一种柔性高效PECVD特气槽制造技术

技术编号:20901878 阅读:41 留言:0更新日期:2019-04-17 16:34
本实用新型专利技术提供了一种柔性高效PECVD特气槽,特气槽包括左仓室4、右仓室7,所述左仓室4内设有左滚轴8,所述右仓室7内设有右滚轴5,所述左滚轴8以及所述右滚轴5之间缠绕着金属薄片1,所述金属薄片1围绕在反应腔室10的外侧,所述金属薄片1上设有特气孔2,所述特气孔2与所述反应腔室10上的特气孔气路对应。

【技术实现步骤摘要】
一种柔性高效PECVD特气槽
本技术涉及一种光伏
,尤其是一种柔性高效PECVD特气槽。
技术介绍
太阳能电池是通过光电效应或者光化学效应直接把光能转化成电能的装置。目前,晶硅太阳能电池仍为市场上的主流,其制备过程主要包括,太阳能电池片的生产工艺流程分为硅片检测——表面制绒及酸洗——扩散制结——去磷硅玻璃——等离子刻蚀及酸洗——镀减反射膜——丝网印刷——快速烧结等。其中“镀减反射膜”,工业生产中常采用PECVD设备制备减反射膜。PECVD即等离子增强型化学气相沉积。它的技术原理是利用低温等离子体作能量源,样品置于低气压下辉光放电的阴极上,利用辉光放电使样品升温到预定的温度,然后通入适量的反应气体SiH4和NH3,气体经一系列化学反应和等离子体反应,在样品表面形成固态薄膜即氮化硅薄膜。在Si片表面生长Si3N4膜层时,会在工艺腔室和特气槽表面中同样沉积上Si3N4,随着沉积Si3N4数量的增加,特气槽上的Si3N4局部掉落在Si片表面导致产品不合格率增加。因此,需要在设备连续运行一周左右,暂停设备进行维护,将特气槽清理干净。缺点是很难把Si3N4清理干净,且耽误产量,另外会导致特本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种柔性高效PECVD特气槽,包括左仓室、右仓室,其特征在于:所述左仓室内设有左滚轴,所述右仓室内设有右滚轴,所述左滚轴以及所述右滚轴之间缠绕着金属薄片,所述金属薄片围绕在反应腔室的外侧,所述金属薄片上设有特气孔,所述特气孔与所述反应腔室上的特气孔气路对应。

【技术特征摘要】
1.一种柔性高效PECVD特气槽,包括左仓室、右仓室,其特征在于:所述左仓室内设有左滚轴,所述右仓室内设有右滚轴,所述左滚轴以及所述右滚轴之间缠绕着金属薄片,所述金属薄片围绕在反应腔室的外侧,所述金属薄片上设有特气孔,所述特气孔与所述反应腔室上的特气孔气路对应。2.根据权利要求1所述的一种柔性高效PECVD特气槽,其特征在与:所述反应腔室的截面为梯形。3.根据权利要求2所述的一种柔性高效PECVD特气槽,其特征在与:所述金属薄片的外侧还设有两个以上滚轮。4.根据权利要求2所述的一种柔性高效PECVD特气槽,其特...

【专利技术属性】
技术研发人员:范志东王峰吴翠平杨瑞臣耿小丕
申请(专利权)人:承德石油高等专科学校
类型:新型
国别省市:河北,13

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