氧化铝电解控制方法、存储介质及电子设备技术

本发明专利技术公开了一种氧化铝电解控制方法、存储介质及电子设备，该氧化铝电解控制方法包括：根据预设的欠量下料周期，向电解槽中加入氧化铝；获取所述电解槽的瞬时电阻斜率和平均电阻斜率；当所述瞬时电阻斜率大于等于预设的起始电阻斜率，或者所述平均电阻斜率大于等于预设的起始平均电阻斜率时，根据预设的过量下料周期，向所述电解槽中加入所述氧化铝；经过预设的第一时间段后，根据所述欠量下料周期，向所述电解槽中加入所述氧化铝。实施本发明专利技术，能够控制氧化铝浓度，提高控制精度，实现低窄浓度控制区间，提高对电解槽的状况的判断力。

【技术实现步骤摘要】
氧化铝电解控制方法、存储介质及电子设备
本专利技术涉及化工
，尤其涉及一种氧化铝电解控制方法、存储介质及电子设备。
技术介绍
在电解槽内的阴极和阳极上进行电化学反应，即电解。现有的氧化铝电解控制中一般采用槽电阻、电阻斜率和斜率累加作为控制变量，这些变量属于快时变量，能及时反映铝电解槽的槽况的瞬时波动影响。而且，现有的氧化铝电解通常为酸法氧化铝电解，酸法氧化铝电解的物理特性指标与传统的拜耳法、烧结法或联合法等工艺生产的氧化铝产品相比，在容重、粒度、安息角(流动性)、比表面积等方面有着较大的差别，进而影响氧化铝的相关特性和下料控制技术，主要表现为：酸法氧化铝电解中α相含量少、粒度分布较宽、细颗粒含量较多、磨损系数高、颗粒松装密度较小，酸法氧化铝颗粒机械性能较差，容易形成大量的细颗粒。因此，针对这些特性，现有的氧化铝电解控制方法氧化铝浓度控制精度低，容易产生对电解槽的状况的误判，同时由于电解槽容易发生阳极效应，导致氧化铝沉淀，稳定性差。然而，铝电解槽运行过程中，既要考虑快时变量，也要兼顾槽况的整体趋势状况，这样有利于提高控制精度，从而避免误判等问题。因此，开发高效先进的控制方法尤为重要，提高铝电解槽中酸法氧化铝浓度控制精度，实现低窄浓度控制区间，提高电流效率，同时，要避免阳极效应的频发，又要防止氧化铝沉淀，提高生产稳定性。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术的氧化铝电解控制方法氧化铝浓度控制精度低，容易产生对电解槽的状况的误判的不足，提供一种氧化铝电解控制方法、存储介质及电子设备。本专利技术的技术方案提供一种氧化铝电解控制方法，包括：根据预设的欠量下料周期，向电解槽中加入氧化铝；获取所述电解槽的瞬时电阻斜率和平均电阻斜率；当所述瞬时电阻斜率大于等于预设的起始电阻斜率，或者所述平均电阻斜率大于等于预设的起始平均电阻斜率时，根据预设的过量下料周期，向所述电解槽中加入所述氧化铝；经过预设的第一时间段后，根据所述欠量下料周期，向所述电解槽中加入所述氧化铝。进一步的，所述经过预设的第一时间段后，根据所述欠量下料周期，向所述电解槽中加入所述氧化铝，之前还包括：当所述瞬时电阻斜率小于等于所述起始电阻斜率，且所述平均电阻斜率小于等于所述起始平均电阻斜率时，根据所述欠量下料周期，向所述电解槽中加入所述氧化铝；当所述瞬时电阻斜率大于等于所述起始电阻斜率，且所述平均电阻斜率大于等于所述起始平均电阻斜率时，根据预设的超过量下料周期，向所述电解槽中加入氧化铝，经过预设的第二时间段后，根据所述过量下料周期，向所述电解槽中加入氧化铝。