The present invention discloses an ion-plated Ni_P nano-laminated film, which is a layer-like nano-laminated Ni_P film deposited on ferrous metal by ion plating technology. The total thickness of the nano-laminated Ni_P film is adjustable in the range of 2 to 80 microns, and the self-corrosion potential of the nano-laminated Ni_P film is more than 230 mV. The microstructures of the nano-laminated Ni P films are more compact, and the wear resistance and corrosion resistance of the coatings are significantly improved. The application of the invention also discloses the preparation method of the ion plating Ni P nano-laminated film. The ion plating technology can be used to deposit the Ni P nano-laminated film without using any electroless plating solution and generating no waste liquid, which is environmentally friendly.
【技术实现步骤摘要】
离子镀Ni-P纳米叠层膜及其制备方法
本专利技术涉及Ni-P合金镀层的
，具体为一种离子镀Ni-P叠层膜及其制备方法。
技术介绍
Ni-P合金镀层由于具有优异的耐磨、耐腐蚀性能以及较高的硬度，常被用于提高零件的使用寿命和可靠性，在化学工业、电子工业、精密机械、航空航天工业、汽车工业、矿山机械和农业机械上得到广泛的应用。现有技术中获得Ni-P合金镀层的方法主要有电沉积法和化学镀法。其中，电沉积法是以基底材料作为阴极，镀层金属或不溶性材料作为阳极，在阴极和阳极之间施加电压，通过电流作用在基底材料表面获得镀层的方法，具有沉积速度快、镀液稳定、镀厚能力高、成本低等特点，但是电沉积技术的结合力较弱，只能在导体表面上进行，且受电力线分布不均匀具有明显的边界效应，导致镀膜厚度不均匀，而且大量的镀液对环境造成的污染严重。不同于电沉积法，化学镀法具有均镀和深镀能力，且通过化学镀法得到的Ni-P合金镀层具有优异的防腐性能、良好的可焊性、电磁屏蔽性能、高硬度与高耐磨性能，因此化学镀法是目前工业Ni-P镀膜的主要方法。针对化学镀Ni-P膜中存在的膜缺陷多、生产成本高、环境污...
【技术保护点】
1.一种离子镀Ni‑P纳米叠层膜，其特征在于，它是以黑色金属为基底材料，利用离子镀膜技术沉积获得的呈层状结构的纳米叠层Ni‑P膜，所述纳米叠层Ni‑P膜的总厚度在2～80μm范围内可调，所述纳米叠层Ni‑P膜的自腐蚀电位≥‑230mV。
【技术特征摘要】
1.一种离子镀Ni-P纳米叠层膜，其特征在于，它是以黑色金属为基底材料，利用离子镀膜技术沉积获得的呈层状结构的纳米叠层Ni-P膜，所述纳米叠层Ni-P膜的总厚度在2～80μm范围内可调，所述纳米叠层Ni-P膜的自腐蚀电位≥-230mV。2.根据权利要求1所述的离子镀Ni-P纳米叠层膜，其特征在于，所述纳米叠层Ni-P膜的总厚度在2.5～8μm范围内可调。3.根据权利要求1所述的离子镀Ni-P纳米叠层膜，其特征在于，每层Ni-P膜的厚度为50～120nm。4.根据权利要求1所述的离子镀Ni-P纳米叠层膜，其特征在于，所述纳米叠层Ni-P膜中P含量为4～8at％，余量为Ni。5.基于权利要求1～4任一项所述的离子镀Ni-P纳米叠层膜的制备方法，其特征在于，它包括以下步骤：1)去除基底材料表面上的油污，使得基底材料表面保持清洁并具有一定活性；2)将洗净后的工件装在卡具上并置入离子镀膜设备的真空室内，抽真空至0.005～0.01Pa，然后将工件加热到150～200℃，保温10～30min；3)通氩...
【专利技术属性】
技术研发人员：于志明，吴建豪，
申请(专利权)人：台州中科普尔尼镀膜技术有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33
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