一种粘合薄膜制造技术

技术编号:20711739 阅读:38 留言:0更新日期:2019-03-30 15:32
本发明专利技术提供一种用于有机电致发光显示元件或有机电致发光照明元件的粘合薄膜,含有一层或多层的基膜以及一层或多层的胶粘剂层,所述基膜为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜;在304nm至312nm的波长范围内,所述粘合薄膜的吸光度范围为1.5%至5.0%;所述粘合薄膜在使用中临时性地粘合在有机电致发光显示元件或有机电致发光照明元件的发光面一侧。该粘合薄膜应在与有机EL基板贴合时具有良好的贴合性、气泡排除性、返工性。另外在被激光切割时不产生可能影响后续工程的异物。

【技术实现步骤摘要】
一种粘合薄膜
本专利技术涉及有机电致发光照明元件或有机电致发光显示元件(以下合并简称有机EL元件)制造过程中使用的表面保护膜。
技术介绍
有机EL元件的制造工程中,先将玻璃基板、有机EL发光层、密封层材料复合组成有机EL基板后,再切割成所需尺寸。因激光会对被切割物表面产生热烧蚀,有机EL元件制造过程中需要一种在切割,特别是激光切割时保护有机EL基板的保护性粘合薄膜。该粘合薄膜应在与有机EL基板贴合时具有良好的弱粘合性、气泡排除性、再粘合性。另外在被激光切割时不产生影响后续工程的异物。作为与上述有机EL元件用粘合薄膜相关的具体例子,例如在专利CN200910203670.2中公开的激光加工用粘合薄膜,该粘合薄膜通过使用对355nm激光的蚀刻率在一定范围内的基膜、胶粘剂组合,使得该粘合薄膜难被蚀刻,从而减少粘合薄膜在激光加工工程中产生的碎屑。为了得到所需的蚀刻率,该专利公开中优选了聚乙烯(以下简称PE)、聚丙烯(以下简称PP)、聚醋酸乙烯酯(以下简称PVAc)等聚烯烃类薄膜作为基材,并在其实施例中体现。而该专利公开中并未详述以聚对苯二甲酸乙二醇酯(以下简称PET)薄膜作为基材的粘合薄膜。另外,例如在CN200480011138.6中公开的激光加工用粘合薄膜,该粘合薄膜通过控制对355nm激光的吸光系数、折射率、透光率或蚀刻率,或密度、拉伸强度或总结合能,使得该粘合薄膜比被加工物难加工,从而减少粘合薄膜在激光加工工程中产生的碎屑。为了得到所需的物理性质,该专利公开中优选了PE、PP、PVAc等聚烯烃类薄膜作为基材,并在实施例中体现。该专利中描述了以PET薄膜作为基材的激光加工用薄膜,这些薄膜作为对比例,无法满足相应的吸光系数或透光率要求,在激光加工中被切断并产生大量碎屑。上述技术所述的激光加工用薄膜,不能提供以PET为基材的光学级激光切割用保护膜。
技术实现思路
考虑到现有技术中,因激光会对被切割物表面产生热烧蚀,有机EL元件制造过程中需要一种在切割,特别是激光切割时保护有机EL基板的保护性粘合薄膜。为了解决现有技术的缺陷,本专利技术提供一种用于有机EL元件制造过程的粘合薄膜。该粘合薄膜与有机EL基板贴合时具有良好的贴合性、气泡排除性、返工性。另外在被激光切割时不产生可能影响后续工程的异物。本专利技术提供一种用于有机EL元件的粘合薄膜,含有一层或多层的基膜以及一层或多层的胶粘剂层,所述基膜为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜;在304nm至312nm的波长范围内,所述粘合薄膜的吸光度范围为1.5%至5.0%;所述粘合薄膜在使用中临时性地粘合在有机电致发光显示元件或有机电致发光照明元件的发光面一侧。本专利技术中,考虑到该薄膜应能够被所述激光切割,且切割后少产生或不产生异物,在304nm至312nm的波长范围内,所述粘合薄膜的吸光度范围优选为2.0%至3.0%。所述粘合薄膜可以与一层或多层离型膜进行复合以保护其粘合面。所述吸光度范围不包含该离型膜。本专利技术中所述的临时性粘合是指,该粘合薄膜在有机EL元件制造过程中粘合在有机EL元件表面,加工完成后剥离并除去该粘合薄膜。该粘合薄膜不留存在完成的有机EL元件中。本专利技术所述的粘合薄膜,其吸光度在1.5%至5.0%之间,则该粘合薄膜被激光切割时产生的异物数量较少,或不产生异物。所述粘合薄膜进一步优选为被激光切割后,在被切割断面至薄膜内侧50μm、宽度100μm的范围内的异物数量在100个以内。本专利技术中,上述粘合薄膜被激光切割后,上述范围内的异物数量更进一步优选为50个以内,最优选为10个以内。本专利技术中所述的异物是指任何可以在光学显微镜下被观察到颗粒状不透明物体,主要是,但不限于,源自粘合薄膜的粉尘和碎屑。当粘合薄膜被激光切割后,在粘合薄膜表面,或粘合薄膜与有机EL基板之间,或粘合薄膜的基膜、粘着层内部产生异物时,对后续制造过程中的曝光工程产生影响,抑或该异物被带入最终产品,导致产品不良率上升。若要防止不良率上升,则需要增加清洁工序,使得制造成本增加。本专利技术所述的粘合薄膜,在激光切割过程中少产生或不产生异物,可以降低不良率或者省去清洁工序,使得制造成本降低。