一种高热导液相烧结碳化硅陶瓷及其制备方法技术

技术编号:20811345 阅读:37 留言:0更新日期:2019-04-10 04:12
本发明专利技术涉及一种高热导液相烧结碳化硅陶瓷及其制备方法,包括:将SiC粉体、稀土氧化物和溶剂混合,制备得到浆料,所述稀土氧化物为CeO2、Y2O3、Er2O3中的至少两种;将所得浆料经干燥、过筛、成型后得到坯体;将所得坯体经过热压烧结,得到所述高热导液相烧结碳化硅陶瓷。

【技术实现步骤摘要】
一种高热导液相烧结碳化硅陶瓷及其制备方法
本专利技术涉及一种高热导液相烧结碳化硅(SiC)陶瓷及其制备方法,属于高热导陶瓷领域。
技术介绍
高导热、电绝缘陶瓷在大规模集成电路、计算机技术、高温工业等领域具有广阔的应用前景,被大量研究并应用于电子、航空航天等领域。目前,广泛使用具有良好的电气绝缘和机械强度的氧化铝瓷(Al2O3)和氧化铍瓷(BeO)。Al2O3的热导率偏低(10~30W/m·K),不适宜在高密度、大功率的器件中应用;BeO是最具代表性的高导热陶瓷,其化学稳定性、电绝缘性以及耐热性都极好,但是BeO具有很强的毒性,现在工业生产中已逐渐停止使用。随着半导体制品向高性能、小型轻量化、高可靠性方向发展,迫切需要同时具备良好电气绝缘(电阻率>109Ω·cm)和热传导,且热膨胀系数同硅半导体相近的新材料。碳化硅(SiC)陶瓷具有高强度、高硬度、高导热、耐高温、耐腐蚀、耐磨损、性能稳定、不易老化等优良的性能,现已被广泛应用于各工业领域。根据Slack的估计,纯SiC单晶的室温本征热导率为490W/(m·K)。但SiC陶瓷是一种强共价健的化合物,为实现其致密化烧结必须添加烧结助剂本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高热导液相烧结碳化硅陶瓷的制备方法,其特征在于,包括:将SiC粉体、稀土氧化物和溶剂混合,制备得到浆料,所述稀土氧化物为CeO2、Y2O3、Er2O3中的至少两种;将所得浆料经干燥、过筛、成型后得到坯体;将所得坯体经过热压烧结,得到所述高热导液相烧结碳化硅陶瓷。

【技术特征摘要】
1.一种高热导液相烧结碳化硅陶瓷的制备方法,其特征在于,包括:将SiC粉体、稀土氧化物和溶剂混合,制备得到浆料,所述稀土氧化物为CeO2、Y2O3、Er2O3中的至少两种;将所得浆料经干燥、过筛、成型后得到坯体;将所得坯体经过热压烧结,得到所述高热导液相烧结碳化硅陶瓷。2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述SiC粉体的粒径为0.1~1.0μm。3.根据权利要求1或2所述的制备方法,其特征在于,所述稀土氧化物的添加量占SiC粉体和稀土氧化物总质量的3.0~8.0wt%。4.根据权利要求1-3中任一项所述的制备方法,其特征在于,所述浆料中还包括分散剂,所述分散剂为四甲基氢氧化铵、聚丙烯酸和聚丙烯酸氨中的至少一种;优选地所述分散剂为SiC粉体和稀土氧化物总质量的0.5~1wt%。5.根据权利要求1-4中任一项所述的制备方法,其特...

【专利技术属性】
技术研发人员:姚秀敏张辉杨晓刘学建黄政仁
申请(专利权)人:中国科学院上海硅酸盐研究所
类型:发明
国别省市:上海,31

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