清洁装置及采用该清洁装置的喷淋装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种清洁装置及采用该清洁装置的喷淋装置，本发明专利技术的优点在于，利用清洁装置清洁喷淋装置的喷嘴，其能够有效去除光阻残留，避免喷嘴堵塞。

Cleaning device and spraying device using the cleaning device

The invention provides a cleaning device and a spraying device adopting the cleaning device. The advantages of the invention are that the nozzle of the spraying device is cleaned by the cleaning device, which can effectively remove the residual light resistance and avoid the blockage of the nozzle.

【技术实现步骤摘要】
清洁装置及采用该清洁装置的喷淋装置
本专利技术涉及显示装置制备领域，尤其涉及一种清洁装置及采用该清洁装置的喷淋装置。
技术介绍
近来，随着社会步入信息导向社会，处理和显示大量信息的显示领域正在迅速发展，并且相应地，各种平板显示(FPD)装置已经研发出并且吸引了大量注意。FPD装置的示例包括LCD装置、等离子体显示面板(PDP)装置、场发射显示(FED)装置、电致发光显示(ELD)装置、有机发光二极管(OLED)显示装置等。FPD装置具有例如薄、轻、低功耗等优良性能，因此，FPD装置的应用领域不断扩大。特别是在大多数电子装置或移动装置中，FPD装置被用作一种用户接口。在各种平板显示(FPD)装置的制备过程中，通常需要通过光阻曝光、显影的方法制备基本结构。举例说明，基板经涂布前清洗及干燥后被传送至涂布装置处进行光阻涂布；涂布完成后，涂布有光阻的基板被传送至曝光装置处进行曝光，曝光后的基板再被传送至显影装置处进行显影，在基板上形成掩膜。其中在显影工艺中，显影液与曝光过的光阻进行化学反应，进而将所述光阻洗掉。由于显影液(TMAH)成本较高，为保证显影液能够重复利用，目前是将所有显影液回收至显影液存储槽内。显影液存储槽中显影液的浓度由显影原液(浓度为25％)和水共同调节至2.38％(除PLN制程为0.4％)。图1是显影装置示意图。请参阅图1，在所述显影工艺阶段，显影装置包括一第一显影槽10、一第二显影槽11及一第三显影槽12。一第一显影喷嘴13及一第二显影喷嘴14向第一显影槽10中淋喷显影液，使基板18上表面被喷涂显影液19。所述基板18上表面携带的部分显影液19在流经所述第二显影槽11及所述第三显影槽12时与光阻反应，其中，设置在所述第二显影槽11上方的第三显影喷嘴15及设置在所述第三显影槽12上方的第四显影喷嘴16可以选择性开启，以增强显影功能。所述基板18从所述第三显影槽12中被传送出时，所述基板18上表面携带的显影液会被显影出口的风刀17吹回所述第三显影槽12，并流回显影液存储槽100，从而使显影液回收率达到95％以上。其中，与所述基板18上的光阻反应的显影液主要为所述基板18上表面携带的显影液19，因为该显影液把光阻从所述基板18上洗掉而使显影液溶液中光阻浓度升高，此时反应的显影液溶液中存在大量的光阻颗粒，其会回流至显影液存储槽100内。上述显影工艺会存在如下问题：(1)显影液存储槽100内光阻浓度升高，当这部分显影液长期停留在第一显影喷嘴13、第二显影喷嘴14、第三显影喷嘴15、第四显影喷嘴16时(机台不工作时)，光阻凝固可能会导致第一显影喷嘴13、第二显影喷嘴14、第三显影喷嘴15、第四显影喷嘴16堵塞(喷嘴口的宽度仅150μm)；(2)第一显影槽10、第二显影槽11及第三显影槽12内光阻残渣较多，长期挥发也会导致第一显影喷嘴13、第二显影喷嘴14、第三显影喷嘴15、第四显影喷嘴16堵塞；(3)因显影装置存在不间断的排气系统(exhaust)，也会加快停留在第一显影槽10、一第二显影槽11及第三显影槽12底部的光阻残渣的挥发，进而导致第一显影喷嘴13、第二显影喷嘴14、第三显影喷嘴15、第四显影喷嘴16堵塞。而喷嘴的堵塞是造成显影相关不均匀(mura)的主要原因。因此，有必要提供一种清洗装置，来避免喷嘴堵塞。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是，提供一种清洁装置及采用该清洁装置的喷淋装置，能够有效去除光阻残留，避免喷嘴堵塞。为了解决上述问题，本专利技术提供了一种清洁装置，包括一支架、一驱动件及一滑片，所述驱动件固定在所述支架上，所述滑片能够延伸进入一欲清洁的装置的内部，所述驱动件与所述滑片连接，以驱动所述滑片在所述欲清洁的装置内移动。在一实施例中，所述清洁装置还包括一滑轨及一滑块，所述滑轨与所述支架连接或者与所述欲清洁的装置连接，所述滑轨沿所述滑片的移动方向延伸，所述滑块与所述滑片连接，且所述滑块沿所述滑轨移动以带动所述滑片沿所述滑轨移动。