The present invention relates to an analysis grille for phase contrast imaging and/or dark field imaging, a detector device for phase contrast imaging and/or dark field imaging including the above analysis grille, an X-ray imaging system including the above detector device, a method for manufacturing the above analysis grille, and an analysis grille or detection for controlling the above analysis grille for performing the above method. The computer program unit of the tester device and a computer readable medium storing the computer program unit mentioned above. The analysis grid includes multiple X-ray conversion gratings. An X-ray conversion grating is configured to convert incident X-ray radiation into light or charge. The plurality of X-ray conversion gratings includes at least a first X-ray conversion grating and a second X-ray conversion grating. In addition, X-ray conversion gratings include arrays formed by grating strips, in which the grating strips in each X-ray conversion grating are arranged to shift the specified displacement pitches from each other in the direction perpendicular to the incident X-ray radiation. In addition, the grating bars of the first X-ray conversion grating are arranged to remove each other from the grating bars of the second X-ray conversion grating in the direction perpendicular to the incident X-ray radiation to divide the displacement pitch of the number of X-ray conversion gratings.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于相位衬度成像和/或暗场成像的分析格栅
本专利技术涉及一种用于相位衬度成像和/或暗场成像的分析格栅、一种包括上述分析格栅的用于相位衬度成像和/或暗场成像的检测器装置、一种包括上述检测器装置的X射线成像系统、一种制造上述分析格栅的方法、一种用于控制用于执行上述方法的上述分析格栅或检测器装置的计算机程序单元以及一种存储有上述计算机程序单元的计算机可读介质。
技术介绍
X射线成像被应用于各种
，以便获得关于对象的关注区域内的内部结构的信息。例如，使用医学X射线成像装置来获得关于患者体内的内部结构的信息。已经开发了例如使用干涉仪的相位衬度成像，以尤其在软组织和其它低吸收材料中提供更高的衬度。同时，干涉仪还可以产生暗场信号，该暗场信号与来自小于检测器的空间分辨率的结构的小角度散射有关。可以使用相移(phasestepping)方法来获取相位信息，这可能需要多次曝光。相位衬度成像需要相移，即相位光栅被沿着扫描以便检索相位信息。也就是说，针对光栅的不同位置获取了几个投影。因此，当与传统的X射线应用相比时，相位衬度成像操作需要明显更多的时间。此外，需要使用吸收格栅或结构化...
【技术保护点】
1.一种用于相位衬度成像和/或暗场成像的分析格栅(1)，所述分析格栅包括多个X射线转换光栅(10)，其中，所述X射线转换光栅(10)被配置成将入射的X射线辐射转换成光或电荷，所述多个X射线转换光栅(10)至少包括第一X射线转换光栅(11)和第二X射线转换光栅(12)，所述X射线转换光栅(10)各自包括光栅条(14)形成的阵列，每个X射线转换光栅内的所述光栅条(14)被布置成在垂直于所述入射的X射线辐射的方向上彼此相互移开指定的位移节距(d)，所述移位节距(d)是两个毗邻的光栅条(14)的中心线之间的距离，并且所述第一X射线转换光栅(11)的光栅条(14)被布置成在垂直于所述...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.06.08 EP 16173558.41.一种用于相位衬度成像和/或暗场成像的分析格栅(1)，所述分析格栅包括多个X射线转换光栅(10)，其中，所述X射线转换光栅(10)被配置成将入射的X射线辐射转换成光或电荷，所述多个X射线转换光栅(10)至少包括第一X射线转换光栅(11)和第二X射线转换光栅(12)，所述X射线转换光栅(10)各自包括光栅条(14)形成的阵列，每个X射线转换光栅内的所述光栅条(14)被布置成在垂直于所述入射的X射线辐射的方向上彼此相互移开指定的位移节距(d)，所述移位节距(d)是两个毗邻的光栅条(14)的中心线之间的距离，并且所述第一X射线转换光栅(11)的光栅条(14)被布置成在垂直于所述入射的X射线辐射的方向上与所述第二X射线转换光栅(12)的光栅条(14)相互移位，其特征在于，所述第一X射线转换光栅(11)和所述第二X射线转换光栅(12)布置在两个检测器(20)之间，其中所述检测器(20)被配置成检测由相应的X射线转换光栅转换的所述光或电荷。2.根据权利要求1所述的分析格栅(1)，其特征在于，所述第一X射线转换光栅(11)的光栅条(14)被布置成在垂直于所述入射的X射线辐射的方向上与所述第二X射线转换光栅(12)的光栅条(14)相互移开除以X射线转换光栅(10)的数量的所述位移节距(d)。3.根据权利要求1到2中的任一项所述的分析格栅(1)，其特征在于，所述第一X射线转换光栅(11)和所述第二X射线转换光栅(12)在平行于所述入射的X射线辐射的方向上部分地重叠。4.根据权利要求1到2中的任一项所述的分析格栅(1)，其特征在于，所述X射线转换光栅(10)在平行于所述入射的X射线辐射的方向上通过间隔物(15)彼此间隔开。5.根据权利要求1到2中的任一项所述的分析格栅(1)，其特征在于，所述第一X射线转换光栅(11)和所述第二X射线转换光栅(12)在垂直于所述入射的X射线辐射的方向上基本上彼此相邻地布置，其中所述X射线转换光栅(10)包括反射体壁(13)，并且所述X射线转换光栅(10)在平行于所述入射的X射线辐射的方向上的错位通过下述方式实施，即，在所述第一X射线转换光栅(11)的上表面侧处布置所述反射体壁(13)且在下表面侧处省略所述反射体壁(13)，并且在所述第二X射线转换光栅(12)的下表面侧处布置所述反射体壁(13)且在上表面侧处省略所述反射体壁(13)。6.根据权利要求1所述的分析格栅(1)，其特征在于，所述第一X射线转换光栅(11)形成闪烁体，并且所述第二X射线转换光栅(12)形成...
【专利技术属性】
技术研发人员：T·克勒，R·斯特德曼布克，M·西蒙，W·吕腾，H·K·维乔雷克，
申请(专利权)人：皇家飞利浦有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL
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