微纳压印模具制造技术

本发明专利技术公开了一种微纳压印模具，其包括基体，所述基体的一侧为压印面，所述基体于所述压印面侧设置有压印纹理和受力平台，所述受力平台的高度不低于所述压印纹理的最高点。微纳压印模具在压印时，因受力平台的高度不低于压印纹理的最高点，故压印时的主要受力集中在受力平台，可保护压印纹理免遭变形或损坏，进而提高微纳压印模具的使用寿命。

Micro-nano embossing die

The invention discloses a micro-nano embossing die, which comprises a substrate, one side of which is an embossing surface. The substrate is provided with an embossing texture and a stress platform on the side of the embossing surface, and the height of the stress platform is not lower than the maximum point of the embossing texture. Because the height of the force platform is not lower than the highest point of the embossing texture, the main force during embossing is concentrated on the force platform, which can protect the embossing texture from deformation or damage, thereby improving the service life of the micro-nano embossing die.

【技术实现步骤摘要】
微纳压印模具
本专利技术涉及纳米压印
，尤其涉及一种微纳压印模具。
技术介绍
模具，工业生产上用以注塑、吹塑、挤出、压铸或锻压成型、冶炼、冲压等方法得到所需产品的各种模子和工具。简而言之，模具是用来成型物品的工具，这种工具由各种零件构成，不同的模具由不同的零件构成。它主要通过所成型材料物理状态的改变来实现物品外形的加工。素有“工业之母”的称号。光学元件等的微纳结构的成型更是离不开模具。一般的，先将流质或塑性变形材料涂覆在基材上，再以微纳压印模具压印出结构，然后利用热固化或者UV光固化定型。然，在压印过程中，微纳压印模具受力容易使其上的微纳结构遭到变形或破坏，从而影响微纳压印模具的使用寿命。鉴于此，本专利技术通过改善微纳压印模具以解决所存在的技术问题。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种微纳压印模具以解决上述的技术问题。本专利技术的一个技术方案是：一种微纳压印模具，其包括基体，所述基体的一侧为压印面，所述基体于所述压印面侧设置有压印纹理和受力平台，所述受力平台的高度不低于所述压印纹理的最高点。在其中一实施例中，所述压印面分布有纹理区，所述压印纹理设置于所述纹理区，所述受力平台设置于所述纹理区外。在其中一实施例中，所述纹理区下沉于所述压印面内且所述压印纹理的最高点不超过压印面，所述压印面邻近所述纹理区的部分为所述受力平台。在其中一实施例中，相邻所述纹理区之间设置有所述受力平台。在其中一实施例中，所述受力平台还分布于所述纹理区外，纹理区内的受力平台和纹理区外的受力平台的高度相等或不等。在其中一实施例中，至少部分相邻所述压印纹理之间设置有间隙，所述间隙处设置有所述受力平台。在其中一实施例中，所述压印纹理为凹下结构。在其中一实施例中，所述压印面于设置有所述压印纹理的区域的外围设置有所述受力平台。在其中一实施例中，所述基体相对于压印面的另一侧为底面，所述受力平台包括受力面，所述受力面相对于底面的高度大于所述压印纹理相对于所述底面的高度。在其中一实施例中，同一所述纹理区内的所述压印纹理的长、宽、高、形状、凹凸、排布密度中的至少一个参数有变化。在其中一实施例中，所述纹理区的所述压印纹理为凸起结构和/或凹下结构；在所述纹理区内，所述压印纹理间隔或无间隔设置。在其中一实施例中，所述基体相对于压印面的一侧设置具有遮光或绝热功能的遮掩结构。在其中一实施例中，所述遮掩结构对应于所述受力平台设置，和/或，所述遮掩结构与部分所述压印纹理在平行于所述压印面的投影面上部分重叠或完全重叠。在其中一实施例中，还包括承载层，所述底面设置于所述承载层上，所述遮掩结构位于所述基体和承载层之间。在其中一实施例中，所述底面和所述承载层之间设置有保护所述遮掩结构的保护层，所述保护层覆盖所述遮掩结构且位于所述遮掩结构远离所述承载层的一侧。在其中一实施例中，所述受力平台具有不同的高度。本专利技术的有益效果：微纳压印模具在压印时，因受力平台的高度不低于压印纹理的最高点，故压印时的主要受力集中在受力平台，可保护压印纹理免遭变形或损坏，进而提高微纳压印模具的使用寿命。附图说明图1为本专利技术微纳压印模具的结构示意图；图2为本专利技术微纳压印模具另一种的结构示意图；图3为本专利技术微纳压印模具又一种结构示意图；图4为本专利技术微纳压印模具又一种结构示意图；图5为本专利技术微纳压印模具又一种结构示意图；图6为本专利技术微纳压印模具又一种结构示意图；图7为本专利技术微纳压印模具又一种结构示意图；图8为本专利技术微纳压印模具又一种结构示意图；图9为本专利技术微纳压印模具又一种结构示意图；图10为本专利技术微纳压印模具又一种结构示意图；图11为图10中A-A’截面结构示意图。具体实施方式为了便于理解本专利技术，下面将参照相关附图对本专利技术进行更全面的描述。附图中给出了本专利技术的较佳实施方式。但是，本专利技术可以通过许多不同的形式来实现，并不限于下面所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本专利技术的公开内容理解的更加透彻全面。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本专利技术。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。本专利技术揭示一种微纳压印模具，其包括基体。基体的一侧为压印面。基体于压印面侧设置有压印纹理和受力平台。受力平台的高度不低于压印纹理的最高点。微纳压印模具在压印时，因受力平台的高度不低于压印纹理的最高点，故压印时的主要受力集中在受力平台，可保护压印纹理免遭变形或损坏，进而提高微纳压印模具的使用寿命。优选的，压印面分布有若干纹理区，压印纹理设置于纹理区，受力平台设置于纹理区外，对压印纹理具有较好的保护作用。比如，纹理区下沉于压印面内且压印纹理的最高点不超过压印面，压印面邻近纹理区的部分为受力平台。具体的，相邻纹理区之间设置有受力平台。特别的，压印面除纹理区外都是受力平台，保证受力的平衡性，保证对压印纹理的保护。优选的，同一纹理区内的压印纹理的长、宽、高、形状、凹凸、排布密度等参数中的至少一个参数有变化。可压印成型多变的纹理结构，应用于装饰膜时提高装饰效果，应用于防伪膜时加强防伪效果。优选的，压印面分布有复数纹理区，压印纹理设置于纹理区，受力平台分布于压印纹理间。对于纹理区面积较大，或压印纹理间隙大的时候，受力平台分布于压印纹理间能更好的保护压印纹理。当然，受力平台还分布于纹理区外，纹理区内外均设置有受力平台，可更好的平衡压印力，保证压印质量，延长微纳压印模具使用寿命。纹理区内的受力平台和纹理区外的受力平台的高度相等或不等。比如纹理区下沉于压印面，分布于压印纹理间的受力平台亦下沉于压印面，则位于压印面的受力平台高于位于压印纹理间的受力平台，能更好的保护压印纹理。优选的，纹理区的压印纹理为凸起结构和/或凹下结构，在纹理区内，压印纹理间隔或无间隔设置。压印纹理可以为微透镜、柱面镜、菲涅尔透镜、CD纹、蛾眼结构或拉丝纹等。压印纹理的剖面为三角形、弓形、矩形、梯形、凹形、不规则形等等。优选的，至少部分相邻压印纹理之间设置有间隙，间隙处设置有受力平台。一般，压印纹理为凹下结构。比如，压印纹理为凹下的柱面镜，相邻柱面镜间隔设置，间隙处与压印面平齐且为受力平台。进一步，压印面除凹下设置的压印纹理外，其他包括压印纹理的间隙及周边边缘等位于同一平面内均为受力平台。或者，间隙处凸出于压印面而成为受力平台。优选的，压印面于设置有压印纹理的区域的外围设置有受力平台。优选的，基体相对于压印面的一侧为底面，受力平台包括受力面，受力面相对于底面的高度大于压印纹理相对于底面的高度，从而保证压印时，受力平台承受绝大部分的压印力，保证压印质量，延伸模具使用寿命。优选的，受力平台上凹设有具有排气作用的凹槽。特别是在整面压印时，有可能会聚集未及时排除的空气，则受力平台上凹槽的设置可帮助接收里面的空气或多余的胶，从而保证了压印质量。优选的，基体相对于压印面的一侧为底面，底面设置具有遮光或绝热功能的遮掩结构。遮掩结构对应于受力平台设置，和/或，遮掩结构与部分压印纹理在平行于压印面的投影面上部分重叠或完全重叠。遮掩结构的材料可以是遮光油墨，或者绝热或者隔热的油墨，只要能起到遮光或本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种微纳压印模具，其特征在于，其包括基体，所述基体的一侧为压印面，所述基体于所述压印面侧设置有压印纹理和受力平台，所述受力平台的高度不低于所述压印纹理的最高点。

