一种背接触异质结N型单晶硅太阳电池制造技术

技术编号:20396527 阅读:64 留言:0更新日期:2019-02-20 05:53
本实用新型专利技术公开了一种背接触异质结N型单晶硅太阳电池,包括一N型单晶硅基体,N型单晶硅基体具有相对的一正面和一背面;依次设于N型单晶硅基体正面的本征非晶硅前钝化层、正面N型非晶硅层和减反层;依次沉积于N型单晶硅基体背面的掺杂N

【技术实现步骤摘要】
一种背接触异质结N型单晶硅太阳电池
本技术涉及太阳能电池
,具体地,涉及一种背接触异质结N型单晶硅太阳电池。
技术介绍
晶体硅太阳电池具有转换效率高、工作稳定性好、工作寿命长和制造技术成熟等特点,是目前太阳能光伏市场的主力军。相对掺硼的P型单晶硅材料,掺磷的N型单晶硅材料中硼含量极低,由硼氧对导致的光致衰减可以忽略,N型硅材料中的一些金属杂质对少子空穴的捕获能力低于P型材料中的杂质对少子电子的捕获能力,在相同掺杂浓度下N型硅比P型硅具有更高的少数载流子寿命。这些特性使得N型硅电池具有潜在的长寿命和高效率的优势,N型硅电池太阳电池已成为未来高效率晶体硅太阳电池的发展方向,而如何提高N型硅电池太阳电池的光电转换效率,一直是研究N型硅电池太阳电池的重点,影响N型硅电池太阳电池光电转换效率的因素有很多,且很多因素之间相互制约,因此如何综合衡量各个因素,以提高N型硅电池太阳电池的综合光电转换效率是我们当下需解决的。
技术实现思路
为解决上述现有技术存在的问题,本技术提供了一种背接触异质结N型单晶硅太阳电池,以提高N型单晶硅太阳电池的综合光电转换效率。为了达到上述技术目的,本技术采用了如下的技术方本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种背接触异质结N型单晶硅太阳电池,其特征在于,包括:一N型单晶硅基体(1),所述N型单晶硅基体(1)具有相对的一正面和一背面;依次设于所述N型单晶硅基体(1)正面的本征非晶硅前钝化层(2)、正面N型非晶硅层(3)和减反层(4);依次沉积于所述N型单晶硅基体(1)背面的掺杂N+层(5)和本征非晶硅背钝化层(6);间隔设于所述本征非晶硅背钝化层(6)上的背面N型非晶硅层(7)和P型非晶硅层(8);设于所述背面N型非晶硅层(7)和所述P型非晶硅层(8)上的接触层(9);设于所述背面N型非晶硅层(7)和所述P型非晶硅层(8)之间的绝缘隔离层(10)。

【技术特征摘要】
1.一种背接触异质结N型单晶硅太阳电池,其特征在于,包括:一N型单晶硅基体(1),所述N型单晶硅基体(1)具有相对的一正面和一背面;依次设于所述N型单晶硅基体(1)正面的本征非晶硅前钝化层(2)、正面N型非晶硅层(3)和减反层(4);依次沉积于所述N型单晶硅基体(1)背面的掺杂N+层(5)和本征非晶硅背钝化层(6);间隔设于所述本征非晶硅背钝化层(6)上的背面N型非晶硅层(7)和P型非晶硅层(8);设于所述背面N型非晶硅层(7)和所述P型非晶硅层(8)上的接触层(9);设于所述背面N型非晶硅层(7)和所述P型非晶硅层(8)之间的绝缘隔离层(10)。2.根据权利要求1所述的N型单晶硅太阳电池,其特征在于,所述掺杂N+层(5)设有多个,多个所述掺杂N+层(5)依次间隔排布。3.根据权利要求2所述的N型单晶硅太阳电池,其特征在于,每一所述掺杂N+层(5)与一所述背面N型非晶硅层(7)相对。4.根据权利要求1~3任意一项所述的N型单晶硅太阳电池,其特征在于,所述掺杂N+层(5)为轻掺杂N+层,所述掺杂N...

【专利技术属性】
技术研发人员:卢刚王海何凤琴郑璐钱俊杨振英王旭辉
申请(专利权)人:黄河水电光伏产业技术有限公司青海黄河上游水电开发有限责任公司光伏产业技术分公司国家电投集团黄河上游水电开发有限责任公司青海黄河上游水电开发有限责任公司
类型:新型
国别省市:青海,63

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