一种PVD镀膜实验机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种PVD镀膜实验机，包括炉体，炉体左端设有真空腔入口，真空腔入口连接多泵体输送通道，多泵体输送通道中设有多个泵体，炉体中设有真空腔，炉体的真空腔中设有工作转架，工作转架上设有多个挂杆，炉体内设有多种不同的溅射源预留位，包括不同直径的中频圆柱磁控靶、矩形平面靶、多弧靶和离子源孔位，通过多种不同放射源包括不同直径的中频圆柱磁控靶、矩形平面靶、多弧靶和离子源孔位的更换和组合和组合，在保证PVD镀膜实验机满足其基本适用行业的基础上，可以为不同行业的镀膜及镀膜研究使用，满足多行多业对PVD镀膜实验机的需求，增加了PVD镀膜实验机的广泛适用性，本实用新型专利技术结构简单、实用性强、易于使用和推广。

【技术实现步骤摘要】
一种PVD镀膜实验机
本技术涉及实验机领域，具体是一种PVD镀膜实验机。
技术介绍
PVD镀膜是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使蒸发物与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物及其反应物沉积在工件上，作用是使某些由特殊性能（强度高、耐磨性、散热性、耐腐蚀等）的微粒喷涂在母体上，使母体获得较高的性能。现有的PVD镀膜实验机大多是根据工艺需求去配置相应的溅射源，采取配套的多种设备组成PVD模组，以求在不影响产品质量的前提下，缩短镀膜时间，提升母体性能，但是由于其多为配置型装置，难以满足不同行业的应用及膜层研发。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种PVD镀膜实验机，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种PVD镀膜实验机，包括炉体，所述炉体左端设有真空腔入口，所述真空腔入口连接多泵体输送通道，多泵体输送通道中设有多个泵体，所述炉体中设有真空腔，所述炉体的真空腔中设有工作转架，工作转架上设有多个挂杆，所述炉体内设有多种不同的溅射源预留位，包括不同直径的中频圆柱磁控靶、矩形平面靶、多弧靶和离子源孔位。作为本技术进一步的方案：所述真空腔入口连接的多泵体输送通道包括初抽泵、罗茨泵和分子泵，所述初抽泵、罗茨泵和分子泵依次连接，分子泵的出口连接真空腔入口。作为本技术再进一步的方案：所述初抽泵、罗茨泵和分子泵上均连接截止阀和流量阀。作为本技术再进一步的方案：所述工作转架上挂杆的数目为11个，且每个真空腔盖体相邻的距离为236mm。作为本技术再进一步的方案：所述炉体内真空腔的内径为1250mm,真空腔的高度为1000mm。作为本技术再进一步的方案：所述炉体内留位的不同直径的中频圆柱磁控靶包括直径为70mm的中频圆柱磁控靶和直径为100mm的中频圆柱磁控靶，其中直径为70mm的中频圆柱磁控靶为4对，直径为100mm的中频圆柱磁控靶为2对。作为本技术再进一步的方案：所述炉体的右端设有真空腔出口，真空腔出口上设有与真空腔出口相匹配的真空腔盖体。与现有技术相比，本技术的有益效果是：所述炉体内设有多种不同的溅射源预留位，包括不同直径的中频圆柱磁控靶、矩形平面靶、多弧靶和离子源孔位，通过多种不同放射源包括不同直径的中频圆柱磁控靶、矩形平面靶、多弧靶和离子源孔位的更换和组合和组合，在保证PVD镀膜实验机满足其基本适用行业的基础上，可以为不同行业的镀膜及镀膜研究使用，满足多行多业对PVD镀膜实验机的需求，增加了PVD镀膜实验机的广泛适用性，本技术结构简单、实用性强、易于使用和推广。附图说明图1为PVD镀膜实验机的结构示意图。图2为PVD镀膜实验机为装有圆柱磁控靶和矩形平面靶的示意图。图3为PVD镀膜实验机中工件转架的结构示意图。图4为PVD镀膜实验机中真空腔盖体的结构示意图。其中：炉体1、初抽泵2、罗茨泵3、分子泵4、真空腔入口5、真空腔出口6、圆柱磁控靶7、平面靶8、挂杆9、工件转架10、真空腔盖体11。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。实施例1：请参阅图1～3，本技术实施例中，一种PVD镀膜实验机，包括炉体1，所述炉体1左端设有真空腔入口5，所述真空腔入口5连接多泵体输送通道，多泵体输送通道中设有多个泵体，通过多泵体输送通道将物料输送至炉体1中，所述炉体1中设有真空腔，所述炉体1的真空腔中设有工作转架10，工作转架10上设有多个挂杆9，通过工作转架10和挂杆9搭建真空腔内的PVD镀膜构架，所述炉体1内设有多种不同的溅射源预留位，包括不同直径的中频圆柱磁控靶、矩形平面靶、多弧靶和离子源孔位，通过多种不同放射源包括不同直径的中频圆柱磁控靶、矩形平面靶、多弧靶和离子源孔位的更换和组合，在保证PVD镀膜实验机满足其基本适用行业的基础上，可以为不同行业的镀膜及镀膜研究使用，满足多行多业对PVD镀膜实验机的需求，增加了PVD镀膜实验机的广泛适用性。