一种基于电解槽技术集中管控平台氟化铝自动设置的方法技术

本发明专利技术公开了一种基于电解槽技术集中管控平台氟化铝自动设置的方法，包括：判断当前分子比CR所处区间；计算当前分子比CR同上一次分子比CR1对比变化率所述区间；根据所述当前分子比所处区间、所述当前分子比同上一次分子比对比变化率、电解质的温度值所处区间、噪声值所处区间形成判断依据；将所述判断依据与设置的标准状态进行对比得到对比结果；根据所述对比结果对氟化铝值进行设定。本发明专利技术通过数据采集，自动评定状态，同标准状态匹配，自动给与氟化铝设定量，同时增加异常报警功能，及时提醒查处设备异常问题。

【技术实现步骤摘要】
一种基于电解槽技术集中管控平台氟化铝自动设置的方法
本专利技术属于电解铝技术研究领域，具体的涉及一种基于电解槽技术集中管控平台氟化铝自动设置的方法。
技术介绍
传统的铝电解槽氟化铝的设定仅仅依附技术调整者的经验和操控机的自适应判断，传统的设定值给予受管理者技术差异影响和心情影响，无规范的判定设定标准，而当前操控机的自适应控制又无法识别电解槽受操作及槽况异常性的影响，从而易产生误判，导致氟化铝下料混乱，造成电解槽电解质体系变化大，槽况波动性较大。
技术实现思路
有鉴于此，为了解决上述问题，本专利技术提供一种基于电解槽技术集中管控平台氟化铝自动设置的方法。为实现上述目的及其他目的，本专利技术提供一种基于电解槽技术集中管控平台氟化铝自动设置的方法，该方法包括：判断当前分子比CR所处区间；计算当前分子比CR同上一次分子比CR1对比变化率所述区间；根据所述当前分子比所处区间、所述当前分子比同上一次分子比对比变化率、电解质的温度值所处区间、噪声值所处区间形成判断依据；将所述判断依据与设置的标准状态进行对比得到对比结果；根据所述对比结果对氟化铝值进行设定。可选地，当前分子比CR区间为CR≤A-0.1、本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于电解槽技术集中管控平台氟化铝自动设置的方法，其特征在于，该方法包括：判断当前分子比CR所处区间；计算当前分子比CR同上一次分子比CR1对比变化率所述区间；根据所述当前分子比所处区间、所述当前分子比同上一次分子比对比变化率、电解质的温度值所处区间、噪声值所处区间形成判断依据；将所述判断依据与设置的标准状态进行对比得到对比结果；根据所述对比结果对氟化铝值进行设定。

【技术特征摘要】
1.一种基于电解槽技术集中管控平台氟化铝自动设置的方法，其特征在于，该方法包括：判断当前分子比CR所处区间；计算当前分子比CR同上一次分子比CR1对比变化率所述区间；根据所述当前分子比所处区间、所述当前分子比同上一次分子比对比变化率、电解质的温度值所处区间、噪声值所处区间形成判断依据；将所述判断依据与设置的标准状态进行对比得到对比结果；根据所述对比结果对氟化铝值进行设定。2.根据权利要求1所述的一种基于电解槽技术集中管控平台氟化铝自动设置的方法，其特征在于，当前分子比CR区间为CR≤A-0.1、A-0.1＜CR＜A-0.05、A-0.05≤CR≤A、A＜CR≤B、B＜CR≤B+0.05、B+0.05＜CR≤B+0.1和B+0...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈蒲明，杨荣锋，张超，唐宗权，邱兴林，贺进，吕健，吕景阳，钟晖，张朋飞，
申请(专利权)人：重庆旗能电铝有限公司，
类型：发明
国别省市：重庆,50