一种真空吸盘装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种真空吸盘装置，包括：壳体，包括安装腔和与所述安装腔贯通的安装开口；吸盘装置，包括吸盘本体和环绕设置于所述吸盘本体外壁面的安装结构，所述吸盘本体开口的朝向所述安装开口相同，所述安装结构固定安装于所述安装开口的外周边缘；驱动装置，作用于所述吸盘本体，驱动所述吸盘本体沿与所述吸盘本体开口的朝向相反的方向运动。通过将吸盘装置的安装结构安装在壳体安装开口的外周边缘，吸盘装置在壳体的压力下产生压紧工件的作用力，降低了对工件表面平整度的要求，具有承载工件的能力大、对工件表面平整度要求低的优点。

【技术实现步骤摘要】
一种真空吸盘装置
本专利技术涉及真空吸盘
，具体涉及一种真空吸盘装置。
技术介绍
现有真空吸盘主要有三大类，真空泵式吸盘、气流负压式吸盘(伯努利吸盘)、无气源式吸盘。真空泵式吸盘和气流负压式吸盘(伯努利吸盘)的吸盘硬度较高，对被吸附工件的表面平整度要求较高，而且需要外接气源等其他设备，设备整体占用的体积较大，在一些空间狭小的场景难以应用。而无气源式吸盘因为采用弹力来使吸盘产生负压，虽然占用的空间较小，但是弹力的大小有限，难以使吸盘产生较大的真空度，吸附力较小，对工件表面的要求也较高。因此，亟需一种对被吸工件的表面平整度要求低、吸力强的真空吸盘装置。
技术实现思路
因此，本专利技术要解决的技术问题在于克服现有技术中的真空吸盘的吸力小、对工件的表面平整度高要求较高的缺陷，从而提供一种真空吸盘装置。为解决上述技术问题，本专利技术的技术方案如下：一种真空吸盘装置，包括：壳体，包括安装腔和与所述安装腔贯通的安装开口；吸盘装置，包括吸盘本体和环绕设置于所述吸盘本体外壁面的安装结构，所述吸盘本体开口的朝向所述安装开口相同，所述安装结构固定安装于所述安装开口的外周边缘；驱动装置，作用于所述吸盘本体本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空吸盘装置，特征在于，包括：壳体(1)，包括安装腔和与所述安装腔贯通的安装开口；吸盘装置(2)，包括吸盘本体(21)和环绕设置于所述吸盘本体(21)外壁面的安装结构(22)，所述吸盘本体(21)开口的朝向所述安装开口相同，所述安装结构(22)固定安装于所述安装开口的外周边缘；驱动装置(3)，作用于所述吸盘本体(21)，驱动所述吸盘本体(21)沿与所述吸盘本体(21)开口的朝向相反的方向运动。

【技术特征摘要】
1.一种真空吸盘装置，特征在于，包括：壳体(1)，包括安装腔和与所述安装腔贯通的安装开口；吸盘装置(2)，包括吸盘本体(21)和环绕设置于所述吸盘本体(21)外壁面的安装结构(22)，所述吸盘本体(21)开口的朝向所述安装开口相同，所述安装结构(22)固定安装于所述安装开口的外周边缘；驱动装置(3)，作用于所述吸盘本体(21)，驱动所述吸盘本体(21)沿与所述吸盘本体(21)开口的朝向相反的方向运动。2.根据权利要求1所述的真空吸盘装置，其特征在于，所述驱动装置(3)包括安装于所述吸盘装置(2)的磁体(31)；以及，安装于所述壳体(1)并与所述磁体(31)相互作用的电磁装置。3.根据权利要求2所述的真空吸盘装置，其特征在于，所述吸盘本体(21)的顶部设置有吸盘座(23)；所述吸盘座(23)具有容置所述磁体(31)的容置腔。4.根据权利要求3所述的真空吸盘装置，其特征在于，所述磁体(31)上设置有第一限位凹槽或第一限位凸起，所述容置腔内壁设置有第二限位凸起(24)或第二限位凹槽，所述第一限位凹槽与所述第二限位凸起(24)配合，所述第一限位凸起与所述第二限位凹槽配合。5.根据权利要求2所述的真空吸盘装置，其特征在于，所述壳体(1)和所述磁体(31)之间连接有弹性体，所述弹性体在压缩状态下产生的弹性力驱动所述磁体(31)沿所述吸盘本体(2...

【专利技术属性】
技术研发人员：武玉强，吴建清，江湖，刘俐兵，
申请(专利权)人：米亚索乐装备集成福建有限公司，
类型：发明
国别省市：福建,35