一种新型窑变釉及其制备工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种新型窑变釉及其制备工艺，它包括底釉和面釉；其中，底釉所使用的底釉料中含有的组分及各组分质量份如下：氧化镁：0.1‑0.3份，二氧化硅：59‑61份，三氧化二铝：19‑21份，氧化钾：2‑4份，氧化钠：2‑4份，氧化钙：13‑15份，氧化锌：10‑12份；面釉所使用的面釉料中含有的组分及各组分质量份如下：二氧化硅：29‑31份，三氧化二铝：25‑27份，氧化钾：25‑27份，氧化钠：12‑14份，氧化钙：9‑11份，氧化锌：4‑6份，碳酸钡：3‑5份。它在烧制过程中能够呈现意外的釉色效果，而且成本低，过程简单，釉料不易脱落。

A New Kiln Glaze Change and Its Preparation Technology

The invention discloses a new kiln varying glaze and its preparation process, which includes bottom glaze and surface glaze. Among them, the components and components of the bottom glaze used in the bottom glaze are as follows: magnesium oxide: 0.1 0.3 parts, silica: 59 61 parts, aluminium oxide: 19 21 parts, potassium oxide: 2 4 parts, sodium oxide: 2 4 parts, calcium oxide: 13 15 parts, zinc oxide: 10 12 parts. The components and quality components of the glaze used for surface glaze are as follows: silica: 29 31 parts, aluminium oxide: 25 27 parts, potassium oxide: 25 27 parts, sodium oxide: 12 14 parts, calcium oxide: 9 11 parts, zinc oxide: 4 6 parts, barium carbonate: 3 5 parts. It can show unexpected glaze effect in the firing process, and has low cost, simple process, and the glaze is not easy to fall off.

