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一种包括擦拭部件的封装和涂刷器装置制造方法及图纸

技术编号:203534 阅读:126 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种用于封装和施用物质的装置,所述装置包括:一个容器(2),用于容纳物质;一个涂刷器部件(4);和一个擦拭部件(7),其固定到容器(2)上以当涂刷器部件(4)离开容器(2)时擦拭涂刷器部件(4),所述擦拭部件(7)包括至少一个具有径向内部自由边的波状的擦拭凸缘(17),该自由边限定了涂刷器部件(4)通过的孔口,擦拭凸缘(17)的波状起伏可以使得其在涂刷器部件(4)的推力下展开。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】一种包括擦拭部件的封装和涂刷器装置本专利技术涉及一种用于封装和施用一种物质,尤其是诸如彩妆或护理产品的 化妆品的装置,所述装置包括一个涂刷器和一个用于擦拭涂刷器部件的擦拭部 件。众多已知的装置具有相对刚性的擦拭部件,其最终易于损害涂刷器部件, 尤其是当涂刷器部件具有刷毛或植绒时。欧洲专利申请EP-A1-1 050 231和国际申请WO93/01736描述了具有瓣 (flap)的擦拭部件,所述的瓣可以被折叠以便于涂刷器部件插入到含有所述 物质的容器中。美国专利No. 6 026 824, 5 888 005和4 470 725公开了擦拭部件,其包括 围绕在擦拭部件孔口处的起伏的部分。专利申请EP-A1-0 627 182, EP-A1-1 481 607和US 2003/0196672公开了 具有槽(slot)的擦拭部件,当从含有物质的容器中将涂刷器部件插入和/或取 出吋,该槽促进擦拭部件变形。这些装置导致擦拭并不完全满意。专利申请FR2 753 058公开了一种擦拭部件,包括设定成通过表面张力效 应容纳物质贮藏的套管。该套管的截面在其沿着纵轴延伸的整个长度上是不变 的。美国专利No. 4 433 928教授了使用一种可调节的擦拭部件,尤其是一种 可以调节到含有用于施用的物质的容器颈部的高度的部件。最后,欧洲专利申请EP-A1-0 728 426公开了一种在涂刷器部件通过其时 能够弹性变形的擦拭部件。需要进一步改进用于封装和施用物质的装置,和尤其是受益于一种擦拭部 件,例如由于它们包括刷毛或植绒,所以能够以令人满意的方式擦拭多种涂刷 器部件,尤其是与茎杆的横截面相比表现为横截面相对较大和/或相对易碎的 涂刷器部件。还需要在可以表现为多种横截面的涂刷器部件中更均一地填充物质。 还需要一种擦拭部件,其可以容易地被固定到相应的容器上。 还需要在从容器中取出涂刷器部件时避免活塞效应。在本专利技术的一个方面中,本专利技术提供了一种用于封装和施用一种物质,尤 其是化妆品、彩妆或护理产品的装置,所述装置包括 一个容器,用于容纳物质; 一个涂刷器部件;和一个擦拭部件,其固定到容器上以当涂刷器部件离开容器时擦拭涂刷器部件,所述擦拭部件包括至少一个具有径向内部自由边的擦拭凸缘(lip),该自由边限定了涂刷器元件通过的孔口,例如由于波状起伏的存在,自由边的周长 确实地大于从上面所观察到的孔口的投影周长。例如,自由边的周长可以大于 要被擦拭的茎杆的周长。在本专利技术的一个方面中,本专利技术还提供了一种用于封装和施用一种物质,尤其是化妆品、彩妆或护理产品的装置,所述装置包括 一个容器,用于容纳物质; 一个涂刷器部件;和一个擦拭部件,其固定到容器上以当涂刷器部件离开容器时擦拭涂刷器部 件,所述擦拭部件包括至少一个具有径向内部自由边的波状起伏的擦拭凸缘, 该自由边限定了涂刷器元件通过的孔口 。擦拭凸缘的波状起伏可以使得其在涂刷器部件的推力下展开。擦拭凸缘可以波状起伏距其自由边至少非零的距离。所述装置可以包括一个含有茎杆的涂刷器,涂刷器部件被固定在茎杆的一A山顺。当涂刷器部件被插入容器和/或从其中被取出时,波状起伏的存在可以使 得擦拭凸缘在涂刷器部件经过它时更容易地变形,但是不会因此丧失其以满意 的方式擦拭涂刷器部件的能力,并且其也可以用于减少活塞效应。本专利技术还使得易于提供一种能够配合涂刷器部件的擦拭部件,所述涂刷器 部件在其横截面上呈现相对大量的变化,但同时擦拭部件也能够对支撑所述涂 刷器部件的茎杆进行擦拭。