烹饪设备制造技术

技术编号:20804575 阅读:54 留言:0更新日期:2019-04-10 03:03
本实用新型专利技术提供了一种烹饪设备,包括:上盖,包括内盖、盖板组件和限位结构,盖板组件位于内盖上并能在预设最高位置和预设最低位置之间上下活动,盖板组件向下活动至预设最低位置时,限位结构限制盖板组件继续向下活动;煲体,其内设有内锅,内锅具有锅沿,上盖与煲体盖合且内锅中为常压状态时,盖板组件处在预设最低位置的上方且从当前位置下移至预设最低位置的活动间距为A,盖板组件与锅沿的上下间隔距离为B,且A≥B。本实用新型专利技术提供的烹饪设备,内锅中从常压状态切换为负压状态时,盖板组件能下浮与内锅相向靠近形成更紧密的密封配合,且该过程中不会出现盖板组件将内锅吸起的问题,可防止盖板组件在上盖中的连接部位过载损坏。

【技术实现步骤摘要】
烹饪设备
本技术涉及厨房器具领域,具体而言,涉及一种烹饪设备。
技术介绍
现有的烹饪设备中,内锅锅内为负压状态时,用于封盖内锅的盖板组件与内锅之间会出现吸合现象,导致盖板组件与内锅之间有一定程度的相向位移,对于现有烹饪设备来说,盖板组件与内锅盖合后,盖板组件的位置基本不变,盖板组件与内锅之间的相向位移具体体现在于,内锅被盖板组件向上提起,这时,内锅及其内食材的重力基本由盖板组件承担,会导致盖板组件在上盖中的连接部位因过载而损坏的问题。
技术实现思路
为了解决上述技术问题至少之一,本技术的目的在于提供一种烹饪设备。为实现上述目的,本技术的实施例在于提供一种烹饪设备,包括:上盖,包括内盖、盖板组件和限位结构,所述盖板组件位于所述内盖上并能相对于所述内盖在预设最高位置和预设最低位置之间上下活动,其中,所述盖板组件向下活动至所述预设最低位置时,所述限位结构能与所述盖板组件配合并限制所述盖板组件继续向下活动;煲体,其内设有内锅,所述内锅具有锅沿,所述上盖与所述煲体盖合且所述内锅中为常压状态时,所述盖板组件处在所述预设最低位置的上方且从当前位置下移至所述预设最低位置的活动间距为A,所述盖板组件与所述锅沿本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种烹饪设备,其特征在于,包括:上盖,包括内盖、盖板组件和限位结构,所述盖板组件位于所述内盖上并能相对于所述内盖在预设最高位置和预设最低位置之间上下活动,其中,所述盖板组件向下活动至所述预设最低位置时,所述限位结构能与所述盖板组件配合并限制所述盖板组件继续向下活动;煲体,其内设有内锅,所述内锅具有锅沿,所述上盖与所述煲体盖合且所述内锅中为常压状态时,所述盖板组件处在所述预设最低位置的上方且从当前位置下移至所述预设最低位置的活动间距为A,所述盖板组件与所述锅沿的上下间隔距离为B,且A≥B。

【技术特征摘要】
1.一种烹饪设备,其特征在于,包括:上盖,包括内盖、盖板组件和限位结构,所述盖板组件位于所述内盖上并能相对于所述内盖在预设最高位置和预设最低位置之间上下活动,其中,所述盖板组件向下活动至所述预设最低位置时,所述限位结构能与所述盖板组件配合并限制所述盖板组件继续向下活动;煲体,其内设有内锅,所述内锅具有锅沿,所述上盖与所述煲体盖合且所述内锅中为常压状态时,所述盖板组件处在所述预设最低位置的上方且从当前位置下移至所述预设最低位置的活动间距为A,所述盖板组件与所述锅沿的上下间隔距离为B,且A≥B。2.根据权利要求1所述的烹饪设备,其特征在于,所述盖板组件包括盖板及所述盖板上的固定环,所述上盖与所述煲体盖合且所述内锅中为常压状态时,所述固定环与所述锅沿相对且上下间隔距离为所述B。3.根据权利要求1或2所述的烹饪设备,其特征在于,所述盖板组件上设有盖板密封圈,所述上盖与所述煲体盖合时,所述盖板密封圈与所述内锅密封配合。4.根据权利要求3所述的烹饪设备,其特征在于,所述上盖与所述煲体盖合时,所述盖板密封圈的至少部分位于所述盖板组件与所述锅沿之间,其中,当所述内锅中为负压状态时,所述盖板密封圈位于所述锅沿与所述盖板组件之间的部位被所述盖板组件及所述锅沿夹紧。5.根据权利要求1或2所述的烹饪设备,其特征在于,所述内盖上设有所述限位结构。6.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员:罗嗣胜程志喜吕伟刚杨云卢均山
申请(专利权)人:佛山市顺德区美的电热电器制造有限公司
类型:新型
国别省市:广东,44

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