一种幻彩膜电镀工艺的改进式蒸发槽制造技术

本发明专利技术公开了一种幻彩膜电镀工艺的改进式蒸发槽，包括蒸发槽和覆盖在蒸发槽顶端的盖板，蒸发槽内部两侧壁上均匀等间距的固定安装有两排第一铜柱电极和第二铜柱电极，每组第一铜柱电极和第二铜柱电极之间放置有钼舟，且钼舟间隔分布在第一铜柱电极和第二铜柱电极之间，钼舟两侧分别形成有电极连接头，第一铜柱电极和第二铜柱电极与相应的电极连接头之间，通过放置铜片进行导电连接，每个钼舟上均紧密排列有多块靶材，钼舟下端还垫有上支撑垫块和下支撑垫块，且上支撑垫块和下支撑垫块均为绝缘垫块。本发明专利技术提供的蒸发槽组件配合蒸镀真空工艺，能够实现透明反光炫彩膜的加工工艺过程。

【技术实现步骤摘要】
一种幻彩膜电镀工艺的改进式蒸发槽
本专利技术涉及电镀蒸发槽
，具体为一种幻彩膜电镀工艺的改进式蒸发槽。
技术介绍
对于普通的彩虹膜通常是利用两种或两种以上具有不同折光指数的透明热塑性树脂(折光指数至少相差0.03)经ABABAB.....或ABCABCABC...组合形成至少30层以上均匀平行的交替芯层，在芯层外面包附厚度为薄膜总厚度5-50％的两边皮层经流延到冷却棍上形成厚度为0.015-0.05mm的薄膜，当薄膜的厚度达到一定范围时，由于光干涉的作用，薄膜会产生五颜六色类似彩虹的效果。但是现有的这种利用多层树脂形成的彩虹膜的强度不高，且其反光性能差，同时加工工艺较为复杂，此外普通的透明介质膜为将硫化锌靶材直接蒸镀在PTE、PP、OPP膜等普通塑料膜上，这样得到的介质膜反光效果差，而传统的镀铝植株膜虽然反光效果好，但难以达到透明的效果。
技术实现思路
(一)解决的技术问题针对现有技术的不足，本专利技术提供了一种幻彩膜电镀工艺的改进式蒸发槽，解决了目前的利用多层树脂形成的彩虹膜的强度不高，且其反光性能差，同时加工工艺复杂，且普通的介质膜反光效果差，而传统的镀铝植株膜虽然反光效果好，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种幻彩膜电镀工艺的改进式蒸发槽，包括蒸发槽(1)和覆盖在蒸发槽(1)顶端的盖板(4)，其特征在于：所述蒸发槽(1)内部两侧壁上均匀等间距的固定安装有两排第一铜柱电极(2)和第二铜柱电极(6)，每组所述第一铜柱电极(2)和第二铜柱电极(6)之间放置有钼舟(5)，且所述钼舟(5)间隔分布在第一铜柱电极(2)和第二铜柱电极(6)之间，所述钼舟(5)两侧分别形成有电极连接头(7)，所述第一铜柱电极(2)和第二铜柱电极(6)与相应的电极连接头(7)之间，通过放置铜片(3)进行导电连接，每个所述钼舟(5)上均紧密排列有多块靶材(11)，所述钼舟(5)下端还垫有上支撑垫块(15)和下支撑垫块(16)，...

【技术特征摘要】
1.一种幻彩膜电镀工艺的改进式蒸发槽，包括蒸发槽(1)和覆盖在蒸发槽(1)顶端的盖板(4)，其特征在于：所述蒸发槽(1)内部两侧壁上均匀等间距的固定安装有两排第一铜柱电极(2)和第二铜柱电极(6)，每组所述第一铜柱电极(2)和第二铜柱电极(6)之间放置有钼舟(5)，且所述钼舟(5)间隔分布在第一铜柱电极(2)和第二铜柱电极(6)之间，所述钼舟(5)两侧分别形成有电极连接头(7)，所述第一铜柱电极(2)和第二铜柱电极(6)与相应的电极连接头(7)之间，通过放置铜片(3)进行导电连接，每个所述钼舟(5)上均紧密排列有多块靶材(11)，所述钼舟(5)下端还垫有上支撑垫块(15)和下支撑垫块(16)，且所述上支撑垫块(15)和下支撑垫块(16)均为绝缘垫块。2.根据权利要求1所述的一种幻彩膜电镀工艺的改进式蒸发槽，其特征在于：所述钼舟(5)为由多个钼条(9)首尾相连拼接而成的方形结构，且相邻两个所述钼条(9)之间形成有条形缝隙(8)，两个所述电极连接头(7)为分别位于钼舟(5)两侧的钼条(9)向外延伸的端头部分。3.根据权利要求2所述的一种幻彩膜电镀工艺的改进式蒸发槽，其特征在于：所述上支撑垫块(15)整体呈与钼舟(5)尺寸相匹配的方形结构，且所述支撑垫块(15)顶端均匀等间距的开设有多个条形槽(13)，相邻两个所述条形槽(13)之间形成有多个支撑隔条(14)。4.根据权利要求3中所述的一种...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘思远，
申请(专利权)人：合肥市辉耀真空材料有限责任公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34