基板处理装置制造方法及图纸

【课题】一种基板处理装置，其可以抑制灰尘飞散并附着于基板表面。【解决方案】一种基板处理装置，其特征在于，包括：辊(51)，其输送基板(11)；中空的轴(52)，其被安装于辊(51)并构成辊(51)的旋转轴；气刀(41)，其对通过辊(51)输送的基板(11)喷射气体；轴承(60)，其可旋转地支撑轴(52)，其具备：内轮(61)，其具有形成于轴(52)的第一通孔(53)重叠的第二通孔(64)的同时被外插到轴(52)；外轮(62)，其被配置在轴(52)的外周侧；多个转动体(63)，其介于内轮(61)及外轮(62)之间；吸引装置(70)，吸引轴(52)内部空间(54)的空气。

Substrate Processing Unit

[Subject] A substrate processing device which can inhibit dust dispersion and attach to the substrate surface. [Solution] A base plate processing device is characterized by: a roller (51), its conveying base plate (11); a hollow shaft (52), which is mounted on the roller (51) and constitutes a rotating shaft of the roller (51); a gas knife (41), which sprays gas on the base plate (11) conveyed through the roller (51); and a bearing (60), which can rotate a ground support shaft (52), which has an inner wheel (61) and a first pass formed on the shaft (52). The second through hole (64) overlapping with the hole (53) is simultaneously inserted into the shaft (52); the outer wheel (62), which is arranged on the outer side of the shaft (52); a plurality of rotors (63), which are between the inner wheel (61) and the outer wheel (62); and an attracting device (70), which attracts air in the inner space (54) of the shaft (52).

