一种基板图案阵列的完整性检测方法技术

本发明专利技术公开了一种基板图案阵列的完整性检测方法，包括以下步骤：灰度图获取步骤，用以获取基板图案阵列的灰度图；数值化处理步骤，用以对所述灰度图进行采样数值化处理，得到灰度值信号；傅里叶转换步骤，用以将灰度值信号转换为频率域的信号的分布；对比分析步骤，用以对频率域的信号的分布进行分析，得到所述基板图案阵列的完整性信息。本发明专利技术能够快速精准地检测基板图案阵列中图案的一致性和完整性，并对缺陷的类型进行判别，为待测样品的缺陷修复提供检测依据。

An Integrity Detection Method for Substrate Patterns Array

The invention discloses a method for detecting the integrity of a substrate pattern array, which comprises the following steps: gray image acquisition step to obtain the gray image of the substrate pattern array; numerical processing step to sample and digitalize the gray image to obtain gray value signal; Fourier transform step to convert gray value signal into the distribution of signal in frequency domain; The comparative analysis step is used to analyze the signal distribution in frequency domain and obtain the integrity information of the pattern array of the substrate. The invention can quickly and accurately detect the consistency and integrity of the pattern in the pattern array of the substrate, and distinguish the type of the defect, so as to provide the detection basis for the defect repair of the sample to be tested.

【技术实现步骤摘要】
一种基板图案阵列的完整性检测方法
本专利技术涉及柔性显示装置检测等领域，具体为一种基板图案阵列的完整性检测方法。
技术介绍
在柔性显示装置，尤其是有源矩阵有机发光二极体或主动矩阵有机发光二极体(AMOLED)的显示基板中，通常由曝光和/或蚀刻得到的微小的周期性图案，它们的各自完整性和分布的一致性是保证每个显示像素或者每个辅助显示单元正常工作的前提。对这些周期性图案(例如点、线、平面/立体图形等的矩阵)检测，通常由自动光学检测机(AutomaticOpticInspection，AOI)完成。自动光学检测机通过对比相邻数个区块(例如像素)之间的一致性来判断当前区块(例如像素)是否存在图形的异常。此类测试方法，在提高检测精细度的要求下，不得不设计相当复杂的光学系统和电气系统，因此，其设备成本和人工成本较高，同时还要花费较多的检测时间，增加了制程的时间成本。
技术实现思路
本专利技术提供一种基板图案阵列的完整性检测方法，以解决现有技术中，利用自动光学检测机检测时，设备成本和人工成本较高，检测时间长等问题。为解决上述技术问题本专利技术提供一种基板图案阵列的完整性检测方法，包括以下步骤：灰度图获取步骤，用以获取基板图案阵列的灰度图；数值化处理步骤，用以对所述灰度图进行数值化处理，得到灰度值信号；傅里叶转换步骤，用以将灰度值信号转换为频率域的信号的分布；对比分析步骤，用以对频率域的信号的分布进行分析，得到所述基板图案阵列的完整性信息。在本专利技术一实施例中，所述数值化处理步骤中，包括像素点灰度值计算步骤，用以计算所述灰度图中每一像素点的灰度值；“灰度值-位置坐标”曲线图建立步骤，以像素点的获取时的次序或方向为横坐标，该横坐标为位置坐标方向，以与所述位置坐标对应的像素点的灰度值分布为纵坐标，建立“灰度值-位置坐标”的曲线图。在本专利技术一实施例中，所述傅里叶转换步骤中，包括将“灰度值-位置坐标”曲线图中的某一位置的波形信号分解成有限个已知正弦或者余弦信号的和值，并对有限个已知正弦或者余弦信号的和值形成的信号作带通滤波，转换成频率域的“强度-频率”信号的图形。在本专利技术一实施例中，在所述频率域的“强度-频率”信号图形中，特征频率表示有限个已知主频率信号的合集，其中，主频率位置与基板图案阵列的分布的密度强相关。在本专利技术一实施例中，在对比分析步骤中，包括根据特征频率的相对位置或绝对位置，判断基板图案阵列的周期分布及尺寸规格是否满足设计要求。在本专利技术一实施例中，所述基板图案阵列包括像素定义层的像素图案、间隙控制层的PS柱图案以及金属层的金属走线图案。在本专利技术一实施例中，所述基板图案阵列的完整性信息，包括图案完整和一致，和/或图案缺失，和/或图案偏移，和/或图案形变；当基板图案阵列中图案完整和一致时，则特征频率对应的位置处无杂讯峰；当基板图案阵列中图案缺失时，则特征频率对应的位置处出现杂讯峰，且在低频位置出现杂讯峰，当图案连续缺失数目增多，则特征频率对应的位置处出现的杂讯峰向左移动；当基板图案阵列中图案形变膨胀时，则特征频率对应的右移位置处出现杂讯峰；当基板图案阵列中图案偏移时，则在高频域上出现杂讯峰。在本专利技术一实施例中，所述基板图案阵列中，图案的尺寸范围为图案的密范围为10ppi-106ppi。在本专利技术一实施例中，所述灰度图获取步骤中，采用CCD相机对基板图案阵列进行扫描，扫描速度为1m/s。在本专利技术一实施例中，所述特征频率有效范围为本专利技术的优点是：本专利技术的基板图案阵列的完整性检测方法，通对图像的灰度扫描和引入离散信号快速傅里叶转换(DFT)的方法，将周期性的阵列图案，转化成易于辨识和处理的频域信号。通过这种方法，能够快速精准地检测基板图案阵列中图案的一致性和完整性，并对缺陷的类型进行判别，为待测样品的缺陷修复提供检测依据；使得基板的检测和判别不再依赖于逐点的移动式光学缺陷检查，有效的提高了制程上检测站点的效率，同时降低了复杂检测设备的投入成本。附图说明下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步解释。图1是本专利技术实施例的像素定义层及间隙控制层的图案分布示意图。图2是本专利技术实施例的灰度图及由灰度值形成的“方波”信号图。图3是按照图1扫描线方向扫描得到的“灰度值-位置坐标”曲线图。图4是本专利技术实施例的傅里叶转换信号转换图。图5是图3中“方波”信号经傅里叶转换后得到的“强度-频率”信号分布图。图6是本专利技术实施例的金属层中金属走线分布图。图7是按照图6扫描线方向扫描得到的“灰度值-位置坐标”曲线图。图8是图7中“方波”信号经傅里叶转换后得到的“强度-频率”信号分布图。具体实施方式以下实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。本专利技术所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「顶」、「底」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术，而非用以限制本专利技术。一种基板图案阵列的完整性检测方法，用以检测面板阵列背板的有机发光二极管(OLED)像素定义层(PDL)和间隙控制层(PS)的检测。如图1所示，像素定义层(PDL)中图案阵列包括红色像素定义图案100、蓝色像素定义图案101、绿色像素定义图案102三种周期性图案；通常来说，绿色有机发光二极管由于单位面积亮度较高，所以一般设计时，绿色像素定义图案102相较于红色像素定义图案100、蓝色像素定义图案101两色较小；另外蓝色有机发光二极管由于单位面积亮度较低或者衰减较快，所以一般设计上时，蓝色像素定义图案101相较于红色像素定义图案100、绿色像素定义图案102两色密度较大或者单个面积较大。间隙控制层(PS)中有PS柱图案103，一般PS柱图案103并非每个子像素周围都有，而是通常间隔一定的区域才会有分布，故在图1用标记104标示了该位置实际不存在的PS柱。几种图案的大小不尽相同，在平面方向上的密度和总的数目也不尽相同，图像的上述特征主要由产品规格确定，本实施例中，图案的尺寸范围为图案的密范围为10ppi-106ppi。本实施例的基板图案阵列的完整性检测方法包括以下步骤：灰度图获取步骤，用以获取基板图案阵列的灰度图；在该步骤中，对像素定义层(PDL)和间隙控制层(PS)采用光学扫描或者CCD相机拍照得到的灰度图。图1中，扫描线A-A’、B-B’、C-C’、D-D’表示灰度扫描图像的取值位置及方向。本实施例设定的扫描速度为1m/s。数值化处理步骤，用以对所述灰度图进行采样数值化处理，得到灰度值信号。在该数值化处理步骤中，包括像素点灰度值计算步骤，用以计算所述灰度图中每一像素点的灰度值，如图2所示，图2中，以像素定义层(PDL)中的某一个红色有机发光二极管像素定义区为例，展示了对该红色像素定义图案100扫描后得到对应的灰度图，该灰度图像的大小、边界、灰度明暗的对比以及分割后像素中每一个点位的灰度值都是可以严格确定的。图2中的虚线亦标示的是灰度图像中取值的位置及方向，即A-A’方向。“灰度值-位置坐标”曲线图建立步骤，以像素点的获取时的次序或方向为横坐标，该横坐标为位置坐标方向，以与所述位置坐标对应的像素点的灰度值分布为纵坐标，建立“灰度值-位置坐标”的曲线图。图2中，近似“方波”信号200为沿着虚线位置和方向取值得到的”灰度值-位置坐标本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板图案阵列的完整性检测方法，其特征在于，包括以下步骤：灰度图获取步骤，用以获取基板图案阵列的灰度图；数值化处理步骤，用以对所述灰度图进行数值化处理，得到灰度值信号；傅里叶转换步骤，用以将灰度值信号转换为频率域的信号的分布；对比分析步骤，用以对频率域的信号的分布进行分析，得到所述基板图案阵列的完整性信息。

