低雷诺数条件的等离子体合成射流激励器制造技术

本发明专利技术是低雷诺数条件的等离子体合成射流激励器，包括激励器放电腔(4)、激励器缓冲腔(2)、阴极放电电极(6)、阳极放电电极(5)和耐热硅胶。激励器放电腔(4)放置于激励器缓冲腔(2)内，耐热硅胶将阴极放电电极(6)和阳极放电电极(5)固定和密封在激励器放电腔(4)的底部。在放电电极作用下，激励器放电腔(4)内的气体变为高速气体，高速气体通过高速射流孔(3)射出到激励器缓冲腔(2)内，高速气体减速变为低速气体，低速气体通过低速射流孔(1)射出到外界，最终在激励器缓冲腔(2)射出Re不大于10^6的低速气体。本发明专利技术结构简单，稳定性好，效率高，体积小。

【技术实现步骤摘要】
低雷诺数条件的等离子体合成射流激励器
本专利技术涉及低雷诺数翼面流动的主动流动控制领域，是一种低雷诺数条件的等离子体合成射流激励器。
技术介绍
典型翼面的流动控制是航空领域的关键问题，其主要目的是解决流动分离引起的飞行器失速，推迟流动分离并且提高临界攻角是其核心任务。未来战场中，由无人机UAV,(unmannedaerialvehicle)主导的趋势日益突显。并且随着特种作战和城市任务持续缩小UAV尺寸的需求，微型飞行器MAV,(microaerialvehicle)应运而生。与传统飞行器相比，UAV或MAV一般尺寸较小或迷你，且飞行速度较低，多表现为低雷诺数飞行特性。因而在常规军事飞机大攻角下非常容易出现的流动分离失速现象，会更容易地发生在UAV和MAV上，极大威胁飞行器安全，严重制约其性能。对于低雷诺数飞行器，研究指出小展弦比翼面更有优势，因为其可以产生涡升力、抑制失速、具备高临界攻角。在此基础上，还可以通过流动控制进一步减少阻力、延缓失速、提高飞行器机动性。主动流动控制领域中，根据不同类型和功能的激励器，可以划分成多个种类，一是常见的射流控制，使用零质量通量ZNMF(zeroN本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种低雷诺数条件的等离子体合成射流激励器，其特征是：包括激励器放电腔(4)、激励器缓冲腔(2)、阴极放电电极(6)、阳极放电电极(5)和耐热硅胶，激励器放电腔(4)放置于激励器缓冲腔(2)内；激励器放电腔(4)为空心圆柱体，激励器缓冲腔(2)为空心柱体或者横截面为多边形几何截面的空心柱体，激励器放电腔(4)与激励器缓冲腔(2)的间隔板上设有四个环形阵列分布的高速射流孔(3)，激励器缓冲腔(2)上壁设有三个环形阵列分布的低速射流孔(1)或者缝开口。

【技术特征摘要】
1.一种低雷诺数条件的等离子体合成射流激励器，其特征是：包括激励器放电腔(4)、激励器缓冲腔(2)、阴极放电电极(6)、阳极放电电极(5)和耐热硅胶，激励器放电腔(4)放置于激励器缓冲腔(2)内；激励器放电腔(4)为空心圆柱体，激励器缓冲腔(2)为空心柱体或者横截面为多边形几何截面的空心柱体，激励器放电腔(4)与激励器缓冲腔(2)的间隔板上设有四个环形阵列分布的高速射流孔(3)，激励器缓冲腔(2)上壁设有三个环形阵列分布的低速射流孔(1)或者缝开口。2.根据权利要求1所述的一种低雷诺数条件的等离子体合成射流激励器，其特征是：所述激励器放电腔(4)的底部分别插入阴极放电电极(6)和阳极放电电极(5)，采用耐热硅胶将阴极放电电极(6)和阳极放电电极(5)固定和密封，所述激励器放电腔(4)的体壁和耐热硅胶均为绝缘材质。3.一种如权利要求1所述的低雷诺数条件...

【专利技术属性】
技术研发人员：李彪，周德力，蔡伟华，
申请(专利权)人：哈尔滨工业大学，
类型：发明
国别省市：黑龙江,23