【技术特征摘要】
1.一种微纳压印模具，其特征在于，其包括基体，所述基体的一侧为压印面，所述基体于所述压印面侧设置有压印纹理和受力平台，所述受力平台的高度不低于所述压印纹理的最高点。2.根据权利要求1所述的微纳压印模具，其特征在于，所述压印面分布有纹理区，所述压印纹理设置于所述纹理区，所述受力平台设置于所述纹理区外。3.根据权利要求2所述的微纳压印模具，其特征在于，所述纹理区下沉于所述压印面内且所述压印纹理的最高点不超过所述压印面，所述压印面邻近所述纹理区的部分为所述受力平台。4.根据权利要求1所述的微纳压印模具，其特征在于，所述压印面分布有复数纹理区，所述压印纹理设置于所述纹理区，所述受力平台分布于所述压印纹理间。5.根据权利要求4所述的微纳压印模具，其特征在于，所述受力平台还分布于所述纹理区外，纹理区内的受力平台和纹理区外的受力平台的高度相等或不等。6.根据权利要求1所述的微纳压印模具，其特征在于，至少部分相邻所述压印纹理之间设置有间隙，所述间隙处设置有所述受力平台。7.根据权利要求6所述的微纳压印模具，其特征在于，所述压印纹理为凹下结构。8.根据权利要求1所述的微纳压印模具，其特征在于，所述压印面于设置有所述压印纹理的区域的外围设置有所述受力平台。9.根据权利要求1所述的微纳压印模具，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁泉，杨广舟，赵云华，肖顺贵，
申请(专利权)人：昇印光电昆山股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32