【技术实现步骤摘要】
一种吹扫接头装置及吹扫系统
本申请涉及半导体制备领域,具体涉及一种吹扫接头装置及吹扫系统。
技术介绍
随着半导体技术的不断发展,作为基础工艺的晶圆制造受到越来越多的关注。晶圆制造过程中的反应废气通过与所述原子层沉积设备的炉内连接的排气管从炉尾排出,由于排气管道很长,其中废气过炉尾排气管远离炉内的排出段时,由于排气管排出段离远离炉内,导致废气温度的骤降,废气和周围的水汽反应,会生成很多颗粒物,这些颗粒物会聚集在排气管的内壁,通过颗粒物的不断积累会堵塞排气管,并且,这些附着的颗粒物达到一定程度后,容易飘落到炉内,并且容易落到晶圆表面上,一旦落在晶圆表面上,会在晶圆表面形成各类缺陷(例如是球缺陷),使得产品良率显著降低。针对这个问题,目前的处理方法是将排气管道从原子层沉积设备上拆卸后,向排气管内喷洒溶剂(如稀释剂)来清洗颗粒物,但排气管的拆卸过程繁琐且消耗一定的人力物力。因此,如何提供一种排气管自动清洁装置是本领域技术人员亟待解决的一个技术问题。
技术实现思路
本申请的目的在于提供一种吹扫接头装置,以解决现有技术中需要将排气管道先拆下再清洗的问题。本申请提供了一种吹扫接头装 ...
【技术保护点】
1.一种吹扫接头装置,其特征在于,包括:壳体;气道,设置在所述壳体内,其中,一端为吹扫气接入端,吹扫气接入端与一吹扫气体源连接,另一端为吹扫气接出端,与一待吹扫装置连接;活塞,用于打开或封堵所述气道,并可移动地设置在所述壳体中;以及开关,用于控制所述活塞封堵或打开所述气道。
【技术特征摘要】
1.一种吹扫接头装置,其特征在于,包括:壳体;气道,设置在所述壳体内,其中,一端为吹扫气接入端,吹扫气接入端与一吹扫气体源连接,另一端为吹扫气接出端,与一待吹扫装置连接;活塞,用于打开或封堵所述气道,并可移动地设置在所述壳体中;以及开关,用于控制所述活塞封堵或打开所述气道。2.根据权利要求1所述的吹扫接头装置,其特征在于,包括:所述壳体外包裹一层加热层。3.根据权利要求2所述的吹扫接头装置,其特征在于,所述加热层上设有加热开关,以控制所述加热层的开启或关闭。4.根据权利要求1所述的吹扫接头装置,其特征在于,所述开关为气体驱动开关,并与一驱动气体源连接。5.一种吹扫系统,其特征在于,包括:吹扫气体源,用于提供吹扫气体源;气体流量控制器,连接至所述吹扫气体源,用于调整吹扫气体源压力;如权1至...
【专利技术属性】
技术研发人员:佘广超,敖海林,魏巍,
申请(专利权)人:上海华力微电子有限公司,
类型:发明
国别省市:上海,31
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