具有标准单元的集成电路制造技术

本发明专利技术公开一种具有标准单元的集成电路。此集成电路包含：第一金属线以及一第二金属线沿着一第一方向延伸；第一虚置栅极以及第二虚置栅极，沿着一第二方向延伸；鳍状结构平行于该第一方向；栅极结构位于鳍状结构上且平行于第二方向；两个长接触插栓位于栅极结构的一侧，两个短接触插栓位于栅极结构的另一侧；栅极插栓设置在栅极结构上；通孔插栓设置在长接触插栓、短接触插栓及栅极接触插栓上并与之电连接；金属层包含第一金属线、第二金属线、一第三金属线以及一第四金属线。

Integrated Circuits with Standard Units

The invention discloses an integrated circuit with a standard unit. The integrated circuit includes: the first metal wire and the second metal wire extend along a first direction; the first virtual gate and the second virtual gate extend along a second direction; the fin structure is parallel to the first direction; the grid structure is located on the fin structure and parallel to the second direction; two long contact bolts are located on one side of the grid structure, and two short contact bolts are located on the grid structure. The other side of the pole structure; the gate bolt is arranged on the grid structure; the through-hole bolt is arranged on the long contact bolt, the short contact bolt and the gate contact bolt and electrically connected with them; the metal layer includes the first metal wire, the second metal wire, the third metal wire and the fourth metal wire.

【技术实现步骤摘要】
具有标准单元的集成电路
本专利技术涉及一种具有标准单元的集成电路，特别来说，是涉及一种具有反相器的标准单元与具有反极栅的标准单元的集成电路。
技术介绍
标准单元是一组或多组的晶体管相互结构，用来提供布林逻辑功能(例如AND、OR、X0R、XNOR)或存储功能(触发器或锁存器)。随着先进制作工艺技术(例如鳍状晶体管FinFet技术)，标准单元布局的设计也有所不同。标准单元库是支持数字集成电路设计自动化流程的基础资料之一，标准单元库从前端功能模拟到后端版图实现架构出整个集成电路自动化设计流程。标准单元库包括若干个预先设计好的标准单元，包括了器件的版图图形以及面积、电路功耗、时序和驱动能力等电路性能值，标准单元具有通用的界面实现和规则结构，集成电路设计者或者综合工具根据设计要求，调用标准单元库中需要的标准单元来完成集成电路的版图布图设计。基于标准单元库的集成电路设计可以极大提高电路的设计效率。
技术实现思路
本专利技术于是提出了一种具有标准单元的集成电路，以提供设计集成电路设计时使用。根据本专利技术的一实施例，是提供了一种具有反向器(Inverter)标准单元的集成电路。此集成电路包含一第一金本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种具有标准单元(standard cell)的集成电路，包含：第一金属线以及第二金属线，两者沿着一第一方向延伸；一组第一虚置栅极以及一组第二虚置栅极，沿着一第二方向延伸，其中该第一金属线、该第二金属线、该组第一虚置栅极以及该组第二虚置栅极包围的区域定义为一标准单元区，该标准单元区具有N型区以及P型区；多个鳍状结构，设置在该标准单元区中，该多个鳍状结构平行于该第一方向；栅极结构，设置在该标准单元区中，位于该鳍状结构上且平行于该第二方向；两个短接触插栓以及两个长接触插栓，设置在该标准单元区中，该两个长接触插栓位于该栅极结构的一侧，该两个短接触插栓位于该栅极结构的另一侧；栅极接触插栓，设置在该...

【技术特征摘要】
1.一种具有标准单元(standardcell)的集成电路，包含：第一金属线以及第二金属线，两者沿着一第一方向延伸；一组第一虚置栅极以及一组第二虚置栅极，沿着一第二方向延伸，其中该第一金属线、该第二金属线、该组第一虚置栅极以及该组第二虚置栅极包围的区域定义为一标准单元区，该标准单元区具有N型区以及P型区；多个鳍状结构，设置在该标准单元区中，该多个鳍状结构平行于该第一方向；栅极结构，设置在该标准单元区中，位于该鳍状结构上且平行于该第二方向；两个短接触插栓以及两个长接触插栓，设置在该标准单元区中，该两个长接触插栓位于该栅极结构的一侧，该两个短接触插栓位于该栅极结构的另一侧；栅极接触插栓，设置在该栅极结构上；多个通孔插栓，设置在该两个长接触插栓、该两个短接触插栓及该栅极接触插栓上并与之电连接；以及金属层，设置在该多个通孔插栓上并与之电连接，该金属层包含该第一金属线、该第二金属线、一第三金属线以及一第四金属线。2.如权利要求1所述的集成电路，其中该组第一虚置栅极包含两个彼此不接触的该第一虚置栅极，该组第二虚置栅极包含两个彼此不接触的该第二虚置栅极。3.如权利要求1所述的集成电路，其中该P型区具有N个该鳍状结构，该N型区具有M个该鳍状结构，N与M都为奇数，且N大于或等于M。4.如权利要求1所述的集成电路，其中该两个长接触插栓位于该第一方向上的投影完全重叠，该两个短接触插栓位于该第一方向上的投影完全重叠。5.如权利要求1所述的集成电路，其中一个该长接触插栓以及一个该短接触插栓穿越过该P型区，另一个该长接触插栓与另一个该短接触插栓穿越该N型区。6.如权利要求1所述的集成电路，其中该两长接触插栓还进一步延伸至该标准单元区外。7.如权利要求1所述的集成电路，其中该多个通孔插栓包含两个短通孔插栓、两个长通孔插栓以及一栅极通孔插栓。8.如权利要求7所述的集成电路，其中该第一金属线连接其中一个该长通孔插栓，该第二金属线连接另外一个该长通孔插栓。9.如权利要求8所述的集成电路，其中该第三金属线连接该栅极通孔插栓。10.如权利要求8所述的集成电路，其中该第四金属线连接该两个短通孔插栓。11.一种具有标准单元的集成电路，包含：第一金属线以及第二金属线，两者沿着一第一方向平行；一组第一虚置栅极以及一组第二虚置栅极，沿...

【专利技术属性】
技术研发人员：许振贤，陈建孚，蔡承洋，王伟任，林肇尉，黃智宏，顾政宗，杨进盛，
申请(专利权)人：联华电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71