The utility model discloses a water washing and spraying device suitable for acid gas and dust environment, which relates to the technical field of making process gas treatment equipment in semiconductor manufacturing process, including front and back end water washing devices, first and second reaction chambers, cooling towers and wastewater tanks, front end water washing devices and first reaction chambers are connected by connecting pipes, first reaction chamber and second reaction chamber. The chamber is connected by two connecting pipes, the second reaction chamber is connected with the inlet end of the back-end water washing device, the cooling tower is connected with the outlet end of the back-end water washing device, and the front-end and back-end water washing devices are connected with the wastewater tank through connecting hoses respectively. After the dust and acid gases in the exhaust gas pass through the front-end washing device, they fall to the bottom of the device and flush into the wastewater tank along the water flow. Then the organic matter in the exhaust gas enters the first and second reaction chambers to react fully. After the washing and cooling of the back-end washing device and cooling tower, the dust and acid gases reach the discharge standard and are discharged from the outlet.
【技术实现步骤摘要】
一种适用于酸性气体、粉尘环境的水洗喷淋装置
本技术涉及半导体制造过程中制成工艺气体处理设备的
,具体涉及一种适用于酸性气体、粉尘环境的水洗喷淋装置。
技术介绍
在半导体制造过程中既有二氧化硫、氮氧化物、含氟气体等有害废气外排,也有大量的粉尘伴随废气排放到环境中,造成环境空气污染。应用在半导体行业的传统废气处理设备在长时间运行中会因为废气中含有的粉尘导致废气处理设备反应腔堵塞,缩短设备的维护周期,影响工厂的产能,同时,在长时间运行中会因为废气中的酸性气体加速腐蚀设备的金属管路及连接厂务排风的金属管路,造成气体泄漏,导致安全事件发生。中国专利申请号为CN107051092A公开了一种废气处理设备,包括:喷淋净化装置,包括塔体和喷淋机构,塔体具有容纳腔,塔体内沿底部到顶部依次设有旋流结构层和填料层以将容纳腔分隔为第一腔室、第二腔室和第三腔室,塔体的底部设有与第一腔室连通的进气口和出水口,塔体的顶部设有与第三腔室连通的出气口;喷淋机构包括第一喷淋组件和第二喷淋组件;气体净化装置,包括具有净化腔的本体,本体上设有与净化腔连通的进风口和出风口,进风口与出气口连通,净化腔包括等离子反应腔,等离子反应腔内设有等离子电场发生器。中国专利申请号为CN107051067A公开了一种一体化废气处理设备,包括:降温装置,包括壳体和降温喷淋机构,壳体具有降温腔,降温喷淋机构设于降温腔内,降温腔内从降温进气口至降温出气口设有多个隔板以将降温腔分隔为多个降温区,隔板上开设有通孔;喷淋净化装置,包括塔体和净化喷淋机构,塔体具有容纳腔,塔体上设有与容纳腔连通的净化进气口、净化出水口和净 ...
【技术保护点】
1.一种适用于酸性气体、粉尘环境的水洗喷淋装置,其特征在于:包括前端水洗装置(1)、第一反应腔(2)、第二反应腔(3)、后端水洗装置(4)、冷却塔(5)和废水箱(11),所述前端水洗装置(1)包括前端水洗腔体(101)和安装在前端水洗腔体(101)上的进气法兰(102)、出气法兰一(103)和出水法兰一(104),所述进气法兰(102)和出气法兰一(103)分别竖直焊接在前端水洗腔体(101)的顶部左侧和右侧,所述出水法兰一(104)竖直焊接在前端水洗腔体(101)的底部并通过连接软管一(9)和废水箱(11)连接,所述前端水洗腔体(101)的左侧上部和下部分别水平焊接有喷头法兰一(106)和喷头法兰二(107),所述前端水洗腔体(101)的右侧下部水平焊接有喷头法兰三(108),所述喷头法兰一(106)、喷头法兰二(107)和喷头法兰三(108)内均设有喷头一(105);所述第一反应腔(2)包括反应腔一(21)和主进气法兰一(22),所述主进气法兰一(22)设于反应腔一(21)的顶部中间,所述出气法兰一(103)通过连接管道一(6)和主进气法兰一(22)连接并且连接管道一(6)上设有控 ...
【技术特征摘要】
1.一种适用于酸性气体、粉尘环境的水洗喷淋装置,其特征在于:包括前端水洗装置(1)、第一反应腔(2)、第二反应腔(3)、后端水洗装置(4)、冷却塔(5)和废水箱(11),所述前端水洗装置(1)包括前端水洗腔体(101)和安装在前端水洗腔体(101)上的进气法兰(102)、出气法兰一(103)和出水法兰一(104),所述进气法兰(102)和出气法兰一(103)分别竖直焊接在前端水洗腔体(101)的顶部左侧和右侧,所述出水法兰一(104)竖直焊接在前端水洗腔体(101)的底部并通过连接软管一(9)和废水箱(11)连接,所述前端水洗腔体(101)的左侧上部和下部分别水平焊接有喷头法兰一(106)和喷头法兰二(107),所述前端水洗腔体(101)的右侧下部水平焊接有喷头法兰三(108),所述喷头法兰一(106)、喷头法兰二(107)和喷头法兰三(108)内均设有喷头一(105);所述第一反应腔(2)包括反应腔一(21)和主进气法兰一(22),所述主进气法兰一(22)设于反应腔一(21)的顶部中间,所述出气法兰一(103)通过连接管道一(6)和主进气法兰一(22)连接并且连接管道一(6)上设有控制阀(7),所述反应腔一(21)的底部设有出气法兰二(25),所述第二反应腔(3)包括反应腔二(31)和主进气法兰二(32),所述主进气法兰二(32)设于反应腔二(31)的顶部中间,所述出气法兰二(25)和主进气法兰二(32)通过连接管道二(8)连接在一起,所述反应腔二(31)的底部和后端水洗装置(4)连接,所述后端水洗装置(4)包括后端水洗腔体(41)和设于水洗腔体(41)内的喷头二(42),所述喷头二(42)对称设于后端水洗腔体(41)的左右两侧,所述后端水洗腔体(41)的顶部左边设有进气端,顶部右边设有出气端,后端水洗腔体(41)的进气端和反应腔二(31)的底部直接连接,后端水洗腔体(41)的出气端和冷却塔(5)的底部直接连接,所述后端水洗腔体(41)的底部设有出水法兰二(43)并通过连接软管二(10)和废水箱(11)连接,所述冷却塔(5)内部均布设有冷却板(51),所述冷却塔(5)内部的中间和上部分别设...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨春水,司马超,张坤,曹小康,赵力行,邹昭平,蒋俊海,于浩,
申请(专利权)人:安徽京仪自动化装备技术有限公司,
类型:新型
国别省市:安徽,34
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