进一步的，所述经过预设的第一时间段后，根据所述欠量下料周期，向所述电解槽中加入所述氧化铝，之后还包括：获取所述电解槽的第一平均电阻和所述电解槽的阳极升指令次数；当所述第一平均电阻小于等于预设的起始槽电阻与时间序列内槽电阻差的差值，所述欠量下料周期超过预设的第三时间段，且所述阳极升指令次数超过预设阈值时，根据预设的超欠量下料周期，向所述电解槽中加入所述氧化铝；经过预设的第四时间段后，根据所述欠量下料周期，向所述电解槽中加入所述氧化铝；获取所述电解槽的阳极降指令次数；当所述阳极降指令次数超过预设阈值时，根据预设的正常下料周期，向所述电解槽中加入所述氧化铝；经过预设的第五时间段后，根据所述过量下料周期，向所述电解槽中加入所述氧化铝。进一步的，所述超欠量下料周期大于正常下料时间间隔，所述欠量下料周期大于所述正常下料时间间隔，且小于所述超欠量下料周期，所述正常下料周期等于所述正常下料时间间隔，所述过量下料周期小于所述正常下料时间间隔，所述超过量下料周期小于所述正常下料时间间隔，且小于所述过量下料周期。进一步的，所述经过预设的第五时间段后，根据所述过量下料周期，向所述电解槽中加入所述氧化铝，之后还包括：获取所述电解槽的瞬时槽电阻和第二平均电阻；当所述瞬时槽电阻小于等于所述起始槽电阻与所述时间序列内槽电阻差的差值时，则提升所述电解槽的阳极框架；当所述瞬时槽电阻大于等于所述起始槽电阻与所述时间序列内槽电阻差的之和，且所述第二平均电阻大于等于所述起始槽电阻与预设的起始时间序列内平均电阻差的之和时，经过预设的第六时间段后，降低所述阳极框架。进一步的，利用下式计算出所述瞬时槽电阻：其中，Ri为第i个时间段的瞬时槽电阻；Ui为第i个时间段的电压，Ii为第i个时间段的电流。进一步的，利用下式计算出所述瞬时电阻斜率：其中，Ki为第i个时间段的瞬时电阻斜率；Ri为第i个时间段的瞬时槽电阻；Ri-1为第i-1个时间段的瞬时槽电阻；T为电解时间。本专利技术的技术方案提供一种存储介质，所述存储介质存储计算机指令，当计算机执行所述计算机指令时，用于执行如前所述的氧化铝电解控制方法的所有步骤。本专利技术的技术方案提供一种电子设备，包括：至少一个处理器；以及，与所述至少一个处理器通信连接的存储器；其中，所述存储器存储有可被所述一个处理器执行的指令，所述指令被所述至少一个处理器执行，以使所述至少一个处理器能够：根据预设的欠量下料周期，向电解槽中加入氧化铝；获取所述电解槽的瞬时电阻斜率和平均电阻斜率；当所述瞬时电阻斜率大于等于预设的起始电阻斜率，或者所述平均电阻斜率大于等于预设的起始平均电阻斜率时，根据预设的过量下料周期，向所述电解槽中加入所述氧化铝；经过预设的第一时间段后，根据所述欠量下料周期，向所述电解槽中加入所述氧化铝。采用上述技术方案后，具有如下有益效果：通过首先根据预设的欠量下料周期，向电解槽中加入氧化铝，获取电解槽中的瞬时电阻斜率和平均电阻斜率，并与预设的起始电阻斜率和起始平均电阻斜率进行比较，根据比较结果控制氧化铝下料周期，从而能够控制氧化铝浓度，提高控制精度，实现低窄浓度控制区间，提高对电解槽的状况的判断力。附图说明参见附图，本专利技术的公开内容将变得更易理解。应当理解：这些附图仅仅用于说明的目的，而并非意在对本专利技术的保护范围构成限制。图中：图1是本专利技术一实施例提供的一种氧化铝电解控制方法的工作流程图；图2是本专利技术可选实施例提供的一种氧化铝电解控制方法的工作流程图；图3是本专利技术另一实施例提供的一种氧化铝电解控制方法的工作流程图；图4是本专利技术再一实施例提供的一种氧化铝电解控制方法的工作流程图；图5是本专利技术第六实施例提供的一种执行氧化铝电解控制方法的电子设备的硬件结构示意图。具体实施方式下面结合附图来进一步说明本专利技术的具体实施方式。容易理解，根据本专利技术的技术方案，在不变更本专利技术实质精神下，本领域的一般技术人员可相互替换的多种结构方式以及实现方式。因此，以下具体实施方式以及附图仅是对本专利技术的技术方案的示例性说明，而不应当视为本专利技术的全部或视为对专利技术技术方案的限定或限制。