一种低红外透过率红外截止滤光片制造技术

本实用新型专利技术公开的属于红外截止滤光片技术领域，具体为一种低红外透过率红外截止滤光片，包括基材，所述基材的上表面通过电子束蒸镀镀有氟化镁薄膜层，所述氟化镁薄膜层的上表面通过电子束蒸镀交替镀有高折射材料镀层和低折射材料镀层，该低红外透过率红外截止滤光片的制备方法的具体制备步骤如下：S1：基材表面镀氟化镁薄膜层，S2：高、低折射率材料交替镀膜，本方案重新设计红外截止滤光片的镀膜膜系，优化镀膜工艺，降低红外截止滤光片在930‑950nm波段的透过率，达到与生物识别功能产品搭配使用。

【技术实现步骤摘要】
一种低红外透过率红外截止滤光片
本技术涉及红外截止滤光片
，具体为一种低红外透过率红外截止滤光片。
技术介绍
红外光区的透过率是衡量手机摄像头模组用红外截止滤光片光学质量的一项重要指标，尤其是与生物识别功能的配合使用的红外截止滤光片对红外光区的透过率提出更高的要求。在生物识别滤光片普遍采用的930-950nm波段，目前行业内红外截止滤光片在可见光波段的透过率要求一般在Tavg≤0.5％；Tmax≤1％，而行业内产品的实际透过率一般在Tavg≤0.03％，Tmax≤0.05％。由于生物识别用红外光波段的使用，这种透过率已经不能满足摄像头成像的要求。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种低红外透过率红外截止滤光片，以解决上述
技术介绍
中提出的目前行业内红外截止滤光片在可见光波段的透过率要求一般在Tavg≤0.5％；Tmax≤1％，而行业内产品的实际透过率一般在Tavg≤0.03％，Tmax≤0.05％。由于生物识别用红外光波段的使用，这种透过率已经不能满足摄像头成像的要求的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种低红外透过率红外截止滤光片，包括基材，所述基材的上表面通过电子束蒸镀镀有氟化镁薄膜层，所述氟化镁薄膜层的上表面通过电子束蒸镀交替镀有高折射材料镀层和低折射材料镀层。优选的，所述基材为蓝玻璃基材。优选的，所述高折射材料镀层和低折射材料镀层分别为二氧化硅镀层和五氧化三钛镀层。优选的，所述高折射材料镀层的镀层厚度为20nm-200nm。优选的，所述低折射材料镀层的厚度为80nm-250nm。与现有技术相比，本技术的有益效果是：本方案重新设计红外截止滤光片的镀膜膜系，优化镀膜工艺，降低红外截止滤光片在930-950nm波段的透过率，达到与生物识别功能产品搭配使用。附图说明图1为本技术结构示意图；图2为本技术的制备流程图；图3为本技术实施例的实验图。图中：1基材、2氟化镁薄膜层、3高折射材料镀层、4低折射材料镀层。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1，本技术提供一种技术方案：一种低红外透过率红外外截止滤光片，包括基材1，基材1的上表面通过电子束蒸镀镀有氟化镁薄膜层2，氟化镁薄膜层2的上表面通过电子束蒸镀交替镀有高折射材料镀层3和低折射材料镀层4。其中，基材1为蓝玻璃基材，高折射材料镀层3和低折射材料镀层4分别为二氧化硅镀层和五氧化三钛镀层，高折射材料镀层3的镀层厚度为20nm-200nm，低折射材料镀层4的厚度为80nm-250nm。该低红外透过率红外截止滤光片的制备方法的具体制备步骤如下(如图2所示)：S1：基材1表面镀氟化镁薄膜层2：在基材1表面通过电子束蒸镀的方式氟化镁薄膜层2，将镀膜后的基材1静置待氟化镁薄膜层2成型；S2：高、低折射率材料交替镀膜：将高折射率材料和低折射率材料先后通过电子束蒸镀的方式镀在步骤S1中镀氟化镁薄膜层2后的基材1上，高折射率材料和低折射率材料在真空状态下进行电子束蒸镀，并对镀膜后表面处理。如图3所示，三角形端点的为在920-960nm波段内0°角度的透射光谱曲线的透过率；圆形端点的为在920-960nm波段内30°角度的透射光谱曲线的透过率。0°实际透过率在Tavg＝0.00013％，Tmax＝0.0002％；而30°实际透过率在Tavg＝0.0002％，Tmax＝0.00039％。尽管已经示出和描述了本技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种低红外透过率红外截止滤光片，包括基材(1)，其特征在于：所述基材(1)的上表面通过电子束蒸镀镀有氟化镁薄膜层(2)，所述氟化镁薄膜层(2)的上表面通过电子束蒸镀交替镀有高折射材料镀层(3)和低折射材料镀层(4)。

【技术特征摘要】
1.一种低红外透过率红外截止滤光片，包括基材(1)，其特征在于：所述基材(1)的上表面通过电子束蒸镀镀有氟化镁薄膜层(2)，所述氟化镁薄膜层(2)的上表面通过电子束蒸镀交替镀有高折射材料镀层(3)和低折射材料镀层(4)。2.根据权利要求1所述的一种低红外透过率红外截止滤光片，其特征在于：所述基材(1)为蓝玻璃基材。3.根据权利要求1所述的一种低红外透过率...

【专利技术属性】
技术研发人员：奂微微，冯海亮，
申请(专利权)人：湖北五方光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：湖北,42