一种平面靶材溢铟保护工装制造技术

本实用新型专利技术公开了一种平面靶材溢铟保护工装，包括：平面工作台、框架、压板、第一锡纸层、第二锡纸层；第一锡纸层可以将溢出的金属铟接住，进而可以重复利用；框架可拆卸方式连接，可以方便将框架内的平面靶材取出；料槽可以将残余的金属铟废料收集起来，以备后续重复利用，压块可以对铜片层进行挤压，使铟层更加薄而均匀，进而达到更好的贴合效果；压板可以增大铜片层的受力面积，进而使铜片层受力均匀，防止因铜片层将不均匀的受力传导至靶材上，从而将靶材压裂或压弯等问题的产生。

An Indium Overflow Protection Tool for Planar Targets

The utility model discloses an indium overflow protection tooling for planar targets, which comprises a planar worktable, a frame, a pressing board, a first tin paper layer and a second tin paper layer; the first tin paper layer can catch the overflowing indium metal and reuse it; the frame can be connected in a disassembly way, so that the planar targets in the frame can be easily removed; and the material trough can collect the residual indium metal wastes. In order to prepare for subsequent reuse, the compactor can extrude the copper sheet layer to make the indium layer thinner and more uniform, and thus achieve better bonding effect; the compactor can increase the force area of the copper sheet layer, and then make the copper sheet layer stress uniform, so as to prevent the uneven force from conducting to the target, thus bringing about problems such as target fracturing or bending.

