Target assembly for isotope generation system. The target assembly comprises a target body having a generating chamber and a beam cavity adjacent to the generating chamber. The generating chamber is configured to hold the target material. The beam cavity is configured to receive a particle beam incident on the generated cavity. The target assembly also includes a target foil with a positioning component separating the beam cavity and the generating chamber. The target foil is exposed to one side of the generating chamber so that the target foil contacts the target material during isotope generation. The target foil comprises a material layer having a nickel base superalloy composition.
【技术实现步骤摘要】
靶组件和核素产生系统
本文公开的主题总体上涉及核素产生系统，并且更具体地涉及一种核素产生系统，其引导粒子束穿过靶箔并进入液体或气体材料。
技术介绍
放射性核素(有时也称为放射性同位素)在医学治疗，成像和研究中以及与医学无关的其它应用中具有若干应用。产生放射性核素的系统通常包括粒子加速器，例如回旋加速器，其加速带电粒子(例如H-离子)束并将束引导到靶材料中以生成同位素。回旋加速器是一种复杂的系统，其使用电场和磁场来加速和引导带电粒子沿着真空加速腔室内的预定轨道。当粒子到达轨道的外部分时，带电粒子形成直接朝向靶组件引导的粒子束，所述靶组件保持用于同位素产生的靶材料。通常是液体，气体或固体的靶组件包含在靶组件的腔室内。靶组件形成束通道，所述束通道接收粒子束并允许粒子束入射到腔室中的靶材料上。为了将靶材料包含在腔室内，束通道通过箔(在本文中称为“靶箔”)与腔室分离。靶箔可以是单一材料组合物或两层或更多层(例如涂覆有另一层的金属片)。在一些情况下，多个离散片可以并排堆叠并且在操作期间保持在一起。更具体地，产生腔室可以由靶体内的空隙限定。靶箔在一侧覆盖空隙，并且靶组件的一部分...
【技术保护点】
1.一种用于同位素产生系统的靶组件，所述靶组件包括：靶体，所述靶体具有产生腔室和邻近所述产生腔室的束腔，所述产生腔室配置成保持靶材料，所述束腔配置成接收入射在所述产生腔室上的粒子束；以及靶箔，所述靶箔定位成分离所述束腔和所述产生腔室，所述靶箔具有暴露于所述产生腔室的一侧，使得所述靶箔在同位素产生期间与所述靶材料接触，其中所述靶箔包括具有镍基超合金组合物的材料层。
【技术特征摘要】
2017.08.15 US 15/6771291.一种用于同位素产生系统的靶组件，所述靶组件包括：靶体，所述靶体具有产生腔室和邻近所述产生腔室的束腔，所述产生腔室配置成保持靶材料，所述束腔配置成接收入射在所述产生腔室上的粒子束；以及靶箔，所述靶箔定位成分离所述束腔和所述产生腔室，所述靶箔具有暴露于所述产生腔室的一侧，使得所述靶箔在同位素产生期间与所述靶材料接触，其中所述靶箔包括具有镍基超合金组合物的材料层。2.根据权利要求1所述的靶组件，其中所述镍基超合金组合物包含镍(75wt％)，钴(2wt％)，铁(3wt％)，铬(16wt％)，钼(0.5wt％)，钨(0.5wt％)，锰(0.5wt％)，硅(0.2wt％)，铌(0.15wt％)，铝(4.5wt％)，钛(0.5wt％)，碳(0.04wt％)，硼0.01wt％)和锆(0.1wt％)。3.根据权利要求1所述的靶组件，其中所述镍基超合金组合物包含至少40wt％的镍以及重量百分数之和至多10wt％的铝和钛。4.根据权利要求1所述的靶组件，其中所述靶箔包括镍基超合金层和相对于所述镍基超合金层堆叠的第二层，所述第二层位于所述镍基超合金层和所述产生腔室之间并且暴露于所述产生腔室，使得所述靶材料在同位素产生期间与所述第二层接触。5.根据权利要求4所述的靶组件，其中所述第二层配置成减少化学污染物和长寿命放射性核素污染物。6.根据权利要求1所...
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