氧化镁部分稳定氧化锆、氧化镁部分稳定氧化锆陶瓷及其制备方法和应用技术

本发明专利技术涉及一种氧化镁部分稳定氧化锆、氧化镁部分稳定氧化锆陶瓷及其制备方法和应用。该氧化镁部分稳定氧化锆的制备方法包括：按照锆元素与镁元素的摩尔比为4:1～40:1，将锆源、镁源和分散剂于溶剂中混合，得到混合液；调节混合液的pH值至2～3，然后在持续搅拌和60℃～80℃的条件下，向混合液中加入环氧丙烷，直至反应体系的pH值至7～8时停止加入环氧丙烷，再经固液分离，得到前驱体；将前驱体与水混合，并在150℃～220℃下水热反应，经固液分离，得到氧化镁部分稳定氧化锆。该方法能够制备得到具有较高烧结活性的氧化镁部分稳定氧化锆，以获得兼具较高的抗弯强度和较高韧性的氧化镁部分稳定氧化锆陶瓷。

【技术实现步骤摘要】
氧化镁部分稳定氧化锆、氧化镁部分稳定氧化锆陶瓷及其制备方法和应用
本专利技术涉及陶瓷材料领域，特别是涉及一种氧化镁部分稳定氧化锆、氧化镁部分稳定氧化锆陶瓷及其制备方法和应用。
技术介绍
氧化镁部分稳定氧化锆陶瓷具有较高的氧离子导电性、高强度和韧性及良好的抗热震性，是极有前途的高温功能材料和结构陶瓷材料。它具有优良的机械性能，包括高强度、断裂韧性、耐磨性、良好的抗热冲击和导热系数低。由于它的耐磨损和耐腐蚀的特点，使得它在阀门、泵和衬垫上得到了广泛的应用，同时，它也是化学加工和石化工业的首选材料。氧化镁部分稳定氧化锆陶瓷的主要材料为氧化镁部分稳定氧化锆，目前氧化镁部分稳定氧化锆的生产方式一般采用机械混合法或者化学沉淀法，然而机械混合法很难分散均匀，并且不能在分子层面进行分散，化学沉淀法虽然可以得到化学计量物，但其沉淀物容易形成团聚，且以上两种方法均需要高温煅烧处理，容易造成的晶粒长大、缺陷形成和杂质引入，致使氧化镁部分稳定氧化锆的烧结活性较低，从而导致氧化镁部分稳定氧化锆陶瓷的抗弯强度和韧性均较低。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种具有较高烧结活性的氧化镁部分稳定氧化锆的制备方法，该制备本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种氧化镁部分稳定氧化锆的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：按照锆元素与镁元素的摩尔比为4:1～40:1，将锆源、镁源和分散剂于溶剂中混合，得到混合液；调节所述混合液的pH值至2～3，然后在持续搅拌和60℃～80℃的条件下，向所述混合液中加入沉淀剂，直至反应体系的pH值至7～8时停止加入所述沉淀剂，再经固液分离，得到前驱体；及将所述前驱体与水混合，并在150℃～220℃下水热反应，经固液分离，得到氧化镁部分稳定氧化锆。

【技术特征摘要】
1.一种氧化镁部分稳定氧化锆的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：按照锆元素与镁元素的摩尔比为4:1～40:1，将锆源、镁源和分散剂于溶剂中混合，得到混合液；调节所述混合液的pH值至2～3，然后在持续搅拌和60℃～80℃的条件下，向所述混合液中加入沉淀剂，直至反应体系的pH值至7～8时停止加入所述沉淀剂，再经固液分离，得到前驱体；及将所述前驱体与水混合，并在150℃～220℃下水热反应，经固液分离，得到氧化镁部分稳定氧化锆。2.根据权利要求1所述的氧化镁部分稳定氧化锆的制备方法，其特征在于，所述将锆源、镁源和分散剂于溶剂中混合的步骤包括：将所述锆源溶解在所述溶剂中，然后在搅拌的条件下加入所述镁源，得到预混液；然后在所述预混液中加入所述分散剂。3.根据权利要求2所述的氧化镁部分稳定氧化锆的制备方法，其特征在于，所述预混液中的所述锆元素的摩尔浓度为1mol/L～2mol/L；及/或，所述预混液中的所述镁元素的摩尔浓度为0.05mol/L～0.25mol/L；及/或，所述分散剂与所述预混液的质量之比为0.1:100～1.5:100。4.根据权利要求1～3任一项所述的氧化镁部分稳定氧化锆的制备方法，其特征在于，所述沉淀剂为环氧丙烷，所述锆源为氯氧化锆，所述镁源为氯化镁，所述溶剂为水和醇的混合溶液或所述溶剂为醇；或者，所述沉淀剂为环氧丙烷，所述锆源和所述镁源中...

【专利技术属性】
技术研发人员：王绍隆，向其军，谭毅成，
申请(专利权)人：深圳市商德先进陶瓷股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44