指纹成像模组和电子设备制造技术

一种指纹成像模组和电子设备，所述指纹成像模组包括遮光调光层，所述遮光调光层包括调光部，且而且相邻调光部之间间距随着与所述光源之间距离的增大而增大；或者所述遮光调光层包括由多个调光部构成的调光组，而且调光组内相邻调光部之间间距随着所述调光组与所述光源之间距离的增大而增大。所述遮光调光层的设置能够有效减小像素阵列不同位置处感光量的差异，有利于整个像素阵列范围内感光量均匀度的提高，有利于指纹图像质量的改善。

Fingerprint Imaging Module and Electronic Equipment

A fingerprint imaging module and an electronic device comprising a shading and dimming layer comprising a dimming section, and the distance between adjacent dimming sections increases with the increase of the distance between the light sources; or the shading and dimming layer comprising a dimming group composed of multiple dimming sections, and the distance between adjacent dimming sections within the dimming section increases with the increase of the distance between the light sources. The distance between the dimming group and the light source increases. The setting of the light shielding and dimming layer can effectively reduce the difference of light sensitivity at different positions of the pixel array, improve the uniformity of light sensitivity in the whole range of the pixel array, and improve the quality of fingerprint image.

【技术实现步骤摘要】
指纹成像模组和电子设备
本专利技术涉及指纹成像领域，特别涉及一种指纹成像模组和电子设备。
技术介绍
指纹识别是在采集人体指纹图像之后，将指纹图像与指纹识别系统里已有指纹信息进行比对，以实现身份识别。由于使用的方便性，以及人体指纹的唯一性，指纹识别技术已经大量应用于各个领域，比如：公安局、海关等安检领域，楼宇的门禁系统，以及个人电脑和手机等消费品领域等等。指纹识别所采用的指纹成像技术中，一种是通过光学方法采集人体指纹图像：通过光源产生入射光；入射光投射至手指表层，经手指反射形成带有指纹信息的反射光；由图像传感器接收所述反射光，获得指纹图像。但是现有技术中的指纹成像模组所获得的指纹图像容易出现感光量不均匀、指纹图像质量不佳的问题。
技术实现思路
本专利技术解决的问题是提供一种指纹成像模组和电子设备，以提高所述指纹成像模组感光量的均匀度，改善所获的指纹图像的质量。为解决上述问题，本专利技术提供一种指纹成像模组，包括：光源；图像传感器，包括像素阵列和位于所述像素阵列上的遮光调光层，所述遮光调光层包括多个调光部，相邻所述调光部之间的间距随着与所述光源之间距离的增大而增大。可选的，相邻所述调光部之间的间距随着与所述光源之间距离的增大而线性增大。可选的，相邻调光部之间的间距大于或等于设计规则。可选的，所述调光部为围绕所述光源设置的线状。可选的，所述多个调光部的线宽相等。可选的，所述调光部的线宽为设计规则最小值。可选的，所述调光部的形状为轴对称图形，所述光源位于所述调光部的对称轴上。可选的，所述调光部的形状为U形或圆弧形的线状。可选的，所述调光部的材料为金属。可选的，所述像素阵列包括呈阵列排布的像素单元，所述像素单元包括：开关器件；所述遮光调光层还包括遮光部，与所述开关器件一一对应且设置于所述开关器件对应位置处。可选的，所述开关器件为非晶开关器件。可选的，所述光源为点光源。相应的，本专利技术还提供一种电子设备，包括：本专利技术的指纹成像模组。本专利技术还提供一种指纹成像模组，包括：光源；图像传感器，包括像素阵列和位于所述像素阵列上的遮光调光层，所述像素阵列包括呈阵列排布的像素单元，所述遮光调光层包括位于所述像素单元上的调光组，所述调光组包括多个调光部，相邻调光部之间的间距随着所述调光组与光源之间距离的增大而增大。可选的，所述调光组内相邻所述调光部之间的间距随着所述调光组与所述光源之间距离的增大而线性增大。