在本说明书中提到或者可能提到的上、下、左、右、前、后、正面、背面、顶部、底部等方位用语是相对于各附图中所示的构造进行定义的，它们是相对的概念，因此有可能会根据其所处不同位置、不同使用状态而进行相应地变化。所以，也不应当将这些或者其他的方位用语解释为限制性用语。实施例一如图1所示，图1是本专利技术一实施例提供的一种氧化铝电解控制方法的工作流程图，包括：步骤S101：根据预设的欠量下料周期，向电解槽中加入氧化铝；步骤S102：获取所述电解槽的瞬时电阻斜率和平均电阻斜率；步骤S103本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种氧化铝电解控制方法，其特征在于，包括：根据预设的欠量下料周期，向电解槽中加入氧化铝；获取所述电解槽的瞬时电阻斜率和平均电阻斜率；当所述瞬时电阻斜率大于等于预设的起始电阻斜率，或者所述平均电阻斜率大于等于预设的起始平均电阻斜率时，根据预设的过量下料周期，向所述电解槽中加入所述氧化铝；经过预设的第一时间段后，根据所述欠量下料周期，向所述电解槽中加入所述氧化铝。

【技术特征摘要】
1.一种氧化铝电解控制方法，其特征在于，包括：根据预设的欠量下料周期，向电解槽中加入氧化铝；获取所述电解槽的瞬时电阻斜率和平均电阻斜率；当所述瞬时电阻斜率大于等于预设的起始电阻斜率，或者所述平均电阻斜率大于等于预设的起始平均电阻斜率时，根据预设的过量下料周期，向所述电解槽中加入所述氧化铝；经过预设的第一时间段后，根据所述欠量下料周期，向所述电解槽中加入所述氧化铝。2.如权利要求1所述的氧化铝电解控制方法，其特征在于，所述经过预设的第一时间段后，根据所述欠量下料周期，向所述电解槽中加入所述氧化铝，之前还包括：当所述瞬时电阻斜率小于等于所述起始电阻斜率，且所述平均电阻斜率小于等于所述起始平均电阻斜率时，根据所述欠量下料周期，向所述电解槽中加入所述氧化铝；当所述瞬时电阻斜率大于等于所述起始电阻斜率，且所述平均电阻斜率大于等于所述起始平均电阻斜率时，根据预设的超过量下料周期，向所述电解槽中加入氧化铝，经过预设的第二时间段后，根据所述过量下料周期，向所述电解槽中加入氧化铝。3.如权利要求2所述的氧化铝电解控制方法，其特征在于，所述经过预设的第一时间段后，根据所述欠量下料周期，向所述电解槽中加入所述氧化铝，之后还包括：获取所述电解槽的第一平均电阻和所述电解槽的阳极升指令次数；当所述第一平均电阻小于等于预设的起始槽电阻与时间序列内槽电阻差的差值，所述欠量下料周期超过预设的第三时间段，且所述阳极升指令次数超过预设阈值时，根据预设的超欠量下料周期，向所述电解槽中加入所述氧化铝；经过预设的第四时间段后，根据所述欠量下料周期，向所述电解槽中加入所述氧化铝；获取所述电解槽的阳极降指令次数；当所述阳极降指令次数超过预设阈值时，根据预设的正常下料周期，向所述电解槽中加入所述氧化铝；经过预设的第五时间段后，根据所述过量下料周期，向所述电解槽中加入所述氧化铝。4.如权利要求3所述的氧化铝电解控制方法，其特征在于，所述超欠量下料周期大于正常下料时间间隔，所述欠量下料周期大于所述正常下料时间间隔，且小于所述超欠量下料...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭昭华，黄涌波，高春香，董宏，王永旺，徐宏雷，吴永峰，闫淑君，郭玉龙，韩硕，甄鹏，
申请(专利权)人：中国神华能源股份有限公司，神华准能资源综合开发有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11