本专利技术通过控制在304nm至312nm的波长范围内,粘合薄膜的吸光度范围,减少激光切割时异物的产生。进一步的,所述粘合薄膜与有机EL元件粘合时,每297mm×210mm面积内产生的气泡数在100个以内。本专利技术中,上述粘合薄膜与有机EL元件粘合时,上述面积内产生的气泡数优选为50个以下,更进一步优选为10个以下。本专利技术中所述的气泡是指粘合薄膜与有机EL元件粘合时,产生于粘合薄膜与被加工物之间,其最小外切圆直径5mm以上的气泡。本专利技术中所述的粘合薄膜与有机EL元件粘合的方法可以选择如下方法,但不限于此:优选在洁净室(千级以上)内进行。手持297mm×210mm尺寸样品一角,将与之相对角放置到被加工物上,将手持端自然匀速放下,贴合速度3秒/张。贴合后静置1分钟,标记直径5mm以上的气泡数量,计算数量。当粘合薄膜与有机EL元件粘合时,若产生气泡,会粘附空气中以及激光切割产生的碎屑、粉尘,使得异物数量增多,产品边缘质量不良。另外,气泡本身也会对后续制程产生不良影响。本专利技术通过控制基材厚度和胶粘剂的粘着力来控制气泡数量。本专利技术所述的粘合薄膜,在与有机EL元件粘合时,产生较少气泡或不产生气泡,可以提升产品边缘质量。并有利于后续制造过程。考虑到激光切割过程中,粘合薄膜及有机EL基板会被切割用的激光加热,若因此导致粘合薄膜的雾度值上升,将会对后续制程中的曝光工程产生不良影响,甚至无法完成产品生产。进一步的,所述粘合薄膜经150℃热处理30分钟后,雾度值的变化量小于8%。本专利技术中,上述粘合薄膜经上述热处理后,雾度值的变化量更进一步优选为小于4%,最优选为小于2%。进一步的,考虑到所述基膜的雾度变化量会影响所述粘合薄膜的雾度变化量,所述粘合薄膜中所含基膜经上述热处理后,雾度值的变化量优选小于7%;雾度值的变化量进一步优选小于3%;更进一步优选小于1%。所谓雾度,是指偏离入射角2.5°以上的光强度与总透射光强度的比值,雾度越大,表明薄膜光泽以及透明度越差。本专利技术中所述雾度值变化量是指雾度值的绝对变化量。考虑到PET薄膜中的低聚物受热析出会使PET薄膜的雾度值上升,本专利技术进一步优选通过使用带有低聚物阻隔性的PET薄膜作为基膜,得到经热处理后雾度值变化小的粘合薄膜。考虑到粘合薄膜受热收缩会使加工中的有机EL元件边缘品质下降,并且可能造成有机EL元件表面弯曲,导致运输性能变差,进一步的,所述粘合薄膜中所含基膜经150℃热处理30分钟后,MD方向上的热收缩率Hm以及TD方向上的热收缩率Ht,满足下列[1]、[2]及[3]式:[1]0≦|Hm|≦0.7%;[2]0≦|Ht|≦0.7%;[3]0≦|Hm-Ht|≦0.4%。更进一步本专利技术中,上述粘合薄膜的热收缩率优选为满足下列[①]、[②]及[③]式:[①]0≦|Hm|≦0.5%;[②]0≦|Ht|≦0.5%;[③]0≦|Hm-Ht|≦0.2%。本专利技术中,所谓热收缩率是指薄膜被加热时变小的线尺寸与其原线尺寸的比值。所述MD、TD方向分别是指膜卷加工时的前进方向和幅宽方向。考虑到预退火处理能降低取向薄膜的热收缩率,本专利技术进一本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种用于有机电致发光显示元件或有机电致发光照明元件的粘合薄膜,其特征在于:含有一层或多层的基膜以及一层或多层的胶粘剂层,所述基膜为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜;在304nm至312nm的波长范围内,所述粘合薄膜的吸光度范围为1.5%至5.0%;所述粘合薄膜在使用中临时性地粘合在有机电致发光显示元件或有机电致发光照明元件的发光面一侧。

【技术特征摘要】
1.一种用于有机电致发光显示元件或有机电致发光照明元件的粘合薄膜,其特征在于:含有一层或多层的基膜以及一层或多层的胶粘剂层,所述基膜为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜;在304nm至312nm的波长范围内,所述粘合薄膜的吸光度范围为1.5%至5.0%;所述粘合薄膜在使用中临时性地粘合在有机电致发光显示元件或有机电致发光照明元件的发光面一侧。2.根据权利要求1所述的粘合薄膜,其特征在于:所述粘合薄膜被激光切割后,在被切割断面至薄膜内侧50μm、宽度100μm的范围内的异物数量在100个以内。3.根据权利要求1所述的粘合薄膜,其特征在于:其在304nm至312nm的波长范围内,所述粘合薄膜的吸光度范围为2.0%至3.0%。4.根据权利要求1所述的粘合薄膜,其特征在于:所述粘合薄膜与有机电致发光显示元件或...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵天心张磊贯井启介桂宗彦长田俊一
申请(专利权)人:东丽先端材料研究开发中国有限公司
类型:发明
国别省市:上海,31

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