所述真空腔入口5连接的多泵体输送通道包括初抽泵2、罗茨泵3和分子泵4，所述初抽泵2、罗茨泵3和分子泵4依次连接，分子泵4的出口连接真空腔入口5，通过多泵体的组合使PVD镀膜实验机能够使用多种不同的物料进行镀膜加工。所述初抽泵2、罗茨泵3和分子泵4上均连接截止阀和流量阀，便于对个泵体输送工作的读取和控制。所述工作转架10上挂杆9的数目为11个，且每个真空腔盖体11相邻的距离为236mm，严格控制炉体1内工作转架10和挂杆9的尺寸，确保炉体1内精密镀膜工作的顺利开展。所述炉体1内真空腔的内径为1250mm,真空腔的高度为1000mm，确保真空腔的空间满足镀膜工作的需求。所述炉体1内留位的不同直径的中频圆柱磁控靶包括直径为70mm的中频圆柱磁控靶和直径为100mm的中频圆柱磁控靶，其中直径为70mm的中频圆柱磁控靶为4对，直径为100mm的中频圆柱磁控靶为2对，通过预留大频率的中频圆柱磁控靶，增加PVD镀膜实验机的适用范围。所述炉体1内预留的矩形平面靶为一对，且矩形平面靶子可与中频圆柱磁控靶调换实用。所述炉体1的预留的多弧靶为3只，预留的离子源孔位为一对，且多弧靶和离子源孔位可调换使用。实施例2：请参阅图4，本技术实施例在实施例1的基础上，对一种PVD镀膜实验机进行功能升级，具体为：所述炉体1的右端设有真空腔出口6，真空腔出口6上设有与真空腔出口6相匹配的真空腔盖体11，通过真空腔盖体11一方面便于维持炉体1镀膜工作时内部的真空环境，另一方面便于在镀膜完成后出料，快速的进行下一轮的镀膜工作。需要特别说明的是，本申请中各个泵体和放射源均为现有技术，本申请中设有包括炉体1，所述炉体1左端设有真空腔入口5，所述真空腔入口5连接多泵体输送通道，多泵体输送通道中设有多个泵体，通过多泵体输送通道将物料输送至炉体1中，所述炉体1中设有真空腔，所述炉体1的真空腔中设有工作转架10，工作转架10上设有多个挂杆9，通过工作转架10和挂杆9搭建真空腔内的PVD镀膜构架，所述炉体1内设有多种不同的溅射源预留位，包括不同直径的中频圆柱磁控靶、矩形平面靶、多弧靶和离子源孔位，通过多种不同放射源包括不同直径的中频圆柱磁控靶、矩形平面靶、多弧靶和离子源孔位的更换和组合，在保证PVD镀膜实验机满足其基本适用行业的基础上，可以为不同行业的镀膜及镀膜研究使用，满足多行多业对PVD镀膜实验机的需求，增加了PVD镀膜实验机的广泛适用性。对于本领域技术人员而言，显然本技术不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本技术的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本技术。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本技术的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本技术内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。此外，应当理本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种PVD镀膜实验机，包括炉体（1），其特征在于，所述炉体（1）左端设有真空腔入口（5），所述真空腔入口（5）连接多泵体输送通道，多泵体输送通道中设有多个泵体，所述炉体（1）中设有真空腔，所述炉体（1）的真空腔中设有工作转架（10），工作转架（10）上设有多个挂杆（9），所述炉体（1）内设有多种不同的溅射源预留位，包括不同直径的中频圆柱磁控靶、矩形平面靶、多弧靶和离子源孔位。

【技术特征摘要】
1.一种PVD镀膜实验机，包括炉体（1），其特征在于，所述炉体（1）左端设有真空腔入口（5），所述真空腔入口（5）连接多泵体输送通道，多泵体输送通道中设有多个泵体，所述炉体（1）中设有真空腔，所述炉体（1）的真空腔中设有工作转架（10），工作转架（10）上设有多个挂杆（9），所述炉体（1）内设有多种不同的溅射源预留位，包括不同直径的中频圆柱磁控靶、矩形平面靶、多弧靶和离子源孔位。2.根据权利要求1所述的PVD镀膜实验机，其特征在于，所述真空腔入口（5）连接的多泵体输送通道包括初抽泵（2）、罗茨泵（3）和分子泵（4），所述初抽泵（2）、罗茨泵（3）和分子泵（4）依次连接，分子泵（4）的出口连接真空腔入口（5）。3.根据权利要求2所述的PVD镀膜实验机，其特征在于，所述初抽泵（2）、罗茨泵（3）和分子泵（4）...

【专利技术属性】
技术研发人员：夏白杨，
申请(专利权)人：深圳市智创谷技术有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44