基板检查装置及基板检查方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板检查装置以及基板检查方法。基板检查装置(1)是对形成有相互邻接并相向的配线(P1)、配线(P2)的基板(100)进行检查的基板检查装置，具备：第一探针(Pr)，用于接触配线(P1)的一端部；第二探针(Pr)，用于接触配线(P2)的一端部；电容测定部(31)，经由第一探针(Pr)及第二探针(Pr)，而将配线(P1)与配线(P2)之间的静电电容作为线间电容(Cx)来测定；以及第一判定部(22)，根据线间电容(Cx)来判定配线(P1)、配线(P2)中的至少一个配线的状态。

【技术实现步骤摘要】
基板检查装置及基板检查方法
本专利技术涉及一种对基板进行检查的基板检查装置及基板检查方法。
技术介绍
从前以来，已知有如下的技术：使检查对象的电路基板密接在上表面粘贴有绝缘膜的平板状的电极的所述绝缘膜上，以测定形成在电路基板上表面的焊盘(land)与电极之间的静电电容，并对所测定的静电电容与从良品基板获得的检查用基准数据进行比较，由此检查电路基板上表面的焊盘与电路基板下表面的焊盘之间的导通状态(例如，参照日本专利公开公报特开2001-13192号公报)。但是，在所述技术中，形成在电路基板上表面的配线图案与电极，相隔了将电路基板的厚度与绝缘膜的厚度相加所得的厚度而相对向，因此，配线图案与电极的距离变长。配线图案和电极之间产生的静电电容与配线图案和电极的距离成反比，因此，若配线图案与电极的距离变长，则配线图案与电极之间产生的静电电容减少。因此，形成在电路基板上表面的配线图案与电极之间产生的静电电容，变得比形成在电路基板下表面的配线图案与电极之间产生的静电电容小。其结果是，与对于形成在电路基板下表面的配线图案的检查精度相比，对于形成在电路基板上表面的配线图案的检查精度会下降。
技术实现思路
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【技术保护点】
1.一种基板检查装置，对形成有相互邻接并相向的第一配线与第二配线的基板进行检查，所述基板检查装置的特征在于包括：第一探针，用于接触所述第一配线的一端部；第二探针，用于接触所述第二配线的一端部；电容测定部，经由所述第一探针及所述第二探针，而将所述第一配线与所述第二配线之间的静电电容作为线间电容来测定；以及第一判定部，根据所述线间电容，来判定所述第一配线与所述第二配线中的至少一个的配线的状态。

【技术特征摘要】
2017.09.25 JP 2017-1832751.一种基板检查装置，对形成有相互邻接并相向的第一配线与第二配线的基板进行检查，所述基板检查装置的特征在于包括：第一探针，用于接触所述第一配线的一端部；第二探针，用于接触所述第二配线的一端部；电容测定部，经由所述第一探针及所述第二探针，而将所述第一配线与所述第二配线之间的静电电容作为线间电容来测定；以及第一判定部，根据所述线间电容，来判定所述第一配线与所述第二配线中的至少一个的配线的状态。2.根据权利要求1所述的基板检查装置，其特征在于，当所述线间电容大于作为事先设定的范围的上限值的线间上限值时，所述第一判定部判定所述第一配线与所述第二配线中的至少一个的配线的线宽为粗。3.根据权利要求1或2所述的基板检查装置，其特征在于，当所述线间电容小于作为事先设定的范围的下限值的线间下限值时，所述第一判定部判定所述第一配线与所述第二配线中的至少一个的配线的线宽为细或为断线不良。4.根据权利要求1或2所述的基板检查装置，其特征在于，当所述线间电容小于作为事先设定的范围的下限值的线间下限值、且大于事先设定为比所述线间下限值小的值的线间辨别值时，所述第一判定部判定所述第一配线与所述第二配线中的至少一个的配线的线宽为细，且当所述线间电容小于所述线间辨别值时，所述第一判定部判定所述第一配线与所述第二配线中的至少一个的配线为断线不良。5.根据权利要求1至4中任一项所述的基板检查装置，其特征在于还包括：第一断线位置推断部，根据所述线间电容来推断断线的位置。6.根据权利要求5所述的基板检查装置，其特征在于，所述第一断线位置推断部根据所述线间电容与事先设定的线间基准电容的比，来推断断线的位置。7.根据权利要求1至6中任一项所述的基板检查装置，其特征在于，所述电容测定部进而将以覆盖所述基板的一侧的面的方式相向配置的导体板与所述第一配线之间的静电电容作为配线电容来测定，且所述基板检查装置还包括：第二判定部，根据所述配线电容来判定所述第一配线的状态。8.根据权利要求7所述的基板检查装置，其特征在于，当所述配线电容大于作为事先设定的范围的上限值的配线上限值时，所述第二判定部判定所述第一配线的线宽为粗。9.根据权利要求7或8所述的基板检查装置，其特征在于，当所述配线电容小于作为事先设定的范围的下限值的配线下限值时，所述第二判定部判定所述第一配线的线宽为细或为断...

【专利技术属性】
技术研发人员：椹木雅也，
申请(专利权)人：日本电产理德股份有限公司，
类型：发明
国别省市：日本,JP