OLED显示装置制造方法及图纸

一种OLED显示装置，包括：基板、缓冲层、有源层、第一栅极绝缘层、栅极金属层、第二栅极绝缘层、源漏极金属层、钝化层、平坦化层、有机光阻层、阳极金属层、像素限定层、OLED像素层以及薄膜封装层；其中，所述有机光阻层位于所述平坦化层的表面，所述有机光阻层设置为隆起状结构。有益效果：本发明专利技术所提供的OLED显示装置，在平坦化层上设置一层隆起状结构的有机光阻层，使有机光阻层之上的发光薄膜图案层发出的光线在多个方向上出射，进一步使出射光线更加均匀，更进一步改善了显示屏幕的视角。

OLED Display Device

An OLED display device includes a substrate, a buffer layer, an active layer, a first gate insulating layer, a gate metal layer, a second gate insulating layer, a source and drain metal layer, a passivation layer, a flattening layer, an organic photoresistive layer, an anode metal layer, a pixel limiting layer, an OLED pixel layer and a film packaging layer, wherein the organic photoresistive layer is located on the surface of the flattening layer, and the organic photoresistive layer has a flattening layer. The mechanical photoresistive layer is arranged as a bulge structure. Beneficial effect: The OLED display device provided by the invention provides an organic photoresistive layer with a raised structure on the flattening layer, so that the light emitted from the pattern layer of the light-emitting film above the organic photoresistive layer can be emitted in multiple directions, further making the light emitted more uniform, and further improving the visual angle of the display screen.

【技术实现步骤摘要】
OLED显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种OLED显示装置。
技术介绍
目前的显示领域中，有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)因具有高效率、制备工艺简单、优良的特性等优点具有广阔的前景。现有技术的OLED显示装置中的发光材料层，通过精密金属掩模版，形成子像素大小的膜图案，红色发光材料层图案、绿色材料发光层图案、蓝色材料发光层图案并置沉积的像素限定层凹形部位内。现有的OLED显示装置中的像素限定层为梯形结构，使得位于像素限定层上的发光薄膜图案层发出的红色光线、绿色光线以及蓝色光线垂直于屏幕发射，造成屏幕的亮度视角限制和屏幕色偏现象。综上所述，现有的OLED显示装置，由于屏幕上的发光像素阵列为平面型，使发光薄膜图案层发出的光线垂直于屏幕，进一步导致了屏幕存在视角限制和屏幕色偏现象。
技术实现思路
本专利技术提供一种OLED显示装置，能够使发光薄膜图案层发出的光线在多个方向上出射，以解决现有的OLED显示装置，由于屏幕上的发光像素阵列为平面型，使发光薄膜图案层发出的光线垂直于屏幕，进一步导致了屏幕存在视角限制的技术问题。为解决上述问题，本专利技术提供的技术方案如下：本专利技术提供一种OLED显示装置，包括：基板、缓冲层、有源层、第一栅极绝缘层、栅极金属层、第二栅极绝缘层、源漏极金属层、钝化层、平坦化层、有机光阻层、阳极金属层、像素限定层、OLED像素层以及薄膜封装层；其中，所述第二栅极绝缘层上形成有第一通孔，所述源漏极金属层通过所述第一通孔与所述有源层连通；所述钝化层以及所述平坦化层上形成有第二通孔并暴露出所述源漏极金属层，所述阳极金属层通过所述第二通孔与所述源漏极金属层连通；所述有机光阻层位于所述平坦化层的表面，所述有机光阻层设置为隆起状结构。根据本专利技术一优选实施例，所述隆起状结构包括直线部分以及斜坡部分，所述直线部分位于所述隆起结构的顶边，所述斜坡部分位于所述隆起结构的两侧边。根据本专利技术一优选实施例，所述隆起状结构为单层膜结构。根据本专利技术一优选实施例，所述隆起状结构为双层膜结构。根据本专利技术一优选实施例，所述平坦化层的表面设置有柱状突起，所述柱状突起覆盖相邻的两所述有机光阻层的边缘。根据本专利技术一优选实施例，所述柱状突起的材质与所述像素限定层的材质相同，所述柱状突起的高度大于所述像素限定层的高度。根据本专利技术一优选实施例，所述柱状突起的高度范围为1～10um。根据本专利技术一优选实施例，所述OLED像素层包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层、金属电极层以及有机覆盖层等，不限于上述膜层。根据本专利技术一优选实施例，所述发光层还包括红色发光层、绿色发光层以及蓝色发光层。根据本专利技术一优选实施例，所述发光层为白色发光层，所述薄膜封装层上设置有间隔间隙，所述间隔间隙上设置有滤色层。本专利技术的有益效果为：本专利技术所提供的OLED显示装置，在平坦化层上设置一层隆起状结构的有机光阻层，使有机光阻层之上的发光薄膜图案层发出的光线在多个方向上出射，进一步使出射光线更加均匀，更进一步改善了显示屏幕的视角。附图说明为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术OLED显示装置结构示意图。图2为本专利技术OLED显示装置的有机光阻层的隆起结构方案一示意图。图3为本专利技术OLED显示装置的有机光阻层的隆起结构方案二示意图。图4为本专利技术OLED显示装置方案一局部放大示意图。图5为本专利技术OLED显示装置方案二局部放大示意图。图6为本专利技术OLED显示装置方案三局部放大示意图。具体实施方式以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。本专利技术所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术，而非用以限制本专利技术。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。本专利技术针对现有的OLED显示装置，由于屏幕上的发光像素阵列为平面型，使发光薄膜图案层发出的光线垂直于屏幕，进一步导致了屏幕存在视角限制的技术问题，本实施例能够解决该缺陷。如图1所示，为本专利技术OLED显示装置结构示意图。其中，本专利技术提供一种OLED显示装置，包括：基板10、缓冲层20、有源层31、第一栅极绝缘层30、栅极金属层41、第二栅极绝缘层40、源漏极金属层51、钝化层50、平坦化层60、有机光阻层71、阳极金属层72、像素限定层80、OLED像素层73以及薄膜封装层90；其中，所述第二栅极绝缘层40上形成有第一通孔42，所述源漏极金属层51通过所述第一通孔42与所述有源层31连通；所述钝化层50以及所述平坦化层60上形成有第二通孔52并暴露出所述源漏极金属层51，所述阳极金属层72通过所述第二通孔52与所述源漏极金属层51连通；所述有机光阻层71位于所述平坦化层60的表面，所述有机光阻层71设置为隆起状结构。具体地，所述基板10的材料为聚酰亚胺或玻璃；所述缓冲层20的材料为氮化硅或氧化硅其中的一种或两种；所述第一栅极绝缘层30的材料为氮化硅或氧化硅，所述第二栅极绝缘层40的材料与所述第一栅极绝缘层的材料相同；所述源漏极金属层51的材料均为钛或钛铝合金；所述栅极金属层41的材料为钼；所述有源层31的材料为金属氧化物，包括氧化铟镓锌或氧化铟锌；所述钝化层50的材料为氧化硅、氮化硅、氮硅化合物中的两种或多种的任意组合所构成的复合层结构，优选为SiO/SiNx叠层；所述平坦化层60为有机光阻层。具体地，所述有机光阻层71是在所述平坦化层60的表面，采用采用旋转涂布或者缝隙涂布法等涂布光阻溶液，光阻涂布后经历一定温度和时间的烘烤，然后使用光罩曝光，曝光之后进行显影和烘干后形成具有隆起状结构的图形。具体地，所述阳极金属层72铺设在所述有机光阻层71上，所以所述有机光阻层71的形状对所述阳极金属层72的影响比较大，由于所述OLED像素层73位于所述阳极金属层72表面，所以所述有机光阻层71的形状进而影响所述OLED像素层73的像素阵列；所述阳极金属层72是通过物理气相沉积(PVD)的方法制作氧化铟锡膜/金属膜/氧化铟锡膜的三层结构。具体地，在所述阳极金属层72之上涂布光阻层，再次经历曝光、光阻显影以及金属电极层蚀刻，然后剥离残余光阻层，形成所述OLED像素层73。具体地，所述OLED像素层73包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层、金属电极层以及有机覆盖层等，不限于上述膜层。具体地，所述像素限定层80位于所述阳极金属层72以及所述OLED像素层73的边缘两端，所述像素限定层80的高度可以大于或等于所述有机光阻层71与所述阳极金属层72的高度之和，也可以小于所述有机光阻层71与所述阳极金属层72的高度之和，由工艺需求决定。具体地，所述薄膜封装层90为三明治结构，两层无机层起隔绝水氧的作用，一层有机层夹在中间起平坦缓冲的作用。如图2所示，为本专利技术OLED显示装置本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种OLED显示装置，其特征在于，包括：基板；缓冲层，位于所述基板的表面；有源层，位于所述缓冲层的表面；第一栅极绝缘层，位于所述缓冲层的表面并覆盖所述有源层；栅极金属层，位于所述第一栅极绝缘层的表面；第二栅极绝缘层，位于所述第一栅极绝缘层的表面并覆盖所述栅极金属层，所述第二栅极绝缘层上形成有第一通孔；源漏极金属层，位于所述第二栅极绝缘层的表面，并且所述源漏极金属层通过所述第一通孔与所述有源层连通；钝化层，位于所述第二栅极绝缘层的表面并覆盖所述源漏极金属层；平坦化层，位于所述钝化层的表面，所述钝化层以及所述平坦化层上形成有第二通孔并暴露出所述源漏极金属层；有机光阻层，位于所述平坦化层的表面；阳极金属层，位于所述平坦化层的表面并完全覆盖所述有机光阻层，所述阳极金属层通过所述第二通孔与所述源漏极金属层连通；像素限定层，位于所述平坦化层的表面并覆盖所述阳极金属层的边缘两端；OLED像素层，位于所述阳极金属层的表面；薄膜封装层，位于所述基板的表面并覆盖所述有机光阻层、阳极金属层、像素限定层以及OLED像素层。其中，所述有机光阻层设置为隆起状结构。

