备方法技术

技术编号:20938543 阅读:33 留言:0更新日期:2019-04-24 00:05
本发明专利技术公开一种用于电容去离子电极氮掺杂自缩式3D石墨烯及制备方法,通过加入吡咯为多孔石墨烯水凝胶合成过程中提供氮掺杂的氮源;氮掺杂在石墨烯的边缘和缺陷部位引入了氮原子,从而改善了石墨烯的电学性能和化学性能;吡咯能够防止石墨烯片层在合成和自收缩的过程中出现自堆积现象,避免孔结构在自收缩过程中的坍塌过度,从而避免了由此产生的电学和吸附性质劣化;解决了现有三维石墨烯孔结构较大,其在脱盐过程中不能更好的与阴阳离子作用,从而影响了三维石墨烯的CDI能力问题;相比于其他干燥方式,冷冻干燥处理有效地保持了石墨烯内部的孔洞结构。

Nitrogen-doped self-shrinking 3D graphene for capacitive deionization electrode and its preparation method

The invention discloses a nitrogen-doped self-shrinking 3D graphene for capacitive deionization electrode and a preparation method, which provides nitrogen-doped nitrogen source for the synthesis of porous graphene hydrogel by adding pyrrole; nitrogen atoms are introduced into the edge and defect of graphene by nitrogen-doping, thereby improving the electrical and chemical properties of graphene; pyrrole can prevent graphene sheet from being synthesized. In the process of self-shrinkage, self-accumulation phenomenon occurs, which avoids excessive collapse of pore structure in the process of self-shrinkage, thus avoiding the deterioration of electrical and adsorptive properties resulting therefrom. It solves the problem that the pore structure of existing three-dimensional graphene is bigger, and it can not interact better with anions and cations in the desalination process, thus affecting the CDI ability of three-dimensional graphene compared with other drying methods. The freeze-drying treatment effectively maintained the pore structure of graphene.

【技术实现步骤摘要】
用于电容去离子电极氮掺杂自缩式3D石墨烯及制备方法
本专利技术公开一种用于电容去离子电极氮掺杂自缩式3D石墨烯,同时还提供了该用石墨烯的制备方法,涉及电极材料领域,特别是石墨烯电极材料,及其在海水脱盐领域的应用。
技术介绍
水资源短缺是当今时代最严峻的全球挑战之一,要增加可获得的超过水文循环的供水,唯一方法是海水脱盐和水资源循环使用。其中,海水淡化提供了一种似乎无限的、稳定的高质量水供应方法,同时还不损害天然淡水生态系统。电容去离子(CDI)作为一种新兴的海水脱盐技术,与传统的除盐方法相比较优点显著。比如,离子交换法操作过程中会产生大量具有腐蚀性的二次废水,不仅造成二次污染而且需要不断更换新装置。而电容去离子过程中,无需使用任何酸、碱或者盐溶液,只需让电极放电便可完成系统的再生,因此不会产生额外的废液,也不会造成污染;与蒸馏法等热处理工艺相比,电容去离子的能量利用率相对较高;和反渗透法或者电渗析法等膜处理工艺相比,电容去离子的工艺流程相对简单,不需要提供额外的压力和高电势。因为电容去离子技术具有耗能少、环境友好、操作简便等优点,其应用潜力广泛,包括城市用水软化、海水脱盐、废水处理、制本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于电容去离子电极氮掺杂自缩式3D石墨烯的制备方法,包括以下步骤:1)在氧化石墨烯水溶液中加入吡咯,氧化石墨烯溶液和吡咯的体积比为10‑30:1,均匀混合10‑30分钟;2)取上述水溶液加入水热釜中,然后在150‑200°C下水热10‑15小时,将上述步骤得到的氧化石墨烯水凝胶用去离子水清洗3‑5次后,对石墨烯水凝胶进行自收缩处理;3)随后将收缩后石墨烯水凝胶冷冻干燥处理;4)最后将冷冻干燥后的氮掺杂多孔三维石墨烯置于管式炉中,在900‑1200°C下通Ar气退火2‑3小时,最终得到产物氮掺杂自缩式多孔三维石墨烯。

【技术特征摘要】
1.一种用于电容去离子电极氮掺杂自缩式3D石墨烯的制备方法,包括以下步骤:1)在氧化石墨烯水溶液中加入吡咯,氧化石墨烯溶液和吡咯的体积比为10-30:1,均匀混合10-30分钟;2)取上述水溶液加入水热釜中,然后在150-200°C下水热10-15小时,将上述步骤得到的氧化石墨烯水凝胶用去离子水清洗3-5次后,对石墨烯水凝胶进行自收缩处理;3)随后将收缩后石墨烯水凝胶冷冻干燥处理;4)最后将冷冻干燥后的氮掺杂多孔三维石墨烯置于管式炉中,在900-1200°C下通Ar气退火2-3小时,最终得到产物氮掺杂自缩式多孔三维石墨烯。2.如权利要求1所述的用于电容去离子电极氮掺杂自缩式3D石墨烯的制备方法,其特征在于:步骤1)涉及的氧化石墨烯水溶液的浓度为2-3mg/mL;吡咯浓度为98%。3.如权利要求1所述的用于电容去离子电极氮掺杂自缩式3D石墨烯的制备方法,其特征在于:步骤2...

【专利技术属性】
技术研发人员:钱明段蒙娜张大伟许迪欧
申请(专利权)人:吉林大学
类型:发明
国别省市:吉林,22

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