可选的，所述调光组内相邻调光部之间的间距大于或等于设计规则。可选的，所述调光部的线宽相等。可选的，所述调光部的线宽为设计规则最小值。可选的，所述调光部为金属块，所述调光组为阵列排布的金属块矩阵。可选的，所述调光部为金属段，所述调光组为平行排列的多个金属段。可选的，所述调光组中调光部的数量随着所述调光组与所述光源之间距离的增大而减少。可选的，所述调光组的数量与所述像素单元数量相等，且与所述像素单元一一对应设置。可选的，相邻调光部之间间距相等的调光组在所述像素阵列上围绕所述光源分布。可选的，相邻调光部之间间距相等的调光组在所述像素阵列上呈轴对称分布，所述光源位于对称轴上。可选的，相邻调光部之间间距相等的调光组在所述像素阵列上呈U形分布或者圆弧形分布。可选的，所述像素单元包括光电二极管，所述光电二极管具有采光区域；所述遮光调光层与所述像素单元的采光区域位置对应，且所述遮光调光层在所述像素单元表面的正投影范围大于或等于所述采光区域。可选的，所述像素单元还包括：开关器件；所述遮光调光层还包括遮光部，与所述开关器件一一对应且设置于所述开关器件对应位置处。可选的，所述开关器件为非晶开关器件。可选的，所述光源为点光源。相应的，本专利技术还提供一种电子设备，包括：本专利技术的指纹成像模组。与现有技术相比，本专利技术的技术方案具有以下优点：所述像素阵列上设置有包括调光部的遮光调光层，而且相邻调光部之间间距随着与所述光源之间距离的增大而增大；或者所述遮光调光层包括由多个调光部构成的调光组，而且调光组内相邻调光部之间间距随着所述调光组与所述光源之间距离的增大而增大，因此靠近所述光源的调光部之间间距面积较小，即所述遮光调光层中能够透射光线的面积较小，较小的透光面积能够减少光线透射，从而能够降低像素阵列对应位置处的感光量；远离所述光源的调光部之间间距面积较大，即所述遮光调光层中能够透射光线的面积较大，较大的透光面积能够保证光线透射，从而能够维持像素阵列对应位置处的感光量；所以所述遮光调光层的设置能够有效减小像素阵列不同位置处感光量的差异，有利于整个像素阵列范围内感光量均匀度的提高，有利于指纹图像质量的改善。本专利技术可选方案中，相邻调光部之间的间距大于或等于设计规则，所述多个调光部的线宽相等，且等于设计规则的最小值；因此所述调光部之间间距的变化范围较大，能够有效提高所述遮光调光层对所述像素阵列所采集光信号均匀性调节的范围，能够有效扩大所述遮光调光层的设计空间，有利于降低设计难度，有利于提高调光效果，有利于提高像素阵列范围内感光量的均匀度。本专利技术可选方案中，所述调光部可以位于所述像素阵列上，并围绕所述光源间隔设置，也可以构成位于所述像素单元上的调光组，以一一对应的方式调节所述像素阵列中不同位置像素单元所采集光信号的均匀性；本专利技术技术方案实现形式多样，能够有效提高所述技术方案的适用范围，有利于降低工艺难度、提高良率和器件性能，有利于改善所述指纹成像模组的成像质量。本专利技术可选方案中，所述遮光调光层还包括：遮光部，位于所述像素单元的开关器件上，用于降低所述开光器件受到光照的几率，从而延长所述开关器件的寿命，提高所述开关器件的性能；也就是说，所述遮光调光层可以通过所述开关器件的遮光金属实现，从而简化所述指纹成像模组的结构，有利于器件性能和制造良率的提高，有利于获得较高成像质量的指纹成像模组。附图说明图1是一种图像传感器的电路示意图；图2是图1所示图像传感器中单个像素的俯视结构示意图；图3是一种指纹成像模组的剖面结构示意图；图4是一种侧面光源模式指纹成像模组的剖面结构示意图；图5是另一种侧面光源模式指纹成像模组的剖面结构示意图；图6是本专利技术所提供一种指纹成像模组一实施例的剖面结构示意图；图7是图6所示指纹成像模组实施例中图像传感器120和光源110沿A方向的俯视结构示意图；图8是本专利技术所提供另一种指纹成像模组一实施例的剖面结构示意图；图9是图8所示指纹成像模组实施例中所述光源210和所述图像传感器220沿C方向的俯视结构示意图；图10是图9所示指纹成像模组实施例中调光组224a的放大结构示意图；图11是图9所示指纹成像模组实施例中调光组224b的放大结构示意图；图12是图9所示指纹成像模组实施例中调光组224c的放大结构示意图；图13是图9所示指纹成像模组实施例中调光组224m的放大结构示意图；图14是与图10所对应的调光组324a的放大结构示意图；图15是与图11所对应的调光组324b的放大结构示意图；图16是与图12所对应的调光组324c的放大结构示意图；图17是与图13所对应的调光组324m的放大结构示意图。具体实施方式由
技术介绍
可知，现有技术中的指纹成像模组存在感光量不均匀的问题。现结合现有指纹成像模组以及图像传感器的结构分析其感光量不均匀问题的原因：参考图1和图2，其中图1示本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种指纹成像模组，其特征在于，包括：光源；图像传感器，包括像素阵列和位于所述像素阵列上的遮光调光层，所述遮光调光层包括多个调光部，相邻所述调光部之间的间距随着与所述光源之间距离的增大而增大。