【技术实现步骤摘要】
一种新型窑变釉及其制备工艺
本专利技术涉及一种新型窑变釉及其制备工艺。
技术介绍
目前，在瓷器行业中，瓷坯的造型是优质产品的基础，釉料的调配使瓷器更加绚丽多彩。同一造型的瓷坯，往往因釉面的不同，而对消费者的视觉产生不同的影响，那种能够产生意想不到的釉色效果的釉面能使瓷器获得别开生命装饰的效果，这也是当今瓷器行业的一种时尚。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提供一种新型窑变釉，它在烧制过程中能够呈现意外的釉色效果，而且成本低，过程简单，釉料不易脱落。为了解决以上技术问题，本专利技术的技术方案是：一种新型窑变釉，它包括底釉和面釉；其中，底釉所使用的底釉料中含有的组分及各组分质量份如下：氧化镁：0.1-0.3份，二氧化硅：59-61份，三氧化二铝：19-21份，氧化钾：2-4份，氧化钠：2-4份，氧化钙：13-15份，氧化锌：10-12份；面釉所使用的面釉料中含有的组分及各组分质量份如下：二氧化硅：29-31份，三氧化二铝：25-27份，氧化钾：25-27份，氧化钠：12-14份，氧化钙：9-11份，氧化锌：4-6份，碳酸钡：3-5份。本专利技术还提供了一种新型窑变釉的制备工艺，工艺的步骤中含有：S1：底釉浆和面釉浆的分别制备；其中，底釉浆的制备过程如下：按照底釉料的各组分及各组分质量份备料；按照底釉料：球：水的质量比＝1：(1.4～1.6)：(0.5～0.7)，混合球磨19～22小时，球磨后的釉料过筛，然后调成波美度为40～45的底釉浆；面釉浆的制备过程如下：按照面釉料的各组分及各组分质量份备料；按照面釉料：球：水的质量比＝1：(1.4～1.6)：(0.5～0.7)，混合球磨19～22小时，球磨后的釉料过筛，然后调成波美度为40～45的面釉浆；S2：取干净外面的素坯，采用底釉浆先给坯体上底釉，再采用面釉浆在底釉上施面釉，在1200℃～1300℃的环境下烧制9～12小时，得成品。采用了上述技术方案后，本专利技术的新型窑变釉在烧制过程中呈现出了意想不到的釉色效果，而且成本低，过程简单，釉料不易脱落。具体实施方式为了使本专利技术的内容更容易被清楚地理解，下面根据具体实施例，对本专利技术作进一步详细的说明。实施例一一种新型窑变釉，它包括底釉和面釉；其中，底釉所使用的底釉料中含有的组分及各组分质量份如下：氧化镁：0.1份，二氧化硅：59份，三氧化二铝：19份，氧化钾：2份，氧化钠：2份，氧化钙：13份，氧化锌：10份；面釉所使用的面釉料中含有的组分及各组分质量份如下：二氧化硅：29份，三氧化二铝：25份，氧化钾：25份，氧化钠：12份，氧化钙：9份，氧化锌：4份，碳酸钡：3份。该新型窑变釉的制备工艺，工艺的步骤中含有：S1：底釉浆和面釉浆的分别制备；其中，底釉浆的制备过程如下：按照底釉料的各组分及各组分质量份备料；按照底釉料：球：水的质量比＝1：1.4：0.5，混合球磨19小时，球磨后的釉料过筛，然后调成波美度为40～45的底釉浆；面釉浆的制备过程如下：按照面釉料的各组分及各组分质量份备料；按照面釉料：球：水的质量比＝1：1.4：0.5，混合球磨19小时，球磨后的釉料过筛，然后调成波美度为40～45的面釉浆；S2：取干净外面的素坯，采用底釉浆先给坯体上底釉，再采用面釉浆在底釉上施面釉，在1200℃的环境下烧制9小时，得成品。实施例二一种新型窑变釉，它包括底釉和面釉；其中，底釉所使用的底釉料中含有的组分及各组分质量份如下：氧化镁：0.3份，二氧化硅：61份，三氧化二铝：21份，氧化钾：4份，氧化钠：4份，氧化钙：15份，氧化锌：12份；面釉所使用的面釉料中含有的组分及各组分质量份如下：二氧化硅：31份，三氧化二铝：27份，氧化钾：27份，氧化钠：14份，氧化钙：11份，氧化锌：6份，碳酸钡：5份。该新型窑变釉的制备工艺，工艺的步骤中含有：S1：底釉浆和面釉浆的分别制备；其中，底釉浆的制备过程如下：按照底釉料的各组分及各组分质量份备料；按照底釉料：球：水的质量比＝1：1.6：0.7，混合球磨22小时，球磨后的釉料过筛，然后调成波美度为40～45的底釉浆；面釉浆的制备过程如下：按照面釉料的各组分及各组分质量份备料；按照面釉料：球：水的质量比＝1：1.6：0.7，混合球磨22小时，球磨后的釉料过筛，然后调成波美度为40～45的面釉浆；S2：取干净外面的素坯，采用底釉浆先给坯体上底釉，再采用面釉浆在底釉上施面釉，在1300℃的环境下烧制12小时，得成品。实施例三一种新型窑变釉，它包括底釉和面釉；其中，底釉所使用的底釉料中含有的组分及各组分质量份如下：氧化镁：0.2份，二氧化硅：60份，三氧化二铝：20份，氧化钾：3份，氧化钠：3份，氧化钙：14份，氧化锌：11份；面釉所使用的面釉料中含有的组分及各组分质量份如下：二氧化硅：30份，三氧化二铝：26份，氧化钾：26份，氧化钠：13份，氧化钙：10份，氧化锌：5份，碳酸钡：4份。该新型窑变釉的制备工艺，工艺的步骤中含有：S1：底釉浆和面釉浆的分别制备；其中，底釉浆的制备过程如下：按照底釉料的各组分及各组分质量份备料；按照底釉料：球：水的质量比＝1：1.5：0.6，混合球磨20小时，球磨后的釉料过筛，然后调成波美度为40～45的底釉浆；面釉浆的制备过程如下：按照面釉料的各组分及各组分质量份备料；按照面釉料：球：水的质量比＝1：1.5：0.6，混合球磨20小时，球磨后的釉料过筛，然后调成波美度为40～45的面釉浆；S2：取干净外面的素坯，采用底釉浆先给坯体上底釉，再采用面釉浆在底釉上施面釉，在1250℃的环境下烧制11小时，得成品。以上三个实施例制备得到的新型窑变釉在烧制过程中均呈现出了意想不到的釉色效果，符合设计要求。以上所述的具体实施例，对本专利技术的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本专利技术的具体实施例而已，并不用于限制本专利技术，凡在本专利技术的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种新型窑变釉，其特征在于，它包括底釉和面釉；其中，底釉所使用的底釉料中含有的组分及各组分质量份如下：氧化镁：0.1‑0.3份，二氧化硅：59‑61份，三氧化二铝：19‑21份，氧化钾：2‑4份，氧化钠：2‑4份，氧化钙：13‑15份，氧化锌：10‑12份；面釉所使用的面釉料中含有的组分及各组分质量份如下：二氧化硅：29‑31份，三氧化二铝：25‑27份，氧化钾：25‑27份，氧化钠：12‑14份，氧化钙：9‑11份，氧化锌：4‑6份，碳酸钡：3‑5份。

【技术特征摘要】
1.一种新型窑变釉，其特征在于，它包括底釉和面釉；其中，底釉所使用的底釉料中含有的组分及各组分质量份如下：氧化镁：0.1-0.3份，二氧化硅：59-61份，三氧化二铝：19-21份，氧化钾：2-4份，氧化钠：2-4份，氧化钙：13-15份，氧化锌：10-12份；面釉所使用的面釉料中含有的组分及各组分质量份如下：二氧化硅：29-31份，三氧化二铝：25-27份，氧化钾：25-27份，氧化钠：12-14份，氧化钙：9-11份，氧化锌：4-6份，碳酸钡：3-5份。2.一种如权利要求1所述的新型窑变釉的制备工艺，其特征在于工艺的步骤中含有：S1：底釉浆和面釉浆的分别制...

【专利技术属性】
技术研发人员：童新田，谢少元，张支清，
申请(专利权)人：湖南德兴瓷业有限公司，
类型：发明
国别省市：湖南,43