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本发明专利涉及一种去除亚表面损伤层的加工方法，将纳米级抛光液放置在抛光容器中，抛光产品粘结在抛光盘上，悬浮在纳米级抛光液中；容器中的电机搅拌纳米级抛光液不断蠕动，冲击光学产品，同时，悬浮在纳米级抛光液的光学产品不断旋转，利用抛光液流动切削抛...
该专利属于福建福晶科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过福建福晶科技股份有限公司授权不得商用。

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