在一实施例中，所述支架为一可升降支架。在一实施例中，所述清洁装置还包括一限位装置，其设置在所述滑片滑行的起始端及终端，以限定所述滑片的移动位置。本专利技术还提供一种喷淋装置，包括一喷嘴及一如权利要求1所述的清洁装置，所述滑片插入所述喷嘴内，且在所述喷嘴内，所述滑片能够沿所述喷嘴的长度方向移动。在一实施例中，所述喷嘴还包括一喷口及一与所述喷口相对的顶端，所述顶端具有一狭缝，所述滑片自所述狭缝延伸至所述喷口，所述清洁装置还包括一滑轨及一滑块，所述滑轨设置在所述顶端，且沿所述喷嘴的长度方向延伸，所述滑块与所述滑片连接，且所述滑块能够沿所述滑轨移动，以带动所述滑片沿所述滑轨移动。在一实施例中，所述滑片的宽度小于所述喷口的宽度，所述滑片自所述狭缝延伸至所述喷口并突出于所述喷口。在一实施例中，在所述顶端，一密封结构设置在所述狭缝的两侧，以避免液体从所述狭缝喷出。在一实施例中，在所述喷嘴的至少一侧壁设置有多个进液口，一液体通过所述进液口传送至所述喷嘴内，并经所述喷口喷出。在一实施例中，所述清洁装置还包括一限位装置，所述限位装置设置在所述喷嘴的两端，以限定所述滑片的移动位置。本专利技术的优点在于，利用清洁装置清洁喷淋装置的喷嘴，其能够有效去除光阻残留，避免喷嘴堵塞。附图说明图1现有的显影装置示意图；图2是本专利技术清洁装置的结构示意图；图3是本专利技术喷淋装置的侧视结构示意图；图4是本专利技术喷淋装置的仰视结构示意图；图5是喷嘴的顶端的结构示意图。具体实施方式下面结合附图对本专利技术提供的清洁装置及采用该清洁装置的喷淋装置的具体实施方式做详细说明。图2是本专利技术清洁装置的结构示意图。请参阅图2，所述清洁装置2包括一支架20、一驱动件21及一滑片22。所述支架20用于支撑所述清洁装置2的其它构件。具体地说，所述支架20主要起支撑作用，其可用于支撑所述驱动件21。其中，所述支架20可以固定在欲清洁的装置上，或者所述支架20固定在其它外部结构上，本专利技术对此不进行限定。进一步，所述支架20可升降，以带动所述清洁装置2的其他构件升降。其中，具有可升降功能的支架为本领域的常规结构，本文不再赘述。所述驱动件21固定在所述支架20上。即所述支架20支撑所述驱动件21。所述驱动件21可以驱动所述清洁装置的其他构件移动，例如，所述驱动件21驱动所述滑片22移动。所述驱动件21为常规结构，具体地说其为自动控制领域惯常采用的技术手段，例如，气缸。所述滑片22与所述驱动件21直接或者间接连接。具体地说，所述滑片22可直接连接至所述驱动件21的运动件(附图中未绘示)上，或者所述滑片22通过一连接件间接地连接至所述驱动件21的运动件上。所述驱动件21的运动件运动进而带动所述滑片22移动。所述滑片22与所述驱动件21可采用本领域技术人员熟知的方式连接。例如，在本实施例中，所述驱动件21为气缸，则所述滑片22通过一连接件200连接至所述气缸的活塞杆，所述活塞杆往复移动，进而带动所述滑片22往复移动。其中，所述滑片22包括但不限于陶瓷薄片，其具有一定的刚性，且不会对欲清洁的装置后续喷出的液体的性能产生影响。所述滑片22能够延伸进入一欲清洁的装置(如图3中的喷嘴3)的内部。例如，所述滑片22插入所述欲清洁的装置的内部。在所述驱动件2本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种清洁装置，其特征在于，包括一支架、一驱动件及一滑片，所述驱动件固定在所述支架上，所述滑片能够延伸进入一欲清洁的装置的内部，所述驱动件与所述滑片连接，以驱动所述滑片在所述欲清洁的装置内移动。

【技术特征摘要】
1.一种清洁装置，其特征在于，包括一支架、一驱动件及一滑片，所述驱动件固定在所述支架上，所述滑片能够延伸进入一欲清洁的装置的内部，所述驱动件与所述滑片连接，以驱动所述滑片在所述欲清洁的装置内移动。2.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述清洁装置还包括一滑轨及一滑块，所述滑轨与所述支架连接或者与所述欲清洁的装置连接，所述滑轨沿所述滑片的移动方向延伸，所述滑块与所述滑片连接，且所述滑块沿所述滑轨移动以带动所述滑片沿所述滑轨移动。3.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述支架为一可升降支架。4.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述清洁装置还包括一限位装置，其设置在所述滑片滑行的起始端及终端，以限定所述滑片的移动位置。5.一种喷淋装置，其特征在于，包括一喷嘴及一如权利要求1所述的清洁装置，所述滑片插入所述喷嘴内，且在所述喷嘴内，所述滑片能够沿所述喷嘴的长度方向移动。6.根据权利要求5所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：魏凡，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42