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置
本专利技术涉及基板处理装置。
技术介绍
过去，作为输送基板的同时对基板进行处理的基板处理装置的一个例子下述的专利文献1所记载的构成被公众所知。专利文献1所述的构成是：设置有用于输送基板的输送辊的输送轴被轴承(支承)可旋转地支撑。此外，特许文献1中记载了通过对由输送辊输送的基板吹出空气，从而去除基板上的清洗处理液。现有技术文献专利文献专利文献1：特开2014-040298号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题在具有如上所述的轴承的构成中，担心发生随着轴承的工作产生灰尘，对基板吹出空气时，灰尘飞散并会附着在基板上的情况。本专利技术鉴于上述问题点而作成，其目的在于提供能够抑制灰尘在基板表面附着的基板处理装置。解决问题的手段为解决上述问题，本专利技术的基板处理装置具有如下特征，其具备：辊，其输送基板；中空的轴，其被安装所述辊并构成所述辊的旋转轴；气体喷射装置，其对由所述辊输送的所述基板喷射气体；轴承，其可旋转地支撑所述轴；吸引装置，其吸引所述轴内部空间的空气，其中，所述轴承具备：内轮，其具有与形成于所述轴的第一通孔重叠的第二通孔且被外插到所述轴；外轮，其被配置在所述内轮的外周侧；多个转动体，其介于所述内轮及所述外轮之间。由于转动体与内轮或外轮之间的摩擦而产生灰尘时，通过使吸引装置工作，灰尘通过内轮的第二通孔和轴的第一通孔，抵达中空的轴的内部，之后，被排出到轴的外部。由此，能够抑制轴承内灰尘堆积，且通过从气体喷射装置喷射出来的气体，能够抑制灰尘飞散并附着在基板表面。此外，因为作为排出路径的一部分而利用了轴的内部空间，所以能够实现进一步简化排出路径的构成。专利技术效果根据本专利技术的一方式，能够提供一种可抑制灰尘在基板表面附着的基板处理装置。附图简单说明图1示出根据本专利技术的第一实施方式的基板清洗装置的侧面图。图2示出基板清洗装置的俯视图。图3示出轴及轴承的剖面图。图4示出轴及内轮的剖面图。图5示出轴及内轮的剖面图(与图4的用V-V线切断的图对应)。图6示出根据第二实施方式的轴及内轮的剖面图。专利技术的实施方式[第一实施方式]本专利技术的第一实施方式通过图1到图5进行说明。本实施方式以基板清洗装置20(基板处理装置)为例进行说明，其用于制造构成液晶面板(显示面板)的基板11。基板11例如为构成液晶面板的玻璃基板。这种玻璃基板例如作为构成液晶面板的CF基板或阵列基板的元件。基板清洗装置20是通过在基板11的表面提供清洗处理液来清洗基板11表面污垢的装置。如图1所示，基板清洗装置20具有处理槽30及在处理槽30内输送基板11的基板输送部50。在处理槽30中，向基板11的表面提供清洗液并进行清洗表面的清洗处理。作为清洗液，例如使用纯水或超纯水，但不限定于此。在处理槽30上设置有可以对基板11吐出清洗液的清洗液吐出部31。从处理槽30的搬入口32附近朝向下游侧(图1的右侧)隔着间隔而排列多个(本实施方式中为4个)清洗液吐出部31。在处理槽30中，清洗液吐出部31的下游侧设置有气刀41，41(气体喷射装置)，其可以对由基板输送部50的辊51输送的基板11的表里两面分别喷射气体。气刀41，41是通过在基板11的表面吹出高压空气(压缩空气)，而达到吹走并除去基板11上的清洗液目的。气刀41，41以随着朝向基板11的前进方向的相反方向向下倾斜的方式设置。此外，如图2所示，在俯视时气刀41，41的长边方向是沿着相对于基板11的输送方向倾斜的方向。如图2所示，基板输送部50具有：输送基板11的辊51、安装有辊51并构成辊51的旋转轴R1的中空的轴52、可旋转地支撑轴52的轴承60。多个辊51、多个轴52以及多个轴承60被配置在基板11前进方向。其成为如下构成：在各个轴52连接了未图示的驱动装置(电机等)，通过驱动装置旋转轴52，由此安装在轴52上的多个辊51旋转，载置在辊51上的基板11被输送。如图3所示，轴承60分别被设置在轴52长边方向的两个端部。轴承60包括：内轮61(内圈)，其构成被外插到轴52上的圆环状；外轮62(外圈)，其构成被配置在内轮61的外圆周侧的圆环状；多个转动体63(滚珠或滚子等)，其介于内轮61及外轮62之间；保持部67，其可旋转地保持转动体63。外轮62例如不可旋转地被固定在基板输送部50所具备的基部57。内轮61经由转动体63而可旋转地被固定在外轮62。轴52被插入到内轮61具有的通孔66，且不可旋转地被固定在内轮61。由此，轴52被轴承60可旋转地支撑。在轴52中，轴承60的安装位置上贯通形成有第一通孔53。第一通孔53与中空的轴52的内部空间54连通。此外，在内轮61中，在与第一通孔53重叠的位置处形成有第二通孔64。由此，被设置在内轮61与外轮62之间的空间S1(收容转动体63的空间)通过第一通孔53及第二通孔64与内部空间54连通。第1通孔53相对于转动体63分别被设置在轴52的长边方向的两侧，并且与第一通孔53重叠的第2通孔64也相对于转动体63分别被设置在轴52的长边方向的两侧的位置。并且，第一通孔53及第2通孔64的贯通方向例如是与内轮61及轴52的径向一致，但是不局限于此。此外，如图4所示，多个第一通孔53与多个第2通孔64沿轴52以及内轮61的圆周方向上配置。第一通孔53为沿轴52的圆周方向的长方形形状，第二通孔64为圆形形状。第一通孔53比第二通孔的面积大。并且，图4(A)是轴52与内轮61分离后的状态的剖面图，图4(B)是内轮61被外插到轴52的状态的剖面图。如图5所示，内轮61的内周表面形成有凹部65，轴52的外周表面形成有嵌合于凹部65的突部55。如图3所示，轴52的长边方向的一个端部形成有与轴52的内部空间54连通的开口部56。如图2所示，吸引轴52的内部空间54的空气的吸引装置70被连接在各轴52的开口部56上。吸引装置70例如为真空泵，被配置在处理槽30外部。接下来说明本实施方式的效果。本实施方式中，随着轴52的旋转，由轴承60的转动体63与内轮61(或外轮62)之间的摩擦而产生灰尘的时候，通过使吸引装置70工作，灰尘通过内轮61的第二通孔64与轴52的第一通孔53，到达中空的轴52的内部空间54(参照图3的箭头A1)，之后自开口部56排出至轴52的外部(最终到达处理槽30的外部)(参照图3的箭头A2)。由此，能够抑制灰尘堆积到轴承60(特别是收容转动体63的空间S1)。其结果是，通过从气刀41喷射出来的空气，能够抑制堆积在轴承60上的灰尘飞散并附着在基板11的表面。此外，由于作为灰尘排出路径的一部分利用了轴承52的内部空间54，能够以更简单的结构实现排出路径。此外，轴52的长边方向上的一个端部上形成有与轴52的内部空间54连通的开口部56。通过轴52的内部空间54的一个端部被开口，能够从该开口部56吸引轴52内部的空气，将灰尘排出至轴52的外部。此外，由于一对轴承60相对轴52设置，本实施方式中，能够通过一根轴52的开口部56吸引来自一对轴承60，60所产生的灰尘。此外，第二通孔64相对转动体63分别设置在轴52的长边方向的两侧的位置。由转动体63与内轮61或外轮62之间的摩擦而产生的灰尘，经过设置在转动体63两侧的一对第二通孔64，64之中的任意一个，到达轴52的内部空间54本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：辊，其输送基板；中空的轴，其安装有所述辊并构成所述辊的旋转轴；气体喷射装置，其对由所述辊输送的所述基板喷射气体；轴承，其可旋转地支撑所述轴，包括：内轮，其具有与形成于所述轴的第一通孔重叠的第二通孔的同时且被外插到所述轴；外轮，其被配置在所述内轮的外周侧；多个转动体，其介于所述内轮及所述外轮之间；吸引装置，其吸引所述轴内部空间的空气。

【技术特征摘要】
2017.09.05 JP 2017-1701371.一种基板处理装置，其特征在于，包括：辊，其输送基板；中空的轴，其安装有所述辊并构成所述辊的旋转轴；气体喷射装置，其对由所述辊输送的所述基板喷射气体；轴承，其可旋转地支撑所述轴，包括：内轮，其具有与形成于所述轴的第一通孔重叠的第二通孔的同时且被外插到所述轴；外轮，其被配置在所述内轮的外周侧；多个转动体，其介于所述内轮及所述外轮之间；吸引装置，其吸引所述轴内部空间的空气。2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，在所述轴的长边方向的一...

【专利技术属性】
技术研发人员：新崎庸平，
申请(专利权)人：夏普株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP