一种基于Micro-LED无掩模投影扫描式紫外曝光机制造技术

本发明专利技术公开了一种基于Micro‑LED无掩模投影扫描式紫外曝光机，包括Micro‑LED、计算机及控制软件、放大或缩小镜头、待曝光工件表面和工作台。为使Micro‑LED像素尺寸符合实际曝光需求，本发明专利技术使用放大或缩小镜头用于放大或缩小曝光像素的尺寸。再用计算机及控制软件控制Micro‑LED每个或若干个刷新周期刷新下一位置的图形，使各图形连续拼接成所需要的曝光图形。本发明专利技术一种基于Micro‑LED无掩模投影扫描式紫外曝光机，无复杂的光机损耗，可以实现更高的能量利用效率、更高的曝光强度、更快的加工速度。并且结构小巧，易于和机器人相结合接入自动化流水线。

【技术实现步骤摘要】
一种基于Micro-LED无掩模投影扫描式紫外曝光机
本专利技术涉及一种紫外曝光机，尤其涉及一种基于Micro-LED无掩模投影扫描式紫外曝光机。
技术介绍
在微电子、光学、线路板等微加工领域，紫外曝光机具有非常重要的应用。传统掩模式曝光机使用的是大尺寸平行紫外光源加掩模的曝光形式。而目前现有无掩模曝光机采用的是光源、光源准直系统、DMD芯片以及投影镜头的复杂结构，导致光源能量到工作表面能量损失过高，同时由于光源功率和DMD芯片最大承受功率受限，无法达到足够的曝光强度。
技术实现思路
本专利技术要解决的问题是：现有传统掩模式曝光机和无掩模紫外曝光机，系统效率低，曝光强度不足等问题。而本专利技术采用一种基于Micro-LED无掩模投影扫描式紫外曝光机，Micro-LED是在芯片集成高密度微小尺寸LED阵列，并保证每一个LED像素可定址，并单独驱动点亮。底层用CMOS集成电路工艺制成驱动电路。CMOS集成电路工艺主要包括硅基CMOS电路工艺和玻璃基CMOS电路工艺。Micro-LED发出的光通过放大或缩小镜头作用到待曝光工件表面，没有经过复杂光学系统的损耗，因此本专利技术所述曝光机可以实现更高的能量利用效率、更高的曝光强度、更快的加工速度。本专利技术提供一种基于Micro-LED无掩模投影扫描式紫外曝光机，该系统包括Micro-LED、计算机及控制软件、放大或缩小镜头、待曝光工件表面和工作台。所述Micro-LED是在芯片集成高密度微小尺寸LED阵列，并保证每一个LED像素可定址，并单独驱动点亮的一种微型显示芯片及其各种封装产品。所述Micro-LED用作光源及图形投影，光波长为190～420nm，每个LED像素尺寸为：长≥2μm，宽≥2μm。LED阵列的行数M≥2，列数N≥2。所述计算机及控制软件包括运动控制和图形控制，运动控制是指在X、Y轴上的运动控制，图形控制是指图形分切，瞬时图形数据向Micro-LED传输。所述用计算机及控制软件控制Micro-LED每个或若干个刷新周期刷新下一位置的图形，使各图形连续拼接成所需曝光图形。所述放大或缩小镜头是为使Micro-LED像素尺寸符合实际曝光需求，用于放大或缩小曝光像素尺寸的镜头。所述待曝光工件表面是Micro-LED通过放大或缩小镜头成像所投射到待曝光工件表面所形成的工作面。所述工作台用于放置待曝光工件表面，并固定Micro-LED的机械运动部件。本专利技术所提供一种基于Micro-LED无掩模投影扫描式紫外曝光机的主要优点和积极效果如下：由于无复杂的光机损耗，可以实现更高的能量利用效率、更高的曝光强度、更快的加工速度。并且结构小巧，易于和机器人相结合接入自动化流水线。附图说明为进一步说明本专利技术的
技术实现思路
，以下结合实施例及附图详细说明如后，其中：图1为本专利技术的结构示意图。具体实施方式为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，并参照附图，对本专利技术进一步详细说明。请参阅图1所示，本专利技术提供一种基于Micro-LED无掩模投影扫描式紫外曝光机，包括：-Micro-LED是在芯片集成高密度微小尺寸LED阵列，并保证每一个LED像素可定址，并单独驱动点亮的一种微型显示芯片及其各种封装产品；-Micro-LED用作光源及图形投影，光波长为190～420nm，每个LED像素尺寸为：长≥2μm，宽≥2μm。LED阵列的行数M≥2，列数N≥2；-计算机及控制软件包括运动控制和图形控制，运动控制是指在X、Y轴上的运动控制，图形控制是指图形分切，瞬时图形数据向Micro-LED传输；-用计算机及控制软件控制Micro-LED每个或若干个刷新周期刷新下一位置的图形，使各图形连续拼接成所需曝光图形；-所述放大或缩小镜头是为使Micro-LED像素尺寸符合实际曝光需求，用于放大或缩小曝光像素尺寸的镜头；-待曝光工件表面是Micro-LED通过放大或缩小镜头成像所投射到待曝光工件表面所形成的工作面；-工作台用于放置待曝光工件表面，并固定Micro-LED的机械运动部件；以上所述的具体实施例，对于本专利技术的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本专利技术的具体实施例而已，并不局限于本专利技术，凡在本专利技术的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于Micro‑LED无掩模投影扫描式紫外曝光机，其特征在于，包括Micro‑LED、计算机及控制软件、放大或缩小镜头、待曝光工件表面和工作台。

【技术特征摘要】
1.一种基于Micro-LED无掩模投影扫描式紫外曝光机，其特征在于，包括Micro-LED、计算机及控制软件、放大或缩小镜头、待曝光工件表面和工作台。2.如权利要求1所述的一种基于Micro-LED无掩模投影扫描式紫外曝光机，其特征在于，所述Micro-LED是在芯片集成高密度微小尺寸LED阵列，并保证每一个LED像素可定址，并单独驱动点亮的一种微型显示芯片及其各种封装产品。3.如权利要求1所述的一种基于Micro-LED无掩模投影扫描式紫外曝光机，其特征在于，所述Micro-LED用作光源及图形投影，光波长为190～420nm，每个LED像素尺寸为：长≥2μm，宽≥2μm。LED阵列的行数M≥2，列数N≥2。4.如权利要求1所述的一种基于Micro-LED无掩模投影扫描式紫外曝光机，其特征在于，所述计算机及控制软件包括运动控制和图形控制，运动控制是指在X、Y轴上的运动控制，图形控...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙雷，
申请(专利权)人：北京德瑞工贸有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11