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用于同位素产生系统的靶组件。所述靶组件包括靶体，所述靶体具有产生腔室和邻近所述产生腔室的束腔。所述产生腔室配置成保持靶材料。所述束腔配置成接收入射在所述产生腔室上的粒子束。所述靶组件还包括定位成分离所述束腔和所述产生腔室的靶箔。所述靶箔具有...
该专利属于通用电气公司所有，仅供学习研究参考，未经过通用电气公司授权不得商用。

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