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本发明涉及一种用于相位衬度成像和/或暗场成像的分析格栅、一种包括上述分析格栅的用于相位衬度成像和/或暗场成像的检测器装置、一种包括上述检测器装置的X射线成像系统、一种制造上述分析格栅的方法、一种用于控制用于执行上述方法的上述分析格栅或检测器...
该专利属于皇家飞利浦有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过皇家飞利浦有限公司授权不得商用。

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