一种石英晶片治具的清洗系统及清洗方法技术方案

技术编号:20603743 阅读:33 留言:0更新日期:2019-03-20 07:28
本发明专利技术涉及清洗装置技术领域,尤其涉及一种石英晶片治具的清洗系统及清洗方法,通过运行装置和控制装置组成基本的清洗系统,利用电源给接近开关供电,当石英晶片治具放入拆料装置上时,接近开关收到信号闭合通电,给继电器供电和给时间继电器常开端供电,接触器常开端闭合通电,使得电磁阀与鼓风机工作,此时拆料装置上的石英晶片治具里的杂质与污染物经过软管、连接器、初效过滤器和水管吸进鼓风机中,等到时间继电器时间结束后断电,鼓风机停止工作,此时治具清洗完毕可以拿起,拿起后所述接近开关回到初始状态。本技术方案的有益效果:保证了在被银后被银治具拆片与清洗过程中石英晶片的电性能,减小晶片污染增加晶片良品数。

A cleaning system and method for quartz wafer fixture

The invention relates to the technical field of cleaning device, in particular to a cleaning system and cleaning method for quartz wafer fixtures. The basic cleaning system is composed of operating device and control device, and the power supply is used to supply power to the proximity switch. When the quartz wafer fixture is put into the material removal device, the proximity switch receives the signal to close the power supply, and the relay power supply and the time relay are often opened to supply power. Electricity and contactor often start to close and turn on electricity to make solenoid valve and blower work. At this time, impurities and pollutants in quartz wafer fixture on material removal device are sucked into blower through hose, connector, primary effect filter and water pipe. When the time relay time is over, the blower stops working. At this time, the treatment fixture can be picked up after cleaning and the proximity switch is picked up. Return to the initial state. The beneficial effect of the technical scheme is to ensure the electrical performance of quartz wafer in the process of dismantling and cleaning after being silver-coated, reduce wafer contamination and increase the number of good wafers.

