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本发明申请公开了一种离子镀Ni‑P纳米叠层膜,它是以黑色金属为基底材料,利用离子镀膜技术沉积获得的呈层状结构的纳米叠层Ni‑P膜,所述纳米叠层Ni‑P膜的总厚度在2~80μm范围内可调,所述纳米叠层Ni‑P膜的自腐蚀电位≥‑230mV。上述...该专利属于台州中科普尔尼镀膜技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台州中科普尔尼镀膜技术有限公司授权不得商用。
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本发明申请公开了一种离子镀Ni‑P纳米叠层膜,它是以黑色金属为基底材料,利用离子镀膜技术沉积获得的呈层状结构的纳米叠层Ni‑P膜,所述纳米叠层Ni‑P膜的总厚度在2~80μm范围内可调,所述纳米叠层Ni‑P膜的自腐蚀电位≥‑230mV。上述...