化学增幅型正型感光性树脂组成物、光阻图案及其形成方法以及电子装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种化学增幅型正型感光性树脂组成物、光阻图案及其形成方法以及电子装置，该化学增幅型正型感光性树脂组成物包括：含有酸解离性保护基的聚羟基苯乙烯树脂(A)；单不饱和腈化合物(B)；光酸产生剂(C)；以及溶剂(D)，使用所述化学增幅型正型感光性树脂组成物能够改善密着性及锥度角不佳的问题。

【技术实现步骤摘要】
化学增幅型正型感光性树脂组成物、光阻图案及其形成方法以及电子装置
本专利技术涉及一种化学增幅型正型感光性树脂组成物、光阻图案及其形成方法以及电子装置，尤其涉及一种能够改善密着性及锥度角不佳问题的化学增幅型正型感光性树脂组成物、由所述化学增幅型正型感光性树脂组成物制得的光阻图案及其形成方法以及包含所述光阻图案的电子装置。
技术介绍
目前为止，在使用玻璃基板制造液晶显示元件的领域中，适合于g、h、i线曝光、价格较低廉、感度及解析性良好、可形成形状优异的光阻图案的光阻材料，大多采用以酚醛树脂作为碱可溶性树脂，且使用含有醌二叠氮基化合物作为感光性成份的正型光阻组成物(专利文献1～4)。现在，作为次世代的LCD，在一枚玻璃基板上同时形成驱动器、数位模拟变换器(DAC)、图像处理装置、视频控制器、RAM等集成电路部分与显示部分，即所谓“系统LCD”的高功能LCD的技术开发非常的盛行。本说明书中，为方便起见，将在一个基板上形成集成电路与液晶显示部分的基板称为系统LCD。在系统LCD中，替代非晶质硅、且可在600℃以下的低温工艺形成的材料为低温聚硅，相较于非晶质硅，低温聚硅的电阻小、移动度高。因此，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种化学增幅型正型感光性树脂组成物，其特征在于，包括：含有酸解离性保护基的聚羟基苯乙烯树脂(A)；单不饱和腈化合物(B)；光酸产生剂(C)；以及溶剂(D)。

【技术特征摘要】
2017.09.27 TW 1061331461.一种化学增幅型正型感光性树脂组成物，其特征在于，包括：含有酸解离性保护基的聚羟基苯乙烯树脂(A)；单不饱和腈化合物(B)；光酸产生剂(C)；以及溶剂(D)。2.根据权利要求1所述的化学增幅型正型感光性树脂组成物，其中所述单不饱和腈化合物(B)的碳素原子数为6～30。3.根据权利要求1所述的化学增幅型正型感光性树脂组成物，其中所述单不饱和腈化合物(B)选自癸烯腈、癸烯二腈、十一碳烯腈、十二碳烯腈、十三碳烯腈、十四碳烯腈、十六碳烯腈、十六碳烯二腈、十八碳烯腈、十八碳烯二腈以及二十二碳烯腈的化合物所组成的族群中至少一种。4.根据权利要求1所述的化学增幅型正型感光性树脂组成物，其中还包括碱性化合物(E)。5.根据权利要求4所述的化学增幅型正型感光性树脂组成物，其中所述碱性化合物(E)包括由式(E-1)所示的化合物：N(A)z(B)3-z式(E-1)式(E-1)中，A各自独立表示碳数为4至20的烷基、碳数为3至20的环烷基、碳数为6至20的苯基或芳烷基；B各自独立表示氢原子或碳数为1至3的烷基；z表示1至3的整数。6.根据权利要求1所述的化学增幅型正型感光性树脂组成物，还包括：具有氮原子的杂环化合物(F)，选自由下述式(F-1)至式(F-4)所示的化合物所组成的族群：于式(F-1)至式(F-...

【专利技术属性】
技术研发人员：许智航，刘骐铭，施俊安，
申请(专利权)人：奇美实业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71