【技术实现步骤摘要】
一种石英晶片治具的清洗系统及清洗方法
本专利技术涉及清洗装置
,尤其涉及一种石英晶片治具的清洗系统及清洗方法。
技术介绍
随着半导体技术的发展,人们对电子
的一些半导体材料要求越来越高,因此石英晶片加工时,保证石英晶片的纯度要求也越来越重要。现有的生产工艺中,对小型化的晶片治具拆片清洗较为繁琐,普通的拆取方式是用手工直接将被银治具上盖板取下,然后将盛放晶片的被银掩模板取出,这种做法比较容易使得被银治具上盖板上的被银后的银屑脱落污染晶片,同时因为小型化的晶片对被银治具的重合度和精确度要求高,这样一来就容易发生被银过程后被银掩模板与上盖板和下盖板粘住,进而产生带料现象,增加了石英晶片测量时电性能的误差减少了晶片良品数量。
技术实现思路
针对上述问题,本专利技术提出一种石英晶片治具清洗系统及其清洗方法,旨在保证在被银后石英晶片治具拆片与清洗过程中石英晶片的电性能,减小晶片污染增加晶片良品数。具体技术方案如下:一种石英晶片治具的清洗系统,其中包括:一运行装置,所述运行装置包括一拆料装置、一软管、一连接器、一电磁阀、一初效过滤器、一鼓风机及、一水管,所述运行装置用以完成所述清洗系统的清洗过程;一控制装置,所述控制装置包括,一电源装置、一接近开关、一继电器、一时间继电器、一接触器及一插座,所述控制装置用以控制所述清洗系统的运行过程;所述拆料装置通过所述软管连接至所述连接器的第一通孔;所述连接器的第二通孔通过所述软管连接所述初效过滤器;所述电磁阀安装在所述连接器的第三通孔上;所述接触器与所述电磁阀的控制端相连;所述初效过滤器通过所述水管连接至所述鼓风机的进风口;所述鼓风机的出风口连接所述水管;所述接近开关安装在所述拆料装置上;所述电源装置、所述接近开关、所述继电器、所述时间继电器、通过导线依次连接到至所述插座;所述插座与所述鼓风机通过导线相连。进一步的,所述拆料装置上还安装一真空表。进一步的,所述电源装置的输入端连接市电,所述电源装置的输出端连接所述接近开关的电源端。进一步的,所述电源装置包括24V的电源装置。进一步的,所述拆料装置的内部设置一凹槽,用以放置所述石英晶片治具。进一步的,所述凹槽的尺寸与所述石英晶片治具的尺寸相匹配。进一步的,所述连接器的第一通孔的孔径大小与所述软管的直径相匹配。一种石英晶片治具的清洗方法,具体包括以下步骤:步骤S1:将所述石英晶片治具放入拆料装置中,以使所述接近开关闭合导通,同时使得所述继电器通电;步骤S2:采用所述继电器给所述时间继电器常供电,以使所述电磁阀与所述鼓风机工作;步骤S3:所述鼓风机得进气口将所述石英晶片治具的杂质与污染物经过软管、连接器、初效过滤器和水管吸进所述鼓风机中,并通过所述鼓风机的出气口排出所述杂质和污染物。进一步的,所述时间继电器设置一预设时间,以使所述电磁阀与所述鼓风机工作于所述时间继电器的预设时间内。进一步的,所述时间继电器的预设时间为5至10秒。上述技术方案的有益效果:在石英晶片制作过程中,有效减少晶片的污染,提高石英晶体纯度,保证了石英晶片的电性能,增加了晶片良品的数量,缩小工业生产成本。附图说明附图1:一种石英晶片治具的清洗系统及清洗方法的运行步骤示意图;附图2:一种石英晶片治具的清洗系统及清洗方法的电气连接示意图;附图3:一种石英晶片治具的清洗方法步骤示意图。附图中:11、拆料装置;12、软管;13、连接器;14、电磁阀;15、初效过滤器;16、鼓风机;17、水管;21、电源装置;22、接近开关;23、继电器;24、时间继电器;25、接触器;26、插座;131、连接器的第一通孔;132、连接器的第二通孔;133、连接器的第三通孔;3、真空表。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。需要说明的是,在不冲突的情况下,本专利技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面结合附图1至附图3及具体实施例对本专利技术作进一步说明,但不作为本专利技术的限定。如附图1和附图2所示一种石英晶片治具的清洗系统,其中包括:一运行装置,运行装置包括:一拆料装置11、一软管12、一连接器13、一电磁阀14、一初效过滤器15、一鼓风机16及一水管17,运行装置用以完成清洗系统的清洗过程;一控制装置,控制装置包括:一电源装置21、一接近开关22、一继电器23、一时间继电器24、一接触器25及一插座26,控制装置用以控制运行装置的运行过程;拆料装置11通过软管12连接至连接器13的第一通孔131;连接器的第二通孔132通过软管12连接初效过滤器15;电磁阀14安装在连接器13的第三通孔133上用来控制空气的通闭;接触器25与电磁阀14的控制端相连,用以控制电磁阀的通断;初效过滤器15通过水管17连接至鼓风机16的进风口;鼓风机16的出风口连接水管17;接近开关22安装在拆料装置11上,根据接近开关22接收到的信号用以控制线路导通;电源装置21、接近开关22、继电器23、时间继电器24、通过导线依次连接到至插座26;插座26与鼓风机16通过导线相连。上述技术方案中,通过电源装置21给整个清洗系统供电,利用时间继电器24预先设置的时间控制整个电路系统的通断,同时利用电磁阀14和鼓风机16将石英晶片治具里的杂质和污染物通过软管12、初效过滤器15、以及水管17吸进鼓风机16,并从鼓风机16出风口排出,有效的避免了人工过程带来的杂质污染石英晶片,保证了石英晶片的质量。作为优选的实施例,拆料装置11上通过打孔安装真空表3。上述技术方案中,通过在拆料装置11上打孔安装真空表3用于监测鼓风机16的吸力,利用实时监测的压力值和预设的压力值来判定鼓风机16是否需要保养,当实时监测的压力值小于预设值时,说明鼓风机16工作过久,需要进行保养,便于后面更好的运行。作为优选的实施例,电源装置21的输入端连接市电,电源装置21的输出端连接接近开关22的电源端给接近开关供电,电源装置21包括24V的电源装置。上述技术方案中,电源装置21用以转换电压,选用24V的电源装置,将市电220V电压转换为24V电压,以给控制装置的运行过程提供电源。作为优选的实施例,拆料装置11的内部设置一凹槽,用以放置石英晶片治具,凹槽的尺寸与石英晶片治具的尺寸相匹配。上述技术方案中,拆料装置11的凹槽,用以放置石英晶片治具,且根据石英晶片治具的尺寸来调整凹槽的尺寸,进一步地可以适用于不同规则尺寸的石英晶片治具,应用范围广泛。作为优选的实施例,连接器13的第一通孔131的孔径大小与软管12的直径相匹配。上述技术方案中,通过在连接器13上裹上生料带,然后用与连接器孔径类似内径的软管12套在连接器上,最后用铜丝抱箍固定,也可以用其它材质的物品固定。一种石英晶片治具的清洗方法,具体包括以下步骤:步骤S1:将石英晶片治具放入拆料装置11中,以使接近开关22闭合导通,同时使得继电器23通电;步骤S2:采用继电器23给时间继电器24供电,以使电磁阀14与鼓风机16工作;步骤S3:鼓风机16的进气口将石英晶片治具本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种石英晶片治具的清洗系统,其特征在于,包括:一运行装置,所述运行装置包括一拆料装置、一软管、一连接器、一电磁阀、一初效过滤器、一鼓风机及、一水管,所述运行装置用以完成所述清洗系统的清洗过程;一控制装置,所述控制装置包括,一电源装置、一接近开关、一继电器、一时间继电器、一接触器及一插座,所述控制装置用以控制所述清洗系统的运行过程;所述拆料装置通过所述软管连接至所述连接器的第一通孔;所述连接器的第二通孔通过所述软管连接所述初效过滤器;所述电磁阀安装在所述连接器的第三通孔上;所述接触器与所述电磁阀的控制端相连;所述初效过滤器通过所述水管连接至所述鼓风机的进风口;所述鼓风机的出风口连接所述水管;所述接近开关安装在所述拆料装置上;所述电源装置、所述接近开关、所述继电器、所述时间继电器、通过导线依次连接到至所述插座;所述插座与所述鼓风机通过导线相连。