【技术特征摘要】
1.一种指纹成像模组，其特征在于，包括：光源；图像传感器，包括像素阵列和位于所述像素阵列上的遮光调光层，所述遮光调光层包括多个调光部，相邻所述调光部之间的间距随着与所述光源之间距离的增大而增大。2.如权利要求1所述的指纹成像模组，其特征在于，相邻所述调光部之间的间距随着与所述光源之间距离的增大而线性增大。3.如权利要求1所述的指纹成像模组，其特征在于，相邻调光部之间的间距大于或等于设计规则。4.如权利要求1所述的指纹成像模组，其特征在于，所述调光部为围绕所述光源设置的线状。5.如权利要求4所述的指纹成像模组，其特征在于，所述多个调光部的线宽相等。6.如权利要求1或5所述的指纹成像模组，其特征在于，所述调光部的线宽大于或等于设计规则最小值。7.如权利要求1所述的指纹成像模组，其特征在于，所述调光部的形状为轴对称图形，所述光源位于所述调光部的对称轴上。8.如权利要求1或7所述的指纹成像模组，其特征在于，所述调光部的形状为U形或圆弧形的线状。9.如权利要求1所述的指纹成像模组，其特征在于，所述调光部的材料为金属。10.如权利要求1所述的指纹成像模组，其特征在于，所述像素阵列包括呈阵列排布的像素单元，所述像素单元包括：开关器件；所述遮光调光层还包括遮光部，与所述开关器件一一对应且设置于所述开关器件对应位置处。11.如权利要求10所述的指纹成像模组，其特征在于，所述开关器件为非晶开关器件。12.如权利要求1所述的指纹成像模组，其特征在于，所述光源为点光源。13.一种电子设备，其特征在于，包括：如权利要求1至权利要求12任意一项权利要求所述的指纹成像模组。14.一种指纹成像模组，其特征在于，包括：光源；图像传感器，包括像素阵列和位于所述像素阵列上的遮光调光层，所述像素阵列包括呈阵列排布的像素单元，所述遮光调光层包括位于所述像素单元上的调光组，所述调光组包括多个调光部，相邻调光部之间的间距随着所述调光组与光源之间距离的增大而增大。15.如权利要求14所述的指纹成像模组，其特征在于，所述调光组内相邻所述调光部之间的间距随着所述调光组与所述光源...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑娅洁，朱虹，凌严，吴磊，
申请(专利权)人：上海箩箕技术有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31