具有热酸产生剂的抗反射组合物制造技术

提供新型方法和衬底，其包括含有一种或多种热酸产生剂的抗反射组合物。

【技术实现步骤摘要】
具有热酸产生剂的抗反射组合物
本专利技术涉及新型方法和衬底，其包括含有一种或多种热酸产生剂的抗反射组合物。
技术介绍
光致抗蚀剂是用于将图像转移到衬底上的感光膜。其形成负像或正像。在将光致抗蚀剂涂布在衬底上之后，经由图案化光掩模使涂层曝光于活化能来源(如紫外光)，以在光致抗蚀剂涂层中形成潜像。光掩模具有对活化辐射不透明和透明的区域，其界定需要转移到底层衬底的图像。通过使抗蚀剂涂层中的潜像图案显影来提供浮雕图像。已知光致抗蚀剂可以提供分辨率和尺寸足以用于许多现有商业应用的特征。然而，对于许多其它应用，需要可以提供亚微米级尺寸的高分辨率图像的新型光致抗蚀剂和相关材料以及工艺。用于曝光光致抗蚀剂的活化辐射的反射通常对光致抗蚀剂层中图案化的图像的分辨率造成限制。来自衬底/光致抗蚀剂界面的辐射的反射可使光致抗蚀剂中的辐射强度产生空间变化，导致显影时的非均一光致抗蚀剂线宽。辐射还可从衬底/光致抗蚀剂界面散射到光致抗蚀剂的非所意图曝光的区域中，再次导致线宽变化。散射和反射的量通常在不同区域之间变化，导致进一步的线宽非均一性。衬底形貌的变化也会引起分辨率受限问题。用于减少反射辐射问题的一种方法为使用本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法，所述方法包含：a)在衬底上涂覆一层涂料组合物，所述涂料组合物包含：1)树脂；和2)包含式(I)结构的热酸产生剂：

【技术特征摘要】
2017.09.21 US 15/7118471.一种形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法，所述方法包含：a)在衬底上涂覆一层涂料组合物，所述涂料组合物包含：1)树脂；和2)包含式(I)结构的热酸产生剂：其中Y具有式(II)结构：每个R1独立地为CN、NO2、F、Cl、Br、I或CF3；n是1到5的整数；并且X是阴离子组分；和b)在所述涂料组合物层上涂覆一层光致抗蚀剂组合物。2.根据权利要求1所述的方法，其中至少一个R1是F和/或至少一个R1是CF3和/或X是甲苯磺酸酯。3.根据权利要求1所述的方法，其中所述热酸产生剂化合物具有下式(A)、(B)或(C)结构：4.根据权利要求1所述的方法，其中式(I)的YH是以下结构中的一个：5.一种形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法，所述方法包含：a)在衬底上涂覆一层涂料组合物，所述涂料组合物包含：1)树脂；和2)包含式(I)结构的热酸产生剂：其中Y具有式(II)结构：每个R1独立地为卤素、C1-C6卤烷基、-CN、-NO2、-COR2、-COOR2、-CONR2或-SO2R2；R2独立地为氢、C1-C6烷基、C3-C6环烷基或苯基，其能够任选地被取代；n是1到5的整数；并且X是阴离子组分；和b)...

【专利技术属性】
技术研发人员：李晶真，林载峰，
申请(专利权)人：罗门哈斯电子材料韩国有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR