The invention relates to a processing method for removing sub-surface damage layer. The nano-scale polishing fluid is placed in a polishing container, the polishing product is bonded to a polishing plate and suspended in a nano-scale polishing fluid; the motor in the container stirs the nano-scale polishing fluid and continuously wriggles to impact the optical product, while the optical product suspended in the nano-scale polishing fluid rotates continuously and utilizes the polishing fluid flow. Dynamic cutting polishes the surface of optical products. Long-term peristaltic polishing can remove the damage of optical subsurface. Laser damage threshold is greatly increased.
【技术实现步骤摘要】
一种去除亚表面损伤层的加工方法
本专利技术专利属于光学产品的加工领域，尤其是一种去除亚表面损伤层的加工方法。
技术介绍
光学玻璃是无机高分子凝聚态物质，在光学磨削过程中亚表面损伤只有亚表面裂纹和表面或亚表面残余应力两种形式。传统的光学加工采用研磨、抛光的工艺路线，其对加工过程中产生的亚表面损伤难于精确测量和去除，Meanpace提到磨削过程引入的亚表面损伤深度约为膜料粒度的3倍，而对散料磨料损伤深度是磨粒粒度的1-1.8倍，这一部分亚表面损伤层极大的降低了光学产品的损伤阈值，尤其在深紫外显得格外重要。
技术实现思路
由于目前抛光工艺采用机械化学抛光方法，存在重力压抛光产品，光学产品和抛光液在重力的切削压力下，表面存在亚表面损伤破坏层，无法去除，导致损伤极低！因此，本专利技术专利的目的在于专利技术一种去除亚表面损伤层的加工方法。为了解决以上不足，本专利技术专利将纳米级抛光液放置在抛光容器中，抛光产品粘结在抛光盘上，悬浮在纳米级抛光液中；容器中的电机搅拌纳米级抛光液不断蠕动，冲击光学产品，同时，悬浮在纳米级抛光液的光学产品不断旋转，利用抛光液流动切削抛光光学产品表面，长时...
【技术保护点】
1.本专利技术涉及一种去除亚表面损伤层的加工方法，其特征在于：将纳米级抛光液放置在抛光容器中，抛光产品粘结在抛光盘上，悬浮在纳米级抛光液中；容器中的电机搅拌纳米级抛光液不断蠕动，冲击光学产品，同时，悬浮在纳米级抛光液的光学产品不断旋转，利用抛光液流动切削抛光光学产品表面，长时间的蠕动抛光作用，达到去除光学亚表面损伤层的目的。
【技术特征摘要】
1.本发明涉及一种去除亚表面损伤层的加工方法，其特征在于：将纳米级抛光液放置在抛光容器中，抛光产品粘结在抛光盘上，悬浮在纳米级抛光液中；容器中的电机搅拌纳米级抛光液不断蠕动，冲击光学产品，同时，悬浮在纳米级抛光液的光学产品不断旋转，利用抛光液流动切削抛光光学产品表面，长时间的蠕动抛光作用，达到去除光学亚表面损伤层的目的...
【专利技术属性】
技术研发人员：廖洪平，朱一村，姜心声，张正新，陈伟，陈秋华，
申请(专利权)人：福建福晶科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：福建,35
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