高阶负型光阻剥膜槽制造技术

本实用新型专利技术公开了一种高阶负型光阻剥膜槽，包括用于盛装剥膜液的主槽体，主槽体内设有用于固定待剥膜的基板的挂架和能够使剥膜液产生涡流的摇摆机构；主槽体的上端设有循环槽以及底部设有循环管道，该循环管道从主槽体的外部连通至循环槽，循环管道上设有用于使膜渣和溶液分离的系统马达和用于过滤分离后的溶液的过滤器。该高阶负型光阻剥膜槽通过摇摆机构形成的涡流将光刻胶干膜溶解，使干膜细小化，不仅浸泡时间短，剥膜速度快，产能高，而且对高纵横比/高深宽比的剥膜制程，于基板底部不留干膜，产品良率大大提高。

High-order negative photoresist stripping groove

The utility model discloses a high-order negative photoresist stripping film groove, which comprises a main groove body for holding the stripping liquid, a hanger for fixing the substrate to be stripped film and a swing mechanism capable of generating eddy current in the stripping liquid in the main groove body, a circulating groove at the upper end of the main groove body and a circulating pipe at the bottom, which is connected from the outside of the main groove body to the circulating groove, and a circulating pipe on the circulating pipe. A system motor for separating the membrane slag from the solution and a filter for filtering the separated solution are provided. The high-order negative photoresist stripping groove dissolves the dry film of photoresist through eddy current formed by swinging mechanism, which makes the dry film smaller. It not only has short immersion time, fast stripping speed and high productivity, but also does not leave dry film at the bottom of the substrate in stripping process with high aspect ratio/high aspect ratio, and the product yield is greatly improved.