【技术特征摘要】
1.一种石英晶片治具的清洗系统,其特征在于,包括:一运行装置,所述运行装置包括一拆料装置、一软管、一连接器、一电磁阀、一初效过滤器、一鼓风机及、一水管,所述运行装置用以完成所述清洗系统的清洗过程;一控制装置,所述控制装置包括,一电源装置、一接近开关、一继电器、一时间继电器、一接触器及一插座,所述控制装置用以控制所述清洗系统的运行过程;所述拆料装置通过所述软管连接至所述连接器的第一通孔;所述连接器的第二通孔通过所述软管连接所述初效过滤器;所述电磁阀安装在所述连接器的第三通孔上;所述接触器与所述电磁阀的控制端相连;所述初效过滤器通过所述水管连接至所述鼓风机的进风口;所述鼓风机的出风口连接所述水管;所述接近开关安装在所述拆料装置上;所述电源装置、所述接近开关、所述继电器、所述时间继电器、通过导线依次连接到至所述插座;所述插座与所述鼓风机通过导线相连。2.根据权利要求1所述的一种石英晶片治具清洗系统,其特征在于,所述拆料装置上安装一真空表。3.根据权利要求1所述的一种石英晶片治具清洗系统,其特征在于,所述电源装置的输入端连接市电;所述电源装置的输出端连接所述接近开关的电源端。4.根据权利要求3所述的一种石英晶片治具清洗系统,其特征在于,所述电源装...

【专利技术属性】
技术研发人员:林鹏正
申请(专利权)人:杭州鸿星电子有限公司
类型:发明
国别省市:浙江,33

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