【技术特征摘要】
1.一种基板图案阵列的完整性检测方法，其特征在于，包括以下步骤：灰度图获取步骤，用以获取基板图案阵列的灰度图；数值化处理步骤，用以对所述灰度图进行数值化处理，得到灰度值信号；傅里叶转换步骤，用以将灰度值信号转换为频率域的信号的分布；对比分析步骤，用以对频率域的信号的分布进行分析，得到所述基板图案阵列的完整性信息。2.根据权利要求1所述的基板图案阵列的完整性检测方法，其特征在于，所述数值化处理步骤中，包括像素点灰度值计算步骤，用以计算所述灰度图中每一像素点的灰度值；“灰度值-位置坐标”曲线图建立步骤，以像素点的获取时的次序或方向为横坐标，该横坐标为位置坐标方向，以与所述位置坐标对应的像素点的灰度值分布为纵坐标，建立“灰度值-位置坐标”的曲线图。3.根据权利要求2所述的基板图案阵列的完整性检测方法，其特征在于，所述傅里叶转换步骤中，包括将“灰度值-位置坐标”曲线图中的某一位置的波形信号分解成有限个已知正弦或者余弦信号的和值，并对有限个已知正弦或者余弦信号的和值形成的信号作带通滤波，转换成频率域的“强度-频率”信号的图形。4.根据权利要求3所述的基板图案阵列的完整性检测方法，其特征在于，在所述频率域的“强度-频率”信号图形中，特征频率表示有限个已知主频率信号的合集，其中，主频率位置与基板图案阵列的分布的密度强相关。5.根据权利要求4所述的基板图案阵列的完整性...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘哲，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42