【技术实现步骤摘要】
高阶负型光阻剥膜槽
本技术涉及一种高阶负型光阻剥膜槽。
技术介绍
光刻胶(英语：photoresist)，亦称为光阻或光阻剂，是指通过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，是光刻工艺中的关键材料，主要应用于集成电路和半导体分立器件的细微图形加工。光阻主要可分为正型光阻和负型光阻，正型光阻就是被光照射的部分可以背显影液去除，而未曝光的光阻则不会被显影液去除；而负型光阻则相反，被光照射的部分不会被显影液去除，而其余不被光所照射的区域将会被显影液去除。负型光阻因其可于剥膜后，维持高纵横比，圆形电镀即细线路(L/S＜10μm)圆形电镀的形状优于正型光阻，在未来先进制造于印刷电路板/载板/软板/3DIC封装市场中，将是不可或缺的重要材料。但现有的负型光阻在剥膜时存在产能低、均匀性不佳、制程时间长、底部有残膜等缺点。
技术实现思路
为了克服上述缺陷，本技术提供了一种高阶负型光阻剥膜槽，能够实现快速剥膜，底部无残留。本技术为了解决其技术问题所采用的技术方案是：一种高阶负型光阻剥膜槽，包括用于盛装剥膜液的主槽体，所述主槽体内设有用于固定待剥膜的基板的挂架和能够使所述剥膜液产生涡流的摇摆机构；所述主槽体的上端设有循环槽以及底部设有循环管道，该循环管道从所述主槽体的外部连通至所述循环槽，所述循环管道上设有用于使膜渣和溶液分离的系统马达和用于过滤分离后的溶液的过滤器。作为本技术的进一步改进，所述摇摆机构包括摇摆框架、驱动马达和依次平行间隔设于所述摇摆框架上的叶片，所述驱动马达能够带动每个叶片绕其轴线按设定的频率和角度摇摆。作为本技术的进一步改进，所述驱动马达为线性马达。作为本技术的进一步改进，所述叶片的厚度为0.3～50mm，所述叶片的摇摆频率为0.1～15Hz，所述叶片的摇摆行程为0.3～50mm，所述叶片的摇摆角度为15°～85°。作为本技术的进一步改进，所述叶片为金属、塑料或金属包塑形成。作为本技术的进一步改进，所述塑料包括PVC、PP、PE和PEEK至少其中之一。作为本技术的进一步改进，所述摇摆机构为两个，分别沿相互垂直的两个竖直方向设置于所述主槽体内。作为本技术的进一步改进，所述基板与其中一个摇摆机构平行设置。本技术的有益效果是：浸泡时间短，剥膜速度快，产能高；对高纵横比/高深宽比的剥膜制程，于基板底部不留干膜，产品良率提高；剥膜后的干膜将细小化，即使不溶解于溶液中，但容易随循环流入处理槽，剥膜过程不会造成产品刮伤；剥膜干膜不溶于溶液中，将其细小化容易膜渣溶液分离，则溶液更换率低，产品成本低；因将膜渣细小化，亦将其由溶液中分离，可将膜渣回收再利用，更加经济。附图说明图1为本技术结构示意图；图2为本技术Y向的摇摆机构结构示意图；图3为本技术Z向的摇摆机构结构示意图；图4为本技术沿Y向摇摆机构的剖面结构示意图；图5为本技术沿Z向摇摆机构的剖面结构示意图。结合附图，作以下说明：1——主槽体；2——基板；3——摇摆机构；4——循环槽；5——循环管道；6——系统马达；7——过滤器；31——摇摆框架；32——叶片。具体实施方式以下结合附图，对本技术的一个较佳实施例作详细说明。但本技术的保护范围不限于下述实施例，即但凡以本技术申请专利范围及说明书内容所作的简单的等效变化与修饰，皆仍属本技术专利涵盖范围之内。参阅图1-5，为本技术所述的一种高阶负型光阻剥膜槽，包括用于盛装剥膜液的主槽体1，所述主槽体内设有用于固定待剥膜的基板2的挂架和能够使所述剥膜液产生涡流的摇摆机构3；所述主槽体的上端设有循环槽4以及底部设有循环管道5，该循环管道从所述主槽体的外部连通至所述循环槽，所述循环管道上设有用于使膜渣和溶液分离的系统马达6和用于过滤分离后的溶液的过滤器7。使用时，先将剥膜药液从循环槽进入主槽体，经由下方的系统马达和循环管道达到药液平衡充满主槽体。需要去除光刻胶干膜的基板(晶圆级封装waferlevelchipsizepackage/晶粒级封装panellevelpackage/IC载板/印刷电路板PCB)经由设备机构设计固定于挂架上,通过运行放入主槽体，并通过挂架固定在主槽体内，并浸置30～120分钟，然后开启摇摆机构，摇摆机构产生涡流(相较传统喷洒式有更强大的流体力量)，使剥膜液全方位更有力量进入金属及干膜的介面，并充分接触和碰撞，将被剥膜液溶解成小固体的光刻胶干膜颗粒溶解成微细胶体的液态，从而加速光刻胶干膜的剥离，实现光刻胶干膜的快速去除。去除后的膜渣和溶液由系统马达驱动分离，分离后的溶液经过过滤器过滤后再送入主槽体循环使用。优选的，所述摇摆机构包括摇摆框架31、驱动马达和依次平行间隔设于所述摇摆框架上的叶片32，所述驱动马达能够带动每个叶片绕其轴线按设定的频率和角度摇摆。驱动马达工作时，带动摇摆框架上的叶片分别按照设定的频率和角度进行摇摆，使得主槽体内的剥膜液产生涡流，优选的，所述驱动马达为线性马达或一般轴承马达；所述叶片的厚度为0.3～50mm，所述叶片的摇摆频率为0.1～15Hz，所述叶片的摇摆行程为0.3～50mm，所述叶片的摇摆角度为15°～85°；所述叶片为金属、塑料或金属包塑形成；所述塑料包括PVC、PP、PE和PEEK至少其中之一；所述摇摆机构为两个，分别沿相互垂直的两个竖直方向设置于所述主槽体内；所述基板与其中一个摇摆机构平行设置。以机台的水平面为X向，以垂直机台的两个竖直方向分别为Y向和Z向，即在Y向和Z向上分别设置一摇摆机构。在使用时，可单独选择其中一个方向摇摆机构工作，这样可以使剥膜液全方位进入基板并充分接触和碰撞，将被剥膜液溶解成小固体的光刻胶干膜颗粒溶解成微细胶体的液态，从而加速光刻胶干膜的剥离，实现光刻胶干膜的快速去除，保证金属图形底部无残留。该高阶负型光阻剥膜槽通过设置主槽体、循环槽和循环管道形成剥膜液在主槽体内的填充和循环流动，工作时将基板通过挂架固定在主槽体内，然后通过两个摇摆机构(根据需要选择一个方向摇摆机构动作)在主槽体内产生涡流，涡流的产生可以使剥膜液全方位进入基板并充分接触和碰撞，将被剥膜液溶解成小固体的光刻胶干膜颗粒溶解成微细胶体的液态，从而加速光刻胶干膜的剥离，实现光刻胶干膜的快速去除。去除后的膜渣和溶液由系统马达驱动分离，分离后的溶液经过过滤器过滤后再送入主槽体循环使用。由此可见，该高阶负型光阻剥膜槽通过摇摆机构形成的涡流将光刻胶干膜溶解，使干膜细小化，相对现有技术具有以下优点：浸泡时间短，剥膜速度快，产能高；对高纵横比/高深宽比的剥膜制程，于基板底部不留干膜，产品良率提高；剥膜后的干膜将细小化，即使不溶解于溶液中，但容易随循环流入处理槽，剥膜过程不会造成产品刮伤；剥膜干膜不溶于溶液中，将其细小化容易膜渣溶液分离，则溶液更换率低，产品成本低；因将膜渣细小化，亦将其由溶液中分离，可将膜渣回收再利用，更加经济。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高阶负型光阻剥膜槽，包括用于盛装剥膜液的主槽体(1)，其特征在于：所述主槽体内设有用于固定待剥膜的基板(2)的挂架和能够使所述剥膜液产生涡流的摇摆机构(3)；所述主槽体的上端设有循环槽(4)以及底部设有循环管道(5)，该循环管道从所述主槽体的外部连通至所述循环槽，所述循环管道上设有用于使膜渣和溶液分离的系统马达(6)和用于过滤分离后的溶液的过滤器(7)。

【技术特征摘要】
1.一种高阶负型光阻剥膜槽，包括用于盛装剥膜液的主槽体(1)，其特征在于：所述主槽体内设有用于固定待剥膜的基板(2)的挂架和能够使所述剥膜液产生涡流的摇摆机构(3)；所述主槽体的上端设有循环槽(4)以及底部设有循环管道(5)，该循环管道从所述主槽体的外部连通至所述循环槽，所述循环管道上设有用于使膜渣和溶液分离的系统马达(6)和用于过滤分离后的溶液的过滤器(7)。2.根据权利要求1所述的高阶负型光阻剥膜槽，其特征在于：所述摇摆机构包括摇摆框架(31)、驱动马达和依次平行间隔设于所述摇摆框架上的叶片(32)，所述驱动马达能够带动每个叶片绕其轴线按设定的频率和角度摇摆。3.根据权利要求2所述的高阶负型光阻剥膜槽，其特征在于：所述驱动...

【专利技术属性】
技术研发人员：王彦智，
申请(专利权)人：王彦智，
类型：新型
国别省市：中国台湾,71