作为实例,当被擦拭茎杆部分的截面是圆形时,涂刷器部件可以表现出最大横截尺寸大于被擦拭茎杆部分的直径。取决于擦拭凸缘相对于涂刷器部件被插入和取出方向的通常取向,擦拭部 件可以更容易地变形,例如当插入时或当擦拭部件被取出时。因此,例如可以以这样的方式配置擦拭凸缘以使得在涂刷器部件被放回到 容器时比在其被取出时擦拭凸缘更容易变形。例如,通过具有通常朝着容器底 部集中的擦拭凸缘,可能在每次使用时获得相对彻底的对涂刷器部件的擦拭, 同时在该涂刷器部件被放回到容器时,减少了损坏的风险。擦拭部件可以比与其相接触的涂刷器部件的至少一部分更为柔韧。静止时,擦拭部件的直径可以接近于茎杆的直径,而当涂刷器部件被插入 通过擦拭部件时,擦拭凸缘的波状起伏可以展开,因此易于由擦拭凸缘所限定 的孔口扩大以便允许涂刷器部件通过,但并不会产生可能造成损坏的过度压 力。术语"波状起伏"应被理解为指由擦拭凸缘绕着其周长形成的--连串的凹 陷和/或突出。它们可以是弯曲型的或者它们可以是绕着其圆周凹陷和凸出的 折叠形式。当从上方观察擦拭凸缘时,擦拭凸缘的每个波状起伏都可以沿着径 向的轴伸出。波状起伏的所有轴可以基本上在由擦拭凸缘所限定的孔口中心处 交叉。波状起伏的轴可以被定向为基本上垂直于装置的纵轴或者它们可以基本 上占据一圆锥体,该圆锥体可以朝着容器底部集中或发散。擦拭凸缘的至少一个波状起伏可以沿着曲线或直线而被定向,其不与装置 的纵轴同心,并且尤其是放射状的。擦拭凸缘不需要具有任何棱(rib)和/或槽,例如平行于装置纵轴伸出的 槽或垂直于装置纵轴伸出的槽,或者实际上相对于装置纵轴倾斜的槽。特别地, 与某些现有技术的擦拭部件不同,所述擦拭部件不需要具有任何当静止时基本 上封闭并且纵向伸出的槽。擦拭部件的波状起伏可以在幅度和数量上变化。例如,擦拭部件可以具有 2 12个波状起伏,或者4 10个波状起伏,或者实际上5 9个波状起伏。它们可以被规则或不规则分布。它们可以全部具有相同的幅度,或者在一个变 化中它们可以幅度不同。两个相邻的波状起伏可以表现出不同的轮廓。有益地,当没有压力时,擦拭凸缘的自由边不全部在一个平面伸出。 擦拭凸缘可以占用一基本上垂直于与装置的纵轴的中平面,或者它通常可以占用一圆锥体,该圆锥体或者是朝着容器底部集中,或者是朝着容器出口集中。擦拭部件的厚度可以是不变的,或者在一个变化中,其厚度可以变化。例 如可以在接近其自由边处较薄而在远离其自由边处较厚。在装置的圆周方向和离装置纵轴特定距离处,擦拭部件可以呈现出一基本 上不变的厚度,例如在完全旋转时的变化小于10%。然而,在朝着纵轴运动时其厚度可以变化。例如,擦拭凸缘的厚度可以介于0.1毫米(mm)到0.8mm的范围内。尤其 是,其在自由边处可以是大约0.2mm和在远离自由边的擦拭凸缘处,例如在 擦拭凸缘的外围大约是0.5mm。可能在以弹性方式拉伸之前,擦拭凸缘可以在涂刷器部件的推力下展开。 在擦拭凸缘展开时,其波状起伏可以倾向于展平,而从其限定的孔口中心观察 到擦拭凸缘。在其展开时,擦拭凸缘可以倾向于更接近屮间表面。擦拭凸缘的孔口可以被配置成具有从适于擦拭茎杆的小直径中通过到达 使得涂刷器部件被擦拭的较大直径的能力,而不需依赖于组成擦拭凸缘的材料 的明显延伸。擦拭凸缘的孔口可以是圆形的,或者在一个变化中其可以是非圆形的,例 如卵圆形、椭圆形、肾型或多边性,例如正方形或矩形。孔口的形状可以作为 茎杆横截面形状的函数以及作为将涂刷器从容器中取出方式的函数被选择,例 如其是否围绕其自身的轴转动。当涂刷器部件通过孔口时,擦拭凸缘可以比涂刷器部件变形更大。 沿着装置的纵轴所测量的擦拭部件总高度可以大于擦拭凸缘的高度并且本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于封装和施用物质的装置,所述装置包括:    一个容器,用于容纳物质;    一个涂刷器部件;和    一个擦拭部件,其固定到容器上以当涂刷器部件离开容器时擦拭涂刷器部件,所述擦拭部件包括至少一个具有径向内部自由边的波形的擦拭凸缘,该自由边限定了涂刷器元件通过的孔口,擦拭凸缘的波状起伏可以使得擦拭凸缘在涂刷器部件的推力下展开。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:让路易古艾特
申请(专利权)人:欧莱雅
类型:发明
国别省市:FR[法国]

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