【技术特征摘要】
1.一种OLED显示装置，其特征在于，包括：基板；缓冲层，位于所述基板的表面；有源层，位于所述缓冲层的表面；第一栅极绝缘层，位于所述缓冲层的表面并覆盖所述有源层；栅极金属层，位于所述第一栅极绝缘层的表面；第二栅极绝缘层，位于所述第一栅极绝缘层的表面并覆盖所述栅极金属层，所述第二栅极绝缘层上形成有第一通孔；源漏极金属层，位于所述第二栅极绝缘层的表面，并且所述源漏极金属层通过所述第一通孔与所述有源层连通；钝化层，位于所述第二栅极绝缘层的表面并覆盖所述源漏极金属层；平坦化层，位于所述钝化层的表面，所述钝化层以及所述平坦化层上形成有第二通孔并暴露出所述源漏极金属层；有机光阻层，位于所述平坦化层的表面；阳极金属层，位于所述平坦化层的表面并完全覆盖所述有机光阻层，所述阳极金属层通过所述第二通孔与所述源漏极金属层连通；像素限定层，位于所述平坦化层的表面并覆盖所述阳极金属层的边缘两端；OLED像素层，位于所述阳极金属层的表面；薄膜封装层，位于所述基板的表面并覆盖所述有机光阻层、阳极金属层、像素限定层以及OLED像素层。其中，所述有机光阻层设置为隆起状结构。2.根据权利要求1所述OLED显示装置，其特征在于，所述隆起状结构包括直线部分以及...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋谦，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42