【技术实现步骤摘要】
一种防止3D打印模型特征偏移的自适应分层方法
本专利技术属于3D打印
,特别是涉及一种防止3D打印模型特征偏移的自适应分层方法。
技术介绍
3D打印(3DPrinting)技术也称为快速成型(RapidPrototyping,RP)或增材制造(additivemanufacturing,AM),是通过CAD设计并将材料逐层累加制造三维实体零件的技术。具体实现步骤分为,首先利用CAD设计或反向工程获取三维模型,并转为格式简单、具有良好的通用性的STL(Stereolithographic)格式或其他可操作格式文件进行处理;然后在选定的分层方向上,用不同高度的平面与模型相交,获得一系列的轮廓信息;再根据轮廓信息,确定打印路径及其他工艺参数,控制打印机将材料从低到高逐层堆积粘结,最后形成三维实体。材料逐层累加会使打印倾斜表面时工件表面件存在明显的阶梯误差(或台阶效应,stair-steppingeffect)及模型特征的丢失和偏移,直接影响加工件表面质量,且分层位置的确定和层数会直接影响加工件表面精度和加工效率。然而,工件的三维模型不论是由CAD软件设计还是由反向 ...
【技术保护点】
1.一种防止3D打印模型特征偏移的自适应分层方法,其特征在于,所述防止3D打印模型特征偏移的自适应分层方法包括:建立三维模型,对所述三维模型进行网格化处理,以生成STL文件;读取所述STL文件,并对从所述STL文件中读取的数据进行预处理操作,以得到预处理后的数据;利用所述预处理后的数据,识别网格化处理后的三维模型上特征高度,得到一组高度数据h;对相邻的特征高度之间进行间距调节,即对所述高度数据h进行调节;在所述特征高度的位置进行分层切片,在相邻的特征高度之间采用顶尖高度法进行自适应分层,获得切片轮廓信息;根据所述切片轮廓信息和G代码格式生成打印文件,打印3D模型。
【技术特征摘要】
1.一种防止3D打印模型特征偏移的自适应分层方法,其特征在于,所述防止3D打印模型特征偏移的自适应分层方法包括:建立三维模型,对所述三维模型进行网格化处理,以生成STL文件;读取所述STL文件,并对从所述STL文件中读取的数据进行预处理操作,以得到预处理后的数据;利用所述预处理后的数据,识别网格化处理后的三维模型上特征高度,得到一组高度数据h;对相邻的特征高度之间进行间距调节,即对所述高度数据h进行调节;在所述特征高度的位置进行分层切片,在相邻的特征高度之间采用顶尖高度法进行自适应分层,获得切片轮廓信息;根据所述切片轮廓信息和G代码格式生成打印文件,打印3D模型。2.根据权利要求1所述的一种防止3D打印模型特征偏移的自适应分层方法,其特征在于:存储于所述三维模型的文件包括STL文件、AMF文件、OBJ文件、STEP文件、3MF文件、IGES文件、LEAF文件、RPI文件、RP文件。3.根据权利要求2所述的一种防止3D打印模型特征偏移的自适应分层方法,其特征在于,所述识别所述三维模型上特征高度,得到一组高度数据包括:所述三维模型的基本特征包括特征点、特征线以及特征面;特征面,平行于分层平面的三角面片即为特征面,当所述三角面片的三个顶点的Z坐标均相同时,即判定所述三角面片为特征面,特征高度为三角面片的三个顶点中的某一顶点的Z坐标;特征线,两个相邻三角面片有且只有它们共同的两个顶点的Z坐标相同,并且这两个三角面片的二面角大于阈值,两个顶点之间的连线为特征边,特征高度为所述特征边上某一顶点的Z坐标,二面角通过两个相邻三角面片的法向量计算获得,阈值通过公式(1)确定:其中,为特征边阈值,β为STL文件中所有网格边对应的二面角的均值,λ=log(Facetres),Facetres为CAD模型中对生成的STL网格模型精度的控制参数;特征点,若其中一个三角面片的某一个顶点P的Z坐标高于或低于所有以顶点P为顶点的三角面片的另外两个顶点的Z坐标,则顶点P为特征点,特征高度为顶点P的Z坐标。4.根据权利要求3所述的一种防止3D打印模型特征偏移的自适应分层方法,其特征在于,对相邻的特征高度之间进行间距调节,即对所述高度数据h进行调节包括:对一组高度数据h进行预处理,在所述高度数据h的首部、尾部分别插入高度为0的层高数据、三维模型最大高度的层高数据,所述高度为0的层高数据、三维模型最大高度的层高数据均为边界层高,分别检测两个边界层高与其相邻层高的间距是否小于最小层厚,如果小于最小层厚,则调节相邻层高,使边界层高与其相邻层高的间距等于最小层厚,重新升序排序高度数据h,检测调节后的层高与对应的边界层高之间是否存在层高,如果存在层高,则删除存在的层高;给定3D打印机的最大分层厚度hmax和最小分层厚度hmin,对所述边界层高之间的特征高度采用逐个遍历的方法进行检查,查找两个相邻的特征高度之间的间距是否存在小于最小层厚,如果小于最小层厚,则对两个相邻的特征高度进行调节得到特征高度调节结果,特征高度进行调节的方法具体如下:两个相邻的特征高度之间的高度差为d;向内合并:如果d≤hmin/2,将两切片层均向内偏移d/2,即合并两个层面;向外扩张:如果d>hmin/2,将两切片层分别向外偏移|d-hmin|/2;根据所述特征高度调节结果,以及四个相邻的层高即进行调节的两个相邻的特征高度b和c,以及分别与进行调节的两个相邻的特征高度b和c相邻的两个层高a和f的最大高度差dmax,判断两个相邻的特征高度b和c在进行向内偏移或向外偏移的高度调节后,是否会对与进行调节的两个相邻...
【专利技术属性】
技术研发人员:韩江,王德鹏,夏链,
申请(专利权)人:合肥工业大学,
类型:发明
国别省市:安徽,34
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