【技术实现步骤摘要】
一种平面靶材溢铟保护工装
本技术涉及平面靶材贴合
，具体涉及一种平面靶材溢铟保护工装。
技术介绍
现有技术中，用于显示器行业的平面靶材通常由硅片和铜片组成，两者之间通过胶水层粘合固定，从而形成平面靶材，用于实际生产，由于胶水层处于平面靶材内部，无法确定胶水是否涂覆均匀以及粘合的牢固性，因此，需要采用连接粘合效果更好的铟作为粘结剂，在铜层和硅层之间倒入液体铟，等冷却后，铟层由液态转变为固态将铜层和硅层贴合，进而需要一个实现该工艺的工装。
技术实现思路
本技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本技术的一个目的在于提出一种平面靶材溢铟保护工装。根据本技术实施例的一种平面靶材溢铟保护工装，包括：平面工作台、框架、压板、第一锡纸层、第二锡纸层；所述框架设置在平面工作台上，所述第一锡纸层设置在框架内，且第一锡纸层的上部边界均延伸至框架上边框外部，所述第一锡纸层中部铺设在平面工作台上表面，所述第一锡纸层内放置平面靶材，其中，所述平面靶材包括硅片层、铟层、铜片层，所述平面靶材上铺设有压块，所述压块与平面靶材之间设有第二锡纸层，所述第二锡纸层边界均延伸至框架上边沿外部。优选地，所述框架采用多块钢板拼接而成，并通过螺钉可拆卸固定连接。优选地，所述平面工作台下端安装有若干支撑柱，支撑柱下端安装有万向轮。优选地，所述压块与第二锡纸层之间设有压板，所述压板尺寸与平面靶材的尺寸相近。优选地，所述平面工作台上设有料槽，所述料槽安装在平面工作台四周。优选地，所述压块可以设有若干个，且所述压块在平面靶材上对称分布。与现有技术相比，本技术的有益效果：包括：平面工作台、框架、压板、第一锡纸层、第二锡纸层；第一锡纸层可以将溢出的金属铟接住，进而可以重复利用；框架可拆卸方式连接，可以方便将框架内的平面靶材取出；料槽可以将残余的金属铟废料收集起来，以备后续重复利用，压块可以对铜片层进行挤压，使铟层更加薄而均匀，进而达到更好的贴合效果；压板可以增大铜片层的受力面积，进而使铜片层受力均匀，防止因铜片层将不均匀的受力传导至靶材上，从而将靶材压裂或压弯等问题的产生。附图说明附图用来提供对本技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本技术的实施例一起用于解释本技术，并不构成对本技术的限制。在附图中：图1为本技术提出的一种平面靶材溢铟保护工装的结构示意图；图2为本技术提出的一种平面靶材溢铟保护工装的俯视图；图中：1-平面工作台、2-第一锡纸层、3-硅片层、4-铟层、5-铜片层、6-框架、7-第二锡纸层、8-压板、9-压块、11-料槽。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。在本技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。参照图1-2，一种平面靶材溢铟保护工装，包括：平面工作台1、框架6、压板8、第一锡纸层2、第二锡纸层7；所述框架6设置在平面工作台1上，所述第一锡纸层2设置在框架6内，且第一锡纸层2的上部边界均延伸至框架6上边框外部，所述第一锡纸层中部铺设在平面工作台1上表面，所述第一锡纸层2内放置平面靶材，其中，所述平面靶材包括硅片层3、铟层4、铜片层5，所述平面靶材上铺设有压块9，所述压块9与平面靶材之间设有第二锡纸层7，所述第二锡纸层7边界均延伸至框架6上边沿外部。在本技术的一些实施例中，所述框架6采用多块钢板拼接而成，并通过螺钉可拆卸固定连接，通过可拆卸方式连接，可以方便将框架内的平面靶材取出。在本技术的一些实施例中，所述平面工作台1下端安装有若干支撑柱，支撑柱下端安装有万向轮，从而使工装移动方便。在本技术的一些实施例中，所述压块9与第二锡纸层7之间设有压板8，所述压板8尺寸与平面靶材的尺寸相近，可以增大铜片层的受力面积，进而使铜片层受力均匀，防止因铜片层将不均匀的受力传导至靶材上，从而将靶材压裂或压弯等问题的产生。在本技术的一些实施例中，所述平面工作台1上设有料槽，所述料槽安装在平面工作台1四周，可以将残余的金属铟废料收集起来，以备后续重复利用。在本技术的一些实施例中，所述压块9可以设有若干个，且所述压块9在平面靶材上对称分布，增加铜片层的受力，同时也使其受力均匀，进而达到更好的贴合效果。本技术的工作原理，利用金属铟的低熔点特性，可以快速将铟加热融化，然后将其涂敷在硅片层上后，铟冷却由液态转变为固态，从而将硅片和铜片连接在一起，达到更强的粘结效果，其中铟的低熔点能实现快速加热、快速冷却的效果，同时，利用金属可重复使用的特性，可以提高材料的重复利用率，减少对资源的损耗。在贴合过程中，将调节好大小的框架放置在平面工作台上，然后在框架内铺设第一锡纸层，在将硅片层放置在第一锡纸层内，在硅片上倒入溶化的金属铟，再将铜片层贴合在金属铟上，再然后在上面铺设第二锡纸层，并在上面放置压板、压块，利用重力将硅片层与铜片层之间多余的铟挤压出来，从而使铟层更薄而均匀，达到更好的贴合效果；其中，第一锡纸层可以将溢出的金属铟接住，进而可以重复利用；压板可以增大铜片层的受力面积，进而使铜片层受力均匀，防止因铜片层将不均匀的受力传导至靶材上，从而将靶材压裂或压弯等问题的产生。在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。在本说明书本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种平面靶材溢铟保护工装，其特征在于，包括：平面工作台（1）、框架（6）、压板（8）、第一锡纸层（2）、第二锡纸层（7）；所述框架（6）设置在平面工作台（1）上，所述第一锡纸层（2）设置在框架（6）内，且第一锡纸层（2）的上部边界均延伸至框架（6）上边框外部，所述第一锡纸层中部铺设在平面工作台（1）上表面，所述第一锡纸层（2）内放置平面靶材，其中，所述平面靶材包括硅片层（3）、铟层（4）、铜片层（5），所述平面靶材上铺设有压块（9），所述压块（9）与平面靶材之间设有第二锡纸层（7），所述第二锡纸层（7）边界均延伸至框架（6）上边沿外部。

【技术特征摘要】
1.一种平面靶材溢铟保护工装，其特征在于，包括：平面工作台（1）、框架（6）、压板（8）、第一锡纸层（2）、第二锡纸层（7）；所述框架（6）设置在平面工作台（1）上，所述第一锡纸层（2）设置在框架（6）内，且第一锡纸层（2）的上部边界均延伸至框架（6）上边框外部，所述第一锡纸层中部铺设在平面工作台（1）上表面，所述第一锡纸层（2）内放置平面靶材，其中，所述平面靶材包括硅片层（3）、铟层（4）、铜片层（5），所述平面靶材上铺设有压块（9），所述压块（9）与平面靶材之间设有第二锡纸层（7），所述第二锡纸层（7）边界均延伸至框架（6）上边沿外部。2.根据权利要求1所述的一种平面靶材溢铟保护工装，其特征在于：所述框...

【专利技术属性】
技术研发人员：何凌男，
申请(专利权)人